制备聚酰亚胺膜的聚合物、聚酰亚胺膜及其制备方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115960353A(43)申请公布日2023.04.14(21)申请号202211735306.2(22)申请日2022.12.31(71)申请人上海邃铸科技有限公司地址201505上海市金山区金山工业区广业路585号1幢2层365室(72)发明人许翔(74)专利代理机构上海海钧知识产权代理事务所(特殊普通合伙)31330专利代理师姜波许兰(51)Int.Cl.C08G73/10(2006.01)C08J5/18(2006.01)C08L79/08(2006.01)权利要求书8页说明书16页(54)发明名称特殊工艺下，发生稳定剥离、脱附着，从而便于后制备聚酰亚胺膜的聚合物、聚酰亚胺膜及其续多方向应用与加工等。制备方法(57)摘要本申请公开了一种制备聚酰亚胺薄膜的聚合物、其制备方法和应用，所述聚合物是一种高分子材料或几种高分子材料的组合物；所述高分子材料具有式(1)和/或(2)所示结构A单元、以及式(3)和/或(4)所示结构B单元：所制成的聚酰亚胺膜，不仅具有优异的耐热性，以及较低的热膨胀系数等性能，还具有一定的附着与脱附着能力；CN115960353A在一定的条件下能稳定吸附着于目标物，又可在CN115960353A权利要求书1/8页1.一种制备聚酰亚胺薄膜的聚合物，其特征在于，所述聚合物是一种高分子材料或几种高分子材料的组合物；所述高分子材料具有式(1)和/或(2)所示结构A单元、以及式(3)和/或(4)所示结构B单元：1212R1、R3、X、X、各自独立的为四价有机基团，R2、R4、Y、Y各自独立的为二价有机基团，并且：R1、R2、R3、R4各自独立的选自苯环所组成的稠环结构，所述稠环结构至少含有2个苯环；X1、X2、Y1、Y2分别独立的选自含6‑60个碳原子、且含有独立苯环和/或联苯结构的基团中一种或更多种。2.根据权利要求1所述的聚合物，其特征在于，所述聚合物为：1)：结构A为重复单元的聚合物以及结构B为重复单元的聚合物的组合物，或者2)：结构A与结构B为重复单元的聚合物；或者3)：结构A与结构B为重复单元的聚合物、以及结构式A为重复单元的聚合物的组合物；或者4)：结构A与结构B为重复单元的聚合物、以及结构式B为重复单元的聚合物的组合物；或者5)：结构A与结构B为重复单元的聚合物、结构式A为重复单元的聚合物、以及结构式B为重复单元的聚合物的组合物。3.根据权利要求1所述的聚合物，其特征在于，所述稠环结构选自：2CN115960353A权利要求书2/8页3CN115960353A权利要求书3/8页4CN115960353A权利要求书4/8页5CN115960353A权利要求书5/8页6CN115960353A权利要求书6/8页中的一种或几种。4.根据权利要求1所述的聚合物，其特征在于，X1、X2、Y1、Y2含有联苯结构，并且结构为其中，A1(即)和A2(即)分别独立的为苯环或稠环结构，L为单键、苯环、联苯、或稠环结构。优选地，X1、X2、Y1、Y2分别独立的选自：7CN115960353A权利要求书7/8页8CN115960353A权利要求书8/8页中的一种或几种，其中，m为≥0的整数，更优选地，m为0‑8的整数。5.根据权利要求1中所述的聚合物，其特征在于，稠环结构在所述聚合物所有单元中，摩尔比为0.5‑30％，更优选为1‑25％，更优选为1.2‑25％，更优选为1.5‑22％，更优选为2‑20％。6.根据权利要求1中所述的聚合物，其特征在于，所述聚合物还含有结构C：结构C为含有咪唑结构的单元；优选地，结构C的单元在所述聚合物所有单元中，摩尔比为0.01‑5％，更优选为0.05‑4％，更优选为0.1‑3.5％，更优选为0.1‑3％，更优选为0.2‑2.5％。7.一种制备权利要求1所述聚合物的方法，其特征在于，包括：步骤1，提供如下单体：中的一种或更多种、或其对应的四酸，H2N‑R2‑NH2、H2N‑R4‑NH2中的一种或更多种，2中的一种或更多种、或其对应的四酸，H2N‑Y1‑NH2、H2N‑Y‑NH2中的一种或更多种，步骤2，上述单体缩聚反应，得到聚合物溶液。8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，在所述聚合物溶液中，再加入含结构C的单体，继续反应。9.一种聚酰亚胺膜，其特征在于，由权利要求1所述聚合物制备。10.一种权利要求9所述聚酰亚胺膜在显示设备、半导体设备中的应用。9CN115960353A说明书1/16页制备聚酰亚胺膜的聚合物、聚酰亚胺膜及其制备方法技术领域[0001]本发明涉及聚酰亚胺薄膜、制备聚酰亚胺薄膜的聚合物，尤其涉及一种高附着力、耐热性聚酰亚胺薄膜、制备所述聚酰亚胺薄膜的聚合物以及方法。背景技术[0002]聚酰亚胺(PI)是一种具