一种基片样品架、掩模板及基片更换方法及蒸镀设备.pdf
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相关资料
一种基片样品架、掩模板及基片更换方法及蒸镀设备.pdf
本发明公开了一种基片样品架、掩模板及基片更换方法及蒸镀设备,属于OLED真空蒸镀装备领域。本发明的目的是解决现有装置设备复杂,工作效率低下的问题。本发明的基片样品架包括支撑架和基片架,通过在支撑架上设置一组凸台,使基片架下方可形成一用于掩模板架放入的操作空间,以便于快速更换掩模板。本发明还公开一种掩模板更换方法,首先将实际作业位置的掩模板架与基片架置于暂存位置;然后更换掩模板;最后将基片架与掩模板架重新对位并放置于实际作业位置。本发明还公开一种基片更换方法,首先将掩模板置于基片架上,再将基片从基片架上取出
一种蒸镀方法、蒸镀掩膜模组、显示面板及显示装置.pdf
本发明公开了一种蒸镀方法、蒸镀掩膜模组、显示面板及显示装置,能够降低显示面板的加工工艺的复杂度,提高显示面板的良率。其中的蒸镀方法包括:依次采用至少两个掩膜板具有的开口区域对衬底基板进行蒸镀,各所述掩模板的开口区域在所述衬底基板上形成的各蒸镀子图案构成互补图案,且各所述蒸镀子图案拼接形成的蒸镀图案对应具有孤立镂空图案的显示区域。
一种高温基片退火架.pdf
本发明提供了一种高温基片退火架,包括:承载件和第一缠绕件;承载件包括沿着基片周向延伸的第一部分,以及沿着平行于基片轴向的方向延伸的第二部分;第一缠绕件缠绕在第二部分,以在第二部分的表面形成沿着第二部分长度方向分布的夹持槽;第二部分上沿着长度方向设置有至少三个用于固定第一缠绕件的第一凹槽;第一缠绕件的两端与不同的第一凹槽固定时,第一缠绕件的长度改变,夹持槽的宽度随之改变以适配不同厚度的基片。上述的退火架,可以适应于不同厚度基片的退火处理,特别是在需要成对基片材料面对面退火的情况下能有效地固定和弥合两片基片之
掩膜装置及蒸镀设备.pdf
本发明公开一种掩膜装置及蒸镀设备,其中,掩膜装置包括掩膜版、挡板机构、检测件和第一控制器,掩膜版贯穿设置有第一开口,第一开口内设有多个掩膜条,并形成有多个蒸镀区域,挡板机构设置在掩膜版的下表面,挡板机构包括底座、驱动件和挡板,底座设置有与第一开口连通的第二开口,第二开口的侧壁设置有安装槽,驱动件和挡板均设置在安装槽内,驱动件与挡板连接,检测件和驱动件均与第一控制器连接。本发明的掩膜装置能够通过检测件检测玻璃基板是否破裂和是否脱落,在玻璃基板脱落前,挡板能够自动伸出安装槽外并封堵第二开口,以承接掉落的玻璃基
基片输送方法和基片处理装置.pdf
本发明能在闸门开放时抑制颗粒的飞扬并能抑制残留气体向气体扩散室的侵入。基片处理方法包括:在由开闭装置进行了阻隔的状态下,从第1气体供给部供给处理气体对基片实施处理的工序;一边从第1气体供给部以第1气体流量供给第1吹扫气体一边排气,将处理容器调节为开放压力的工序;一边对真空容器从第2气体供给部以第2气体流量供给第2吹扫气体一边用第2排气系统排气,将开闭装置的真空容器侧和真空容器的任一者或两者调节为开放压力的工序;在第1压力与第2压力或第3压力变得相等时,将第2气体流量改变为比第1气体流量大的第3气体流量并将