束源炉水冷器及束源设备.pdf
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相关资料
束源炉水冷器及束源设备.pdf
本发明提供了一种束源炉水冷器及束源设备,涉及束源设备技术领域。该束源炉水冷器包括水冷壳体、转子安装座以及通水转子,水冷壳体内部具有冷却腔;转子安装座设置于冷却腔上端部的内部且其与冷却腔的腔壁之间具有通水间隙,转子安装座中空,且其靠近冷却腔上端部的一侧为敞开结构并形成的敞口,相对的另一侧具有形成封闭结构的底板,底板上具有出水孔;通水转子设置在转子安装座内,通水转子内部具有通水腔,对应底板的一侧敞开,对应敞口的一侧部分敞开并形成相邻的封闭区与通水区。该束源设备应用上述的束源炉水冷器。基于本发明的技术方案,该束
一种双快门分子束外延源炉系统及分子束外延设备.pdf
本发明公开了一种双快门分子束外延源炉系统及分子束外延设备,包括腔室,源炉,第一快门和第二快门;源炉的炉口朝向腔室内设置,第一快门和第二快门向腔室内延伸,且第一快门和第二快门至少部分露出于腔室外壁;通过在腔室外操作第一快门,可将第一快门调整至完全遮挡源炉的蒸发路径的第一位置或者完全离开蒸发路径的第二位置;通过在腔室外操作第二快门,可将第二快门调整至覆盖源炉3炉口正上方的第三位置或者靠近源炉3炉口加热器的第四位置。根据本公开的双快门源炉系统能够保护源炉内的源料不受材料碎片污染、优化外延薄膜质量、同时有效提升蒸
一种三状态分子束外延用束源炉快门.pdf
本发明公开了一种三状态分子束外延用束源炉快门,在具备束流开启与束流关断两种状态的基础上,新增第三种束源炉保护状态,处于束源炉保护状态的快门可以有效阻挡冷屏内壁上吸附的材料碎片掉落入束源炉中,具有可以保护束源炉内源料不受材料碎片污染、优化外延薄膜质量、同时有效提升蒸发束流的稳定性和重复性、降低设备维护时间、提高设备生产效率等优点。
一种坩埚可移动的分子束外延用束源炉.pdf
本发明公开了一种坩埚可移动的分子束外延用束源炉,包括坩埚托架、安装法兰、设于安装法兰上侧的热屏蔽筒、设于安装法兰下侧的闸阀、设于闸阀下侧的外筒、以及用于带动坩埚托架在热屏蔽筒和外筒之间移动的升降驱动机构,所述热屏蔽筒内设有加热器,所述外筒连接有真空泵,所述升降驱动机构与所述外筒密封连接。本发明具有结构简单、成本低、可靠性高、占用空间少等优点。
一种立式低温蒸发束源炉.pdf
一种立式低温蒸发束源炉,它主要由用于盛放蒸发材料的坩埚和用于导引蒸发材料并垂直安装在坩埚上面与坩埚内部相通的喷管组成,所述的坩埚底部设置有用于给坩埚加热的坩埚加热器,喷管上、从上到下分别设置有3‑50个用于调节喷管不同位置蒸发量的喷口;所述的坩埚内部或侧壁上设置有用于测量坩埚温度的坩埚热电偶;喷管上端部加料口上配制有密封盖;所述喷管内配置有用于喷管加热的喷管加热器,并在喷管内部还安装有用于喷管内温度测量的喷管热电偶,在所述喷管的喷口上配置有用于控制蒸发范围和使喷口处于同一直线的喷座;所述坩埚的外围还配置有