一种硅片双面抛光用的载具、双面抛光装置及硅片.pdf
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一种硅片双面抛光用的载具、双面抛光装置及硅片.pdf
本发明实施例公开了一种硅片双面抛光用的载具、双面抛光装置及硅片;所述载具包括:呈圆盘状且具备圆形开口的第一本体;布设在所述第一本体的圆形开口内的第二本体,所述第二本体被构造成能够从所述第一本体上进行拆卸;布设在所述第二本体内周一圈且呈圆环状的缓冲单元,用于形成承载硅片的保持孔;其中,在进行双面抛光之前,所述第二本体被从所述第一本体上拆卸并进行预处理以降低自身的温度。
一种硅片的双面抛光用的载具以及装置.pdf
本发明实施例公开了一种硅片的双面抛光用的载具以及装置;所述载具包括:呈圆盘状且具备圆形开口的本体;布设在所述本体的圆形开口内周一圈且呈圆环状的缓冲单元,所述缓冲单元被构造成被挤压产生变形之后仍能够使得硅片边缘的抛光量不超过目标抛光量。
硅片双面抛光装置的承载件及硅片双面抛光装置.pdf
本发明实施例公开了一种硅片双面抛光装置的承载件及硅片双面抛光装置,所述承载件包括:形成有通孔的本体;衬入在所述本体的通孔中的环状的内衬,所述内衬用于容置硅片,其中,所述内衬具有多孔疏水结构,使得聚集在所述硅片的外周面与所述内衬的内周面之间的间隙中的抛光液能够经由所述多孔疏水结构中的孔隙疏散。根据本发明实施例的承载件能够使硅片的周缘处的抛光液的量减小,改善抛光程度不均匀性,提高硅片表面平坦度。
一种硅片双面处理装置.pdf
本发明公开了一种硅片双面处理装置,包括底座、第一伺服电机、丝杠、进给螺母、滑座、下模板、上模座、过渡条、滑动吸取机构、进气通道、进气管、托架、直线模组、立板、调速电机、弹性机构、磨头、支架、转轴、第二伺服电机、第一齿轮、第二齿轮、夹取机构、清洁机构,将硅片直接置于定位槽内,滑动吸取机构将硅片吸紧,第一伺服电机驱动上模座前移,调速电机带动磨头转动,直线模组带动磨头移动,完成硅片“扫描”时磨洗,第二伺服电机带动硅片翻转180°,从而对硅片下表面进行磨洗处理。该装置结构简单,能对硅片的正反两面进行自动磨洗处理,
一种12英寸硅片的双面抛光方法.pdf
本发明提供一种12英寸硅片的双面抛光方法,包括以下步骤:(1)将硅片置于抛光机的游轮片内,在太阳轮和外齿圈的带动下,相对于上、下抛光垫运动,交替改变游轮片的自转方向,对硅片表面进行抛光加工;(2)每抛光1~3小时,使用刷盘对上、下抛光垫进行刷洗,刷洗过程中,向抛光垫喷撒纯水;(3)每抛光12~24小时,使用金刚石修整器对上、下抛光垫进行修整,修整过程中,向抛光垫喷撒纯水。本发明通过改变游轮片的自转方向,可以有效地改善抛光垫中心和边缘磨损量不同的现象,同时通过刷盘,有效清除抛光垫表面的杂质残留,减缓抛光垫釉