

硅片双面抛光装置的承载件及硅片双面抛光装置.pdf
冷霜****魔王
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硅片双面抛光装置的承载件及硅片双面抛光装置.pdf
本发明实施例公开了一种硅片双面抛光装置的承载件及硅片双面抛光装置,所述承载件包括:形成有通孔的本体;衬入在所述本体的通孔中的环状的内衬,所述内衬用于容置硅片,其中,所述内衬具有多孔疏水结构,使得聚集在所述硅片的外周面与所述内衬的内周面之间的间隙中的抛光液能够经由所述多孔疏水结构中的孔隙疏散。根据本发明实施例的承载件能够使硅片的周缘处的抛光液的量减小,改善抛光程度不均匀性,提高硅片表面平坦度。
一种硅片双面抛光用的载具、双面抛光装置及硅片.pdf
本发明实施例公开了一种硅片双面抛光用的载具、双面抛光装置及硅片;所述载具包括:呈圆盘状且具备圆形开口的第一本体;布设在所述第一本体的圆形开口内的第二本体,所述第二本体被构造成能够从所述第一本体上进行拆卸;布设在所述第二本体内周一圈且呈圆环状的缓冲单元,用于形成承载硅片的保持孔;其中,在进行双面抛光之前,所述第二本体被从所述第一本体上拆卸并进行预处理以降低自身的温度。
一种硅片的双面抛光用的载具以及装置.pdf
本发明实施例公开了一种硅片的双面抛光用的载具以及装置;所述载具包括:呈圆盘状且具备圆形开口的本体;布设在所述本体的圆形开口内周一圈且呈圆环状的缓冲单元,所述缓冲单元被构造成被挤压产生变形之后仍能够使得硅片边缘的抛光量不超过目标抛光量。
300mm硅片双面抛光机的优化设计.docx
300mm硅片双面抛光机的优化设计随着半导体产业的发展,硅片抛光技术作为制造高质量晶圆的关键技术之一,在半导体生产过程中发挥着重要的作用。双面抛光机对于半导体制造来说也是非常重要的设备之一,该设备可以同时对硅片的正反两面进行抛光,提高了生产效率和产品质量。本文将针对300mm硅片双面抛光机进行优化设计,探讨如何提高设备的性能和效率,以适应当前半导体市场的需求。一、设备结构和原理:300mm硅片双面抛光机主要由上下两个磨料盘和旋转盘、传动装置、压力系统、控制系统等部分组成。硅片通过旋转盘的传动装置被固定在双
一种12英寸硅片的双面抛光方法.pdf
本发明提供一种12英寸硅片的双面抛光方法,包括以下步骤:(1)将硅片置于抛光机的游轮片内,在太阳轮和外齿圈的带动下,相对于上、下抛光垫运动,交替改变游轮片的自转方向,对硅片表面进行抛光加工;(2)每抛光1~3小时,使用刷盘对上、下抛光垫进行刷洗,刷洗过程中,向抛光垫喷撒纯水;(3)每抛光12~24小时,使用金刚石修整器对上、下抛光垫进行修整,修整过程中,向抛光垫喷撒纯水。本发明通过改变游轮片的自转方向,可以有效地改善抛光垫中心和边缘磨损量不同的现象,同时通过刷盘,有效清除抛光垫表面的杂质残留,减缓抛光垫釉