粉末镀膜装置及粉末镀膜方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112176319A(43)申请公布日2021.01.05(21)申请号202010906350.X(22)申请日2020.09.01(71)申请人江苏微导纳米科技股份有限公司地址214000江苏省无锡市新吴区漓江路11号(72)发明人李翔邹嘉宸黎微明(74)专利代理机构广州华进联合专利商标代理有限公司44224代理人周昭(51)Int.Cl.C23C16/455(2006.01)C23C16/52(2006.01)权利要求书2页说明书10页附图4页(54)发明名称粉末镀膜装置及粉末镀膜方法(57)摘要本发明涉及一种粉末镀膜装置及方法，在向反应腔体内充入第一前驱体及第二前驱体时，可调节抽气机构的抽气速率使得反应腔体的进气速率大于出气速率。因此，将会在反应腔体内维持较高压力。这样，能够防止前驱体未来得及发生吸附或反应即被抽走，增加了前驱体在反应腔体内停留的时间，从而确保粉末的表面发生充分的吸附反应。同时，由于反应腔体内的压力较高，故抽气侧与进气侧的压差较小，从而还能有效控制粉末流化时的飞溅区高度。如此，能防止因粉末大量吸附在抽气侧，而影响前驱体的吸附与清除。因此，上述粉末镀膜装置及方法能够减少前驱体的浪费，并提高包覆层的生长效率。CN112176319ACN112176319A权利要求书1/2页1.一种粉末镀膜装置，其特征在于，包括：镀膜腔体，形成有反应腔体，所述反应腔体具有进气端口及出气端口；气路系统，与所述进气端口连通，并用于向所述反应腔体内充入气体；及抽气机构，与所述镀膜腔体连通，并经所述出气端口对所述反应腔体进行抽气，所述抽气机构对所述反应腔体进行抽气的抽气速率可调。2.根据权利要求1所述的粉末镀膜装置，其特征在于，还包括设于所述抽气机构与所述镀膜腔体之间的废气处理机构。3.根据权利要求1所述的粉末镀膜装置，其特征在于，所述抽气机构包括真空泵及设于所述真空泵与所述镀膜腔体之间的蝶阀。4.根据权利要求1所述的粉末镀膜装置，其特征在于，所述抽气机构包括真空泵、与所述真空泵并联且可开启或关闭的排气旁路，所述排气旁路的排气速率小于所述真空泵的抽气速率。5.一种粉末镀膜方法，其特征在于，包括步骤：S1：对反应腔体内的粉末进行预处理；S2：向所述反应腔体内充入流化气，以使所述粉末流化并分散；S3：向所述反应腔体内充入第一前驱体，并使所述第一前驱体与所述粉末的表面吸附，且所述反应腔体的进气速率大于出气速率；S4：再次向所述反应腔体内充入流化气，以使所述粉末流化并分散；S5：向所述反应腔体内充入第二前驱体，以使所述第二前驱体与所述粉末表面所吸附的所述第一前驱体反应生成包覆层，所述反应腔体的进气速率大于出气速率。6.根据权利要求5所述的粉末镀膜方法，其特征在于，所述步骤S1包括步骤：S101：将待镀膜的粉末装入反应腔体内；S102：对所述反应腔体进行抽真空；S103：对所述反应腔体进行加热，并使所述反应腔体内的温度预设值。7.根据权利要求5所述的粉末镀膜方法，其特征在于，所述步骤S3包括步骤：S301：向所述反应腔体中充入足量的所述第一前驱体，以使所述第一前驱体与所述粉末的表面饱和吸附，并使所述反应腔体的进气速率大于出气速率；S302：向所述反应腔体内充入吹扫气，以将多余的所述第一前驱体排出，并使所述反应腔体的进气速率小于出气速率；所述步骤S5包括步骤：S501：向所述反应腔体中充入足量的所述第二前驱体，以使所述第二前驱体与所述粉末表面所吸附的所述第一前驱体充分反应，并使所述反应腔体的进气速率大于出气速率；S502：向所述反应腔体内充入吹扫气，以将多余的所述第二前驱体排出，并使所述反应腔体的进气速率小于出气速率。8.根据权利要求5所述的粉末镀膜方法，其特征在于，所述步骤S3包括步骤：S301’：向所述反应腔体中充入所述第一前驱体，并使所述第一前驱体与所述粉末的表面非饱和吸附，所述反应腔体的进气速率大于出气速率；S302’：向所述反应腔体内充入吹扫气，以将多余的所述第一前驱体排出，并使所述反应腔体的进气速率小于出气速率；2CN112176319A权利要求书2/2页S303’：重复上述步骤S301’及S302’，直至所述第一前驱体与所述粉末的表面饱和吸附；所述步骤S5包括步骤：S501’：向所述反应腔体中充入所述第二前驱体，并使所述第二前驱体与所述粉末表面所吸附的所述第一前驱体部分反应，所述反应腔体的进气速率大于出气速率；S502’：向所述反应腔体内充入吹扫气，以将多余的所述第二前驱体排出，并使所述反应腔体的进气速率小于出气速率；S503’：重复上述步骤S501’及S502’，直至所述第二前驱体与所述粉末表面所吸附的所述第一前驱体充分反应。9.根据权利要求5至8任一