增亮膜及其制备方法、显示基板和显示装置.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN116009316A(43)申请公布日2023.04.25(21)申请号202310101067.3(22)申请日2023.01.30(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号申请人成都京东方光电科技有限公司(72)发明人谭明丰张晓晋孙海雁张帅峰(74)专利代理机构北京风雅颂专利代理有限公司11403专利代理师陈莉(51)Int.Cl.G02F1/137(2006.01)G02F1/1333(2006.01)G09F9/33(2006.01)权利要求书2页说明书19页附图3页(54)发明名称增亮膜及其制备方法、显示基板和显示装置(57)摘要本申请提供一种增亮膜及其制备方法、显示基板和显示装置，所述增亮膜包括含有液晶的微结构层，所述微结构层中包含多个微结构，所述微结构中包含所述液晶。在增亮膜中设置含有液晶的微结构层，微结构层中的多个微结构流动性较弱，对微结构内的液晶起到了稳定和限流的作用，使得增亮膜的折叠区和非折叠区内的液晶差别不大，故即使在增亮膜进行折弯的情况下，增亮膜的出光效率及折弯性能也能得到增强。将所述增亮膜应用于显示基板时，显示基板的出光效率得到提升，同时由于增亮膜中的微结构不易流动和稳定性好，显示基板的弯折性能得到提升，色偏得到改善。CN116009316ACN116009316A权利要求书1/2页1.一种增亮膜，其特征在于，包括：含有液晶的微结构层，所述微结构层中包含多个微结构，所述微结构中包含所述液晶。2.根据权利要求1所述的增亮膜，其特征在于，所述微结构为微胶囊。3.根据权利要求1所述的增亮膜，其特征在于，所述液晶为胆甾相液晶。4.根据权利要求1所述的增亮膜，其特征在于，所述微结构层包括多层叠置的微结构子层，每个所述微结构子层的反射波段不同。5.根据权利要求1所述的增亮膜，其特征在于，所述微结构层的厚度为10～60μm。6.根据权利要求1所述的增亮膜，其特征在于，所述微结构子层的厚度为1～10μm。7.根据权利要求1所述的增亮膜，其特征在于，所述微结构层和所述微结构子层的雾度均小于或等于3％。8.根据权利要求1所述的增亮膜，其特征在于，所述微结构层由含有液晶的微结构、聚合物单体和光引发剂的混合物制成。9.根据权利要求8所述的增亮膜，其特征在于，所述含有液晶的微结构为含有胆甾相液晶的微胶囊，所述微胶囊包括芯材料和包裹于所述芯材料外部的壳材料，所述芯材料包含以下重量份数的组分：65％～85％的向列相液晶、10％～30％的左旋或右旋的胆甾相液晶、4％～5％的手性添加剂。10.一种显示基板，其特征在于，包括：基底，包括折叠区和非折叠区；发光结构层，设置于所述基底上；权利要求1至9任一项所述的增亮膜，设置于所述发光结构层远离所述基底的一侧，所述增亮膜在所述基底上的正投影至少覆盖所述折叠区；防反射层，设置于所述增亮膜远离所述基底的一侧。11.根据权利要求10所述的显示基板，其特征在于，所述发光结构层包括被像素定义层限定的多个像素开口所形成的多个发光区，所述多个发光区包括发出第一颜色光的第一发光区、发出第二颜色光的第二发光区和发出第三颜色光的第三发光区；所述微结构层包括依次叠置的三层微结构子层，所述三层微结构子层的反射波段与所述第一颜色光的波长、第二颜色光的波长和第三颜色光的波长一一对应。12.根据权利要求10所述的显示基板，其特征在于，所述发光结构层包括被像素定义层限定的多个像素开口所形成的多个发光区，所述多个发光区包括发出第一颜色光的第一发光区、发出第二颜色光的第二发光区和发出第三颜色光的第三发光区；所述微结构层为单层微结构子层，所述微结构子层的反射波段与所述第一颜色光的波长、第二颜色光的波长或第三颜色光的波长对应。13.一种增亮膜的制备方法，其特征在于，包括：将含有液晶的微结构、聚合物单体和光引发剂混合，形成混合体系；将混合体系铺展，使其形成混合体系预制膜层，通过光照射所述混合体系预制膜层，使混合体系中的光引发剂引发聚合物单体发生聚合反应，得到增亮膜。14.根据权利要求13所述的制备方法，其特征在于，所述将混合体系铺展，使其形成混合体系预制膜层，包括：将所述混合体系铺展在基板的表面，所述基板的表面形成所述混合体系预制膜层；或，2CN116009316A权利要求书2/2页将所述混合体系装入透明盒状体中，使所述混合体系铺展于透明盒状体中，所述混合体系预制膜层形成在所述透明盒状体中。15.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求10至12任一项所述的显示基板，所述显示基板为有机发光二极管显示基板。3CN116009316A说明书1/19页增亮膜及其制备方法、显示基板和显示装置技术领域[0001]本申请涉及显示技术领域，尤其涉