掩膜板结构及其制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110592528A(43)申请公布日2019.12.20(21)申请号201910899534.5(22)申请日2019.09.23(71)申请人武汉华星光电技术有限公司地址430079湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋(72)发明人赵凯祥刘开欣(74)专利代理机构深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙)44300代理人彭绪坤(51)Int.Cl.C23C14/04(2006.01)C23C14/24(2006.01)权利要求书1页说明书5页附图5页(54)发明名称掩膜板结构及其制备方法(57)摘要本发明提供一种掩膜板结构及其制备方法，所述掩膜板结构包括：掩膜板，被分为两个以上尺寸相同的区域，每一区域内设有透光区；每一区域中心点与所述掩膜板中心点的距离越大，该区域的透光区的面积越大。所述掩膜板结构的制备方法包括以下步骤：框架提供步骤、支撑架安装步骤及掩膜板单片安装步骤。本发明的技术效果在于，利用掩膜板结构蒸镀出的膜层厚度一致，改善面板蒸镀膜层厚度的均一性，进而改善产出面板的光学均一性。CN110592528ACN110592528A权利要求书1/1页1.一种掩膜板结构，其特征在于，包括：掩膜板，被分为两个以上尺寸相同的区域，每一区域内设有透光区；每一区域中心点与所述掩膜板中心点的距离越大，该区域的透光区的面积越大。2.如权利要求1所述的掩膜板结构，其特征在于，所述透光区为网格形通孔或圆形通孔。3.如权利要求1所述的掩膜板结构，其特征在于，所述掩膜板还包括：框架，包括至少一边框及所述边框围成的一开口；支撑架，其一端连接至一边框，其另一端连接至另一边框；以及两个以上掩膜板单片，连接至所述支撑架及所述框架，以遮挡所述开口；其中，所述两个以上掩膜板单片并排设置，拼合成所述掩膜板。4.如权利要求2所述的掩膜板结构，其特征在于，两条对位条，分别固定至所述开口两侧的边框；所述对位条上设有至少一对位孔。5.如权利要求2所述的掩膜板结构，其特征在于，所述支撑架包括第一支撑架，平行于所述框架的一边框；以及第二支撑架，平行于所述框架的另一边框，且垂直于所述第一支撑架。6.如权利要求5所述的掩膜板结构，其特征在于，所述第一支撑架的长度大于所述开口的宽度；和/或，所述第二支撑架的长度大于所述开口的长度。7.如权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板单片包括至少一掩膜板通孔。8.如权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板单片的材质包括金属。9.一种掩膜板结构的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：框架提供步骤，提供一框架，包括至少一边框及所述边框围成的一开口；支撑架安装步骤，安装至少一支撑架，每一支撑架的一端连接至一边框，其另一端连接至另一边框；以及掩膜板单片安装步骤，安装两个以上掩膜板单片，连接至所述支撑架及所述框架，以遮挡所述开口；所述两个以上掩膜板单片并排设置，拼合成所述掩膜板。10.如权利要求9所述的掩膜板结构的制备方法，其特征在于，在所述支撑架安装步骤之后，还包括对位条安装步骤，将两条对位条分别固定安装至所述开口两侧的边框；所述对位条上设有至少一对位孔。2CN110592528A说明书1/5页掩膜板结构及其制备方法技术领域[0001]本发明涉及掩膜板领域，特别涉及一种掩膜板结构及其制备方法。背景技术[0002]有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)显示器件由于同时具备自发光、不需要背光源、对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快、可使用于可挠曲性面板和使用温度范围广等优势，被认为是下一代显示的主流技术。[0003]真空蒸镀是OLED制程的主要工艺，现有的采用真空蒸镀工艺来制备有机功能层和阴极，其膜层厚度和均匀性对器件性能的影响至关重要。尤其对于大尺寸的OLED来说，有机膜层采用分段式蒸镀工艺制程，其蒸镀装置包括线源、喷嘴和蒸镀基板。[0004]现有技术中OLED在蒸镀有机发光层时，一般采用精密掩膜板(FineMetalMask，FMM)，确保整个蒸镀过程只在需求位置蒸镀出膜层。[0005]如图1所示，掩膜板100包括掩膜板本体及掩膜板开口，所述掩膜板开口的形状完全一致，在实际工艺中，为提高蒸镀效率及降低工艺成本，一张掩膜板需要蒸镀出多个面板的膜层，这就有可能导致在掩膜板中心处的面板所蒸镀出的膜层相较于外侧的膜层而言要厚一些，就会影响面板的光学均一性。发明内容[0006]本发明的目的在于，解决现有技术中掩膜板蒸镀出的膜层厚度不同，产出的面板光学性能差异大的技术问题。[0007]为实现上述目的，本发明提供一种掩膜板结构，包括：掩膜板，被分为两个以上尺寸相同的区域，每一区域内设有透光区；每一区域中心点与所述掩膜