一种掩膜板及其制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113151779A(43)申请公布日2021.07.23(21)申请号202110268864.1C23C14/24(2006.01)(22)申请日2021.03.12H01L51/56(2006.01)(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号申请人成都京东方光电科技有限公司(72)发明人刘肖楠李军陈颖冰张磊田杰张楠严涛伍青峰张文畅安廷猎马超郭登俊胡斌陶欢李建斌郑安辉(74)专利代理机构北京金信知识产权代理有限公司11225代理人崔家源范继晨(51)Int.Cl.C23C14/04(2006.01)C23C14/12(2006.01)权利要求书1页说明书6页附图9页(54)发明名称一种掩膜板及其制备方法(57)摘要本公开提供了一种掩膜板及其制备方法，该掩膜板包括：支撑架；与支撑架贴合设置的第一膜层；第二膜层，其设置在第一膜层远离支撑架的一侧，第二膜层的外边框不超出支撑架的外边框；其中，第二膜层的厚度小于第一膜层的厚度。本公开通过在第一膜层远离支撑架的一侧设置第二膜层，并且设置第二膜层的厚度小于第一膜层的厚度，通过第二膜层进行蒸镀，并且设置第二膜层的厚度小于第一膜层的厚度，此时第一膜层能够对第二膜层进行一定的支撑，以避免第二膜层因无法支撑自身重量导致第二膜层损坏，进而达到减小掩膜板的膜厚减薄区域的目的，进而实现减小显示面板的边框的目的。CN113151779ACN113151779A权利要求书1/1页1.一种掩膜板，其特征在于，包括：支撑架；与所述支撑架贴合设置的第一膜层；第二膜层，其设置在所述第一膜层远离所述支撑架的一侧，所述第二膜层的外边框不超出所述支撑架的外边框；其中，所述第二膜层的厚度小于所述第一膜层的厚度。2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第二膜层由多个第一子膜层组成，所述第一子膜层上设置有蒸镀孔，多个所述第一子膜层相互不重叠。3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述第一膜层的蒸镀孔的位置与所述第二膜层的蒸镀孔的位置对应，所述第一膜层的蒸镀孔大于或等于所述第二膜层的蒸镀孔。4.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第二膜层由多个第二子膜层组成，所述第二子膜层上未设置蒸镀孔，所述第二子膜层覆盖第一膜层中的非蒸镀孔区域。5.根据权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，第一方向上的每个第二子膜层与第二方向上的每个第二子膜层均存在重叠区域，所述第一方向和所述第二方向相互垂直。6.根据权利要求1至5中任意项所述的掩膜板，其特征在于，所述第一子膜层设置在所述支撑架的第一焊接区域，所述第一膜层设置在所述支撑架的第二焊接区域，所述第一焊接区域和所述第二焊接区域相互独立。7.根据权利要求6所述的掩膜板，其特征在于，所述第一焊接区域的支撑架其厚度大于所述第二焊接区域的支撑架的厚度。8.一种掩膜板的制备方法，用于制造权利要求1至7中任意项所述的掩膜板，其特征在于，包括：在支撑架的第二焊接区域上张网第一膜层；在所述第一膜层远离所述支撑架的一侧张网第二膜层，得到掩膜板，所述第二膜层的外边框不超出所述支撑架的外边框；其中，所述第二膜层的厚度小于所述第一膜层的厚度。9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述在所述第一膜层远离所述支撑架的一侧张网第二膜层，包括：将多个第一子膜层分别张网至所述第一膜层远离所述支撑架的一侧，并将所述第一子膜层焊接在所述支撑架的第一焊接区域上，使得所述第一膜层的蒸镀孔的位置与所述第二膜层的蒸镀孔的位置对应；设置所述第一膜层的蒸镀孔大于或等于所述第二膜层的蒸镀孔；多个所述第二子膜层相互不重叠。10.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述在所述第一膜层远离所述支撑架的一侧张网第二膜层，还包括：将多个第二子膜层分别张网至所述第一膜层远离所述支撑架的一侧的非蒸镀孔区域的第一方向和第二方向上，并将所述第二子膜层焊接在所述支撑架的第一焊接区域上；所述第一方向和所述第二方向相互垂直。2CN113151779A说明书1/6页一种掩膜板及其制备方法技术领域[0001]本公开涉及掩膜板技术领域，具体而言，涉及一种掩膜板及其制备方法。背景技术[0002]在制备显示面板过程中，需要将各层有机发光材料蒸镀到基板上，蒸镀过程会使用相应的金属掩膜板，其中，公共层的掩膜板用于蒸镀公共层的有机或金属材料。为了确保能够将有机材料准确的蒸镀到基板相应的位置上，需要将掩膜板与基板完全贴合，进而传统的掩膜板制备过程中，对膜层进行张网工艺，再将张网工艺后在支撑架上处于拉伸状态的膜层焊接到支撑架上以组装成一张完整的掩膜板，详见图1。[0003]如图2所示，掩膜板的膜厚减薄区域L和H相关，具体地，为了确保蒸镀过