一种条形半导体激光器端面镀膜用半遮挡装置及镀膜方法.pdf
含秀****66
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一种条形半导体激光器端面镀膜用半遮挡装置及镀膜方法.pdf
本发明公开了条形半导体激光器端面镀膜用半遮挡装置及镀膜方法,包括工件盘、遮挡板、修正板、镀膜源、镀膜机,镀膜机内部为腔体结构,镀膜源设于腔体结构的内侧底部,工件盘设于腔体结构的上部,工件盘通过转轴与镀膜机上部支架连接,遮挡板设于工件盘下侧,遮挡板通过支撑架固定到腔体的两侧,修正板设于遮挡板下侧并与腔体内侧连接,工件盘通过下方的遮挡板遮挡后露出的部分为镀膜区域。本发明镀膜均匀性好,能够提高条形半导体激光器芯片的质量,提高良品率。解决了现有技术存在的蒸镀均匀性差造成的产品质量差以及影响条形半导体激光器性能的问
一种镀膜遮挡装置及包含其的镀膜装置.pdf
本发明提供了一种镀膜遮挡装置,包括:驱动部、固定板、镀膜板、支撑板、挡板和滑动结构;第一支撑板和第二支撑板分别设置在固定板的两侧;两个支撑板之间设置有导向杆;镀膜板设置在固定板上,并设置有滑槽和用于放置待加工件的开孔;滑动结构包括滑块和连接杆;导向杆间隔设置在支撑板之间;滑块滑动设置在导向杆上,并与驱动部连接;连接杆的一端与滑块连接,另一端穿过滑槽与镀膜板连接;挡板在驱动部的作用下,沿滑槽前后移动以挡住或露出待加工件。本发明还提供一种包含该遮挡装置的镀膜装置。本发明能够精确控制镀膜精度和缩短制备时间。
一种镀膜装置及镀膜方法.pdf
本发明涉及镀膜技术领域,尤其涉及一种适用于显示装置的柔性基板镀膜装置及镀膜方法,该镀膜装置包括滚轮,设置于真空腔室中,所述柔性基板缠绕于所述滚轮表面上,所述滚轮带动所述柔性基板旋转;线性蒸镀源,固定设置于所述真空腔室中;且所述柔性基板上设置有待蒸镀区域,所述线形蒸镀源的喷口位于所述柔性基板的所述待蒸镀区域的正下方。该镀膜方法通过将基板揉成滚轮状覆盖在滚轮表面上,滚轮旋转时便可以让基板均匀地镀上有机材料。本发明通过点状的掩膜板设计加上滚轮旋转,便可以让有机材镀成线状,简化了掩模板设计和蒸镀的生产流程。
一种多功能镀膜玻璃生产用镀膜装置.pdf
本发明提供一种多功能镀膜玻璃生产用镀膜装置,包括密封箱体,支撑架,蒸发皿,电加热板,镀膜烘烤架结构,连接管,加热进气架结构,横杆,宽度调节架结构,基片夹持架结构,旋转电机,套筒,出气管,横管和箱门,所述的支撑架螺栓连接在密封箱体的内侧下部;所述的蒸发皿镶嵌在支撑架的内侧中间位置;所述的电加热板螺钉连接在蒸发皿的下部;所述的镀膜烘烤架结构分别安装在密封箱体中间位置的左右两侧。本发明的有益效果为:通过气流导向管、支架和风扇的设置,风扇旋转,通过气流导向管的导向将加热后的气流吹向基片的下表面,有利于使蒸发的原液
粉末镀膜装置及粉末镀膜方法.pdf
本发明涉及一种粉末镀膜装置及方法,在向反应腔体内充入第一前驱体及第二前驱体时,可调节抽气机构的抽气速率使得反应腔体的进气速率大于出气速率。因此,将会在反应腔体内维持较高压力。这样,能够防止前驱体未来得及发生吸附或反应即被抽走,增加了前驱体在反应腔体内停留的时间,从而确保粉末的表面发生充分的吸附反应。同时,由于反应腔体内的压力较高,故抽气侧与进气侧的压差较小,从而还能有效控制粉末流化时的飞溅区高度。如此,能防止因粉末大量吸附在抽气侧,而影响前驱体的吸附与清除。因此,上述粉末镀膜装置及方法能够减少前驱体的浪费