一种高温基片退火架.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112687597A(43)申请公布日2021.04.20(21)申请号202011561782.8(22)申请日2020.12.25(71)申请人集美大学地址361000福建省厦门市集美区银江路185号(72)发明人林秋宝郑韬周昌杰张星黄俊杰(74)专利代理机构厦门市首创君合专利事务所有限公司35204代理人杨依展张迪(51)Int.Cl.H01L21/673(2006.01)H01L21/67(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图6页(54)发明名称一种高温基片退火架(57)摘要本发明提供了一种高温基片退火架，包括：承载件和第一缠绕件；承载件包括沿着基片周向延伸的第一部分，以及沿着平行于基片轴向的方向延伸的第二部分；第一缠绕件缠绕在第二部分，以在第二部分的表面形成沿着第二部分长度方向分布的夹持槽；第二部分上沿着长度方向设置有至少三个用于固定第一缠绕件的第一凹槽；第一缠绕件的两端与不同的第一凹槽固定时，第一缠绕件的长度改变，夹持槽的宽度随之改变以适配不同厚度的基片。上述的退火架，可以适应于不同厚度基片的退火处理，特别是在需要成对基片材料面对面退火的情况下能有效地固定和弥合两片基片之间的残留间隙，尽可能地抑制基片上材料的挥发。CN112687597ACN112687597A权利要求书1/1页1.一种高温基片退火架，其特征在于包括：承载件和第一缠绕件；所述承载件包括沿着基片周向延伸的第一部分，以及沿着平行于基片轴向的方向延伸的第二部分；所述第一缠绕件缠绕在第二部分，以在第二部分的表面形成沿着第二部分长度方向分布的夹持槽；所述第二部分上沿着长度方向设置有至少三个用于固定所述第一缠绕件的第一凹槽；所述第一缠绕件的两端与不同的第一凹槽固定时，所述第一缠绕件的长度改变，所述夹持槽的宽度随之改变以适配不同厚度的基片。2.根据权利要求1所述的一种高温基片退火架，其特征在于：所述第一缠绕件沿着长度方向的两端的横截面为扁圆形，以与所述第一凹槽固定。3.根据权利要求1所述的一种高温基片退火架，其特征在于：所述第二部分的两端，在第一凹槽外还设置有第二凹槽，所述第一部分和第二部分通过第二凹槽固定连接。4.根据权利要求3所述的一种高温基片退火架，其特征在于：还包括第二缠绕件，所述第二缠绕件的一端固定在所述第二凹槽内，另一端缠绕在第一部分的侧壁。5.根据权利要求4所述的一种高温基片退火架，其特征在于：所述第一部分为半圆形，且第一部分为两个；所述第二部分为四个，间隔连接在两个第一部分之间。6.根据权利要求5所述的一种高温基片退火架，其特征在于：所述四个第二部分上的第一缠绕件分为两组，不同组的第一缠绕件的缠绕方向不相同。7.根据权利要求1所述的一种高温基片退火架，其特征在于：所述第一缠绕件的直径为0.3‑0.8mm。8.根据权利要求1‑7任一项所述的一种高温基片退火架，其特征在于：所述承载件和第一缠绕件的材料为熔点在1600°以上，莫氏硬度在5以上的块体材料。9.根据权利要求8所述的一种高温基片退火架，其特征在于：所述承载件和第一缠绕件的材料为钨、钼、坦中的一种及其合金，所述承载件和第一缠绕件的材料相同或不相同。2CN112687597A说明书1/4页一种高温基片退火架技术领域[0001]本发明涉及半导体领域，尤其涉及用于承载基片材料的退火架。背景技术[0002]在半导体行业中为了提高和优化产品质量及良率，对基片材料的退火至关重要，因而对承载基片材料的支架有诸多要求和限制。首先，退火架的材料化学性质必须稳定，且不与基片材料发生反应；第二，支架的材料要耐得住基片退火时的温度，且蒸气压要相对低；第三，退火架材料纯度能达到比较高的程度，不能引入新的杂质；第四，在考虑各种与基片材料相关的影响因素后，适当考量退火架材料工艺的成熟程度和实现成本等，进行综合考量。[0003]目前，常用的高温退火支架一般选择耐高温化学稳定的石墨，但石墨属于多层材料，质软较脆，莫氏硬度在1～2之间。当用于退火硬度较大的基片时，(如蓝宝石衬底上的样品材料)基片与石墨支架存在一定力度的摩擦，会在基片上留下些许细微的石墨碎片，甚至明显的石墨黑色痕迹。此外，在基片需要使用面对面退火时，成对的基片与基片之间的间隙需要弥合好，以尽量防止基片上的材料升华，这就需要放置成对基片的支架具有较高精度的载样槽，甚至需要支架提供一小部分外力来弥合成对基片与基片间的间隙。如果使用石墨支架来承载基片，那么基片与石墨之间的应力将不可避免地使基片上留下石墨的黑色痕迹，不利于基片保持整体的洁净度。而且石墨的韧性和延展性较差，当载片槽开好后就不可更改，不能根据基片的厚度进行相应的灵活适配来避免基片在支架中摇晃。发明内容[0004]本发明所要解