一种束源炉的薄壁保温层结构.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113970243A(43)申请公布日2022.01.25(21)申请号202111194806.5(22)申请日2021.10.14(71)申请人中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司地址110168辽宁省沈阳市浑南新区新源街1号(72)发明人雷震霖赵崇凌张学锋李重茂毕永生张学全李治(74)专利代理机构沈阳科苑专利商标代理有限公司21002代理人白振宇(51)Int.Cl.F27B14/08(2006.01)C30B23/02(2006.01)C30B25/02(2006.01)权利要求书2页说明书4页附图5页(54)发明名称一种束源炉的薄壁保温层结构(57)摘要本发明属于分子束源炉领域，具体地说是一种束源炉的薄壁保温层结构，包括侧保温层、上保温层、下保温层及若干个的支撑架，侧保温层包括由外至内依次套接的若干层表面设有鼓包的钽筒。侧保温层、上保温层及下保温层对所围成的内部空间进行保温，对坩埚形成悬挂式保温结构；通过各保温层与坩埚及束源炉加热器等整体的重量最终均由最外层的钽筒支撑，可使得热传导距离最大化；通过侧保温层的钽筒上鼓包的设置，可减少相邻钽筒间的接触面积，减少热传导。本发明可适用于在超高真空环境使用，采用设有鼓包的钽筒的侧保温层及整体的悬挂式保温层结构，可有效减少热传导，提高热辐射屏蔽效果，实现高效、均匀、稳定、节能的束源炉保温功能。CN113970243ACN113970243A权利要求书1/2页1.一种束源炉的薄壁保温层结构，其特征在于：包括侧保温层(1)、上保温层(2)、下保温层(3)及若干个用于支撑坩埚(002)和束源炉加热器(003)的支撑架(4)，坩埚(002)及束源炉加热器(003)设置于所述侧保温层(1)、上保温层(2)及下保温层(3)所围成的内部空间中，所述侧保温层(1)、上保温层(2)及下保温层(3)对所围成的内部空间进行保温；所述侧保温层(1)包括由外至内依次套接的若干层钽筒(101)，其中一个所述钽筒(101)的下端开口与束源炉托座(001)固接；最外层的所述钽筒(101)的内壁上部焊接有钽环(102)，除最外层的所述钽筒(101)之外的各所述钽筒(101)的上端均与所述钽环(102)焊接；所述下保温层(3)和各所述支撑架(4)分别安装于最内层的所述钽筒(101)上；所述下保温层(3)设置于坩埚(002)、束源炉加热器(003)及所述支撑架(4)构成的整体的下方，且所述下保温层(3)设置于束源炉托座(001)的上方，所述下保温层(3)与束源炉托座(001)和坩埚(002)之间分别具有空隙；所述上保温层(2)设置于最外层的所述钽筒(101)的上端开口处，所述钽环(102)对所述上保温层(2)的底部进行支撑。2.根据权利要求1所述的束源炉的薄壁保温层结构，其特征在于：最外层的所述钽筒(101)的下端开口与束源炉托座(001)固接，除最外层的所述钽筒(101)之外的各所述钽筒(101)的下端与束源炉托座(001)之间均具有空隙。3.根据权利要求1所述的束源炉的薄壁保温层结构，其特征在于：除最外层与最内层的所述钽筒(101)之外的各所述钽筒(101)的表面分别冲压有凸形和/或凹形的鼓包(1013)，各所述钽筒(101)的鼓包(1013)与相邻的所述钽筒(101)的表面抵接。4.根据权利要求3所述的束源炉的薄壁保温层结构，其特征在于：所述鼓包(1013)均匀设置于所述钽筒(101)的表面上。5.根据权利要求1所述的束源炉的薄壁保温层结构，其特征在于：最内层的所述钽筒(101)上沿长度方向冲压有多条凸棱(1011)，各所述凸棱(1011)上分别开设有若干个用于插接所述下保温层(3)和各所述支撑架(4)的插接槽(1012)，所述下保温层(3)和各所述支撑架(4)分别通过设有所述插接槽(1012)的各所述凸棱(1011)插接于最内层的钽筒(101)上。6.根据权利要求1所述的束源炉的薄壁保温层结构，其特征在于：所述下保温层(3)包括热解氮化硼片A(301)及若干层钽片A(302)，各所述钽片A(302)从上至下依次层叠设置，最下层的所述钽片A(302)设置于所述热解氮化硼片A(301)上方，各所述钽片A(302)表面均冲压有凸和/或凹的纹理A，各所述钽片A(302)的纹理A与相邻的所述钽片A(302)的表面抵接，层叠设置的所述热解氮化硼片A(301)及钽片A(302)构成的所述下保温层(3)整体与最内层的所述钽筒(101)连接。7.根据权利要求1所述的束源炉的薄壁保温层结构，其特征在于：所述下保温层(3)与坩埚(002)底部之间具有20‑30mm的距离。8.根据权利要求1所述的束源炉的薄壁保温层结构，其特征在于：所述上保温层(2)包括热解