薄膜沉积设备.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115948720A(43)申请公布日2023.04.11(21)申请号202310238231.5(22)申请日2023.03.14(71)申请人上海陛通半导体能源科技股份有限公司地址201201上海市浦东新区庆达路315号13幢3F(72)发明人刘祥周东平王晓芳(74)专利代理机构上海光华专利事务所(普通合伙)31219专利代理师卢炳琼(51)Int.Cl.C23C14/50(2006.01)C23C16/458(2006.01)权利要求书1页说明书6页附图1页(54)发明名称薄膜沉积设备(57)摘要本发明提供一种薄膜沉积设备，包括：用于承载基板的基座、夹持模块和旋转模块；夹持模块包括两个以上夹持器及第一驱动单元，夹持器与基板的边缘形貌相匹配，第一驱动单元包括推杆及气缸，推杆与夹持器及气缸相连接，在气缸驱动下，推杆带动夹持器移动，以自基板侧面对基板进行夹紧或释放；旋转模块包括第一齿轮、第二齿轮和第二驱动单元，第一齿轮与推杆相连接，第二齿轮与第一齿轮相啮合，第二驱动单元与第二齿轮相连接，通过第二驱动单元带动第二齿轮旋转，由此带动夹持模块及基板旋转。本发明可以避免基板污染，且各结构的设置非常紧凑，可以在不增加腔体尺寸的情况下满足各结构的布局，旋转作业简单高效，有助于提高设备产出率。CN115948720ACN115948720A权利要求书1/1页1.一种薄膜沉积设备，其特征在于，包括：用于承载基板的基座、夹持模块和旋转模块；所述夹持模块包括两个以上夹持器及第一驱动单元，所述夹持器与基板的边缘形貌相匹配，所述第一驱动单元包括推杆及气缸，推杆与夹持器及气缸相连接，在气缸驱动下，推杆带动夹持器移动，以自基板侧面对基板进行夹紧或释放；所述旋转模块包括第一齿轮、第二齿轮和第二驱动单元，第一齿轮与推杆相连接，第二齿轮与第一齿轮相啮合，第二驱动单元与第二齿轮相连接，通过第二驱动单元带动第二齿轮旋转，由此带动夹持模块及基板旋转。2.根据权利要求1所述的薄膜沉积设备，其特征在于，所述夹持器为2个，各夹持器为半圆环状。3.根据权利要求2所述的薄膜沉积设备，其特征在于，所述夹持器包括侧边、第一底边和第二底边，夹持器夹持基板的过程中，侧边与基板侧面抵接，第一底边和第二底边均一端与侧边连接，另一端延伸至分别与基板的上表面和下表面接触。4.根据权利要求1所述的薄膜沉积设备，其特征在于，所述第一驱动单元与夹持器一一对应设置。5.根据权利要求1所述的薄膜沉积设备，其特征在于，所述第一齿轮和第二齿轮均为直角齿轮，第一齿轮固定于推杆上。6.根据权利要求1所述的薄膜沉积设备，其特征在于，所述薄膜沉积设备还包括多个顶针及第三驱动单元，所述顶针一端与第三驱动单元相连接，另一端穿过所述基座，在第三驱动单元的驱动下，可在基座内升降，由此带动基板升降。7.根据权利要求1所述的薄膜沉积设备，其特征在于，第二驱动单元包括旋转马达。8.根据权利要求1所述的薄膜沉积设备，其特征在于，所述薄膜沉积设备还包括波纹管，波纹管一端与工艺腔体外壁相连接，另一端与夹持模块的气缸相连接，气缸的活塞杆套设于波纹管内。9.根据权利要求1至8任一项所述的薄膜沉积设备，其特征在于，所述薄膜沉积设备包括检测模块，用于检测基板是否旋转到位。10.根据权利要求9所述的薄膜沉积设备，其特征在于，所述检测模块包括两个以上位置传感器，间隔设置于基座上方。2CN115948720A说明书1/6页薄膜沉积设备技术领域[0001]本发明涉及半导体制造技术领域，具体涉及一种半导体设备，特别是涉及一种薄膜沉积设备。背景技术[0002]现有技术中，在进行薄膜沉积工艺时，通常只能对晶圆的单一表面（通常为晶圆正面，即朝向气体流入方向的表面）进行镀膜，但在一些工艺过程中需要对晶圆两面分别进行沉积镀膜作业，而采用现有的沉积设备难以满足该工艺需求。其原因在于，现有的镀膜设备中，晶圆背面与加热器表面完全接触，晶圆正面裸露在工艺腔体内，因而只能对晶圆正面进行镀膜作业。如果需要对晶圆的背面进行镀膜作业而正面无需作业，此时就需要对晶圆正面进行遮挡，并借助设备外部的机械手臂等移动装置对晶圆进行翻转，以使得晶圆背面朝向气体流入的相对面而完成镀膜作业。这种方式不仅容易造成晶圆损伤和污染，且效率低下，导致设备产出率下降。[0003]应该注意，上面对技术背景的介绍只是为了方便对本申请的技术方案进行清楚、完整的说明，并方便本领域技术人员的理解而阐述的。不能仅仅因为这些方案在本申请的背景技术部分进行了阐述而认为上述技术方案为本领域技术人员所公知。发明内容[0004]鉴于以上所述现有技术的缺点，本发明的目的在于提供一种薄膜沉积设备，用于解决现有技术中，在需要进行晶圆背面镀膜时，需借助镀膜设备外部的