基板处理装置和基板处理方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN116018214A(43)申请公布日2023.04.25(21)申请号202180052120.4(74)专利代理机构北京林达刘知识产权代理事(22)申请日2021.08.23务所(普通合伙)11277专利代理师刘新宇李靖(30)优先权数据2020-1493202020.09.04JP(51)Int.Cl.B05C11/08(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日2023.02.23(86)PCT国际申请的申请数据PCT/JP2021/0308572021.08.23(87)PCT国际申请的公布数据WO2022/050117JA2022.03.10(71)申请人东京毅力科创株式会社地址日本东京都(72)发明人山口隆大权利要求书2页说明书12页附图16页(54)发明名称基板处理装置和基板处理方法(57)摘要构成一种基板处理装置，具备：处理液供给喷嘴，其至少向基板的表面的周缘部供给处理液来进行处理；载置台，其载置被供给所述处理液的所述基板；移动体，其包括用于检测与载置于所述载置台的所述基板之间的距离的第一距离传感器；移动机构，其使所述移动体在所述基板的周缘部上横向地移动，以获取所述基板的周缘部处的靠该基板的中心的位置即第一位置与比该第一位置靠所述基板的周端侧的位置即第二位置之间的高度分布；以及旋转机构，其使所述载置台相对于所述移动体旋转，以分别获取在所述基板的周向上彼此分离的多个位置处的所述高度分布。CN116018214ACN116018214A权利要求书1/2页1.一种基板处理装置，具备：处理液供给喷嘴，其至少向基板的表面的周缘部供给处理液来进行处理；载置台，其载置被供给所述处理液的所述基板；移动体，其包括用于检测与载置于所述载置台的所述基板之间的距离的第一距离传感器；移动机构，其使所述移动体在所述基板的周缘部上横向地移动，以获取所述基板的周缘部处的靠该基板的中心的位置即第一位置与比该第一位置靠所述基板的周端侧的位置即第二位置之间的高度分布；以及旋转机构，其使所述载置台相对于所述移动体旋转，以分别获取在所述基板的周向上彼此分离的多个位置处的所述高度分布。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述移动机构使所述移动体相对于所述载置台升降，并且输出升降量的信息，所述基板处理装置设置有运算部，所述运算部基于根据所述升降量的信息计算出的所述移动体横向地移动时的基准高度与所述第一距离传感器之间的第一距离、以及由所述第一距离传感器检测出的检测值，来获取所述高度分布。3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，设置有基准高度设定部，所述基准高度设定部用于设定所述基准高度。4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，所述基准高度设定部包括：所述运算部；以及第二距离传感器，其设置于所述移动体的移动路的下方，用于检测到该移动体的第二距离，其中，所述运算部基于该第二距离来设定所述基准高度。5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，所述处理液供给喷嘴包括于所述移动体，所述第二距离是该处理液供给喷嘴与所述第二距离传感器之间的距离，所述运算部基于该第二距离、由所述第一距离传感器或所述第二距离传感器获取到的该第一距离传感器与该第二距离传感器之间的第三距离、以及分别获取所述第二距离、所述第三距离时的所述升降量的信息，来决定向所述基板供给所述处理液时的所述处理液供给喷嘴的高度。6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，所述处理液是用于形成涂布膜的涂布液，对于进行旋转的所述基板，进行通过所述移动机构使所述处理液供给喷嘴移动以使该涂布液的供给位置从所述基板的中心部朝向周缘部移动的第一处理，以及对进行了该第一处理后的基板进行获取多个位置的所述高度分布的第二处理。7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，设置有控制部，所述控制部输出控制信号，所述第一处理和所述第二处理包括各自连续地进行的多个步骤，通过基于对所述基板的转速、所述移动体的位置、以及实施步骤的时间分别进行了设2CN116018214A权利要求书2/2页定的制程输出所述控制信号来进行各步骤。8.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述处理液是去除液，所述去除液用于限定性地去除在载置于与所述载置台不同的处理用载置台的所述基板的整个表面形成的膜中的、该基板的周缘部的膜，所述基板处理装置设置有搬送机构，所述搬送机构以不经由在将所述基板保存于内部的状态下密闭的搬送容器的方式将该基板从所述处理用载置台向所述载置台搬送。9.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，多个位置处的所述高度分布的获取通过由所述旋转机构进行的所述基板的间歇性的旋转、以及在该间歇性地旋转的期间中所述基板静止