晶圆旋转装置及化学气相沉积设备.pdf
雨巷****凝海
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晶圆旋转装置及化学气相沉积设备.pdf
本发明公开了一种晶圆旋转装置及化学气相沉积设备,所述包括静电吸盘、反应腔体、晶圆支撑架,所述静电吸盘通过三个提升销与晶圆支撑架连接,静电吸盘依据静电原理吸引晶圆片;所述反应腔体左侧接入反应气体管道并配有压力计,底部连接尾气管路,配有压力计,并通过节流阀连接于涡轮泵上;所述反应腔体顶部连接远程等离子体源,中间为清洁气体管路,清洁气体管路穿过陶瓷钟罩,且尾部接有喷头;所述晶圆支撑架底部与反应腔体密封连接。本发明在于不仅可以对晶圆进行升降动作,还可以通过驱动马达来对晶圆进行旋转作业,通过旋转晶圆来达到改善工艺均
用于气相沉积设备的晶圆承载装置.pdf
一种用于气相沉积设备的晶圆承载装置,包括转轴及旋转盘。转轴用以提供公转,旋转盘连接该转轴,周边辐射状环设多个开口。开口的任一周缘环设一段差部,其周缘环设凹槽,凹槽内分布滚珠,滚珠直径不大于凹槽的宽度,但大于凹槽的深度。环绕凹槽周缘的侧壁上设有传动机构。支撑架固设于段差部上,支撑架顶面中心具有第一结构。晶圆托盘顶面用以承载晶圆,底面中心具有第二结构,用以嵌合支撑架的第一结构,晶圆托盘周檐置放于凹槽上的滚珠上,通过传动机构驱动晶圆托盘旋转。
晶圆加热转移装置和化学气相沉积设备.pdf
本发明的实施例提供了一种晶圆加热转移装置和化学气相沉积设备,涉及半导体技术领域。晶圆加热转移装置包括加热盘、转移手指和驱动机构,加热盘中部开设有通孔,在通孔的周围还开设有多个凹槽,加热盘用于承载晶圆、并对晶圆加热;转移手指安装在凹槽内,转移手指用于转移晶圆;驱动机构安装在通孔内,驱动机构与转移手指连接,驱动机构用于带动转移手指相对于加热盘升降、旋转。其中,凹槽的形状与转移手指的形状相适配,转移手指包括主干和多个分支,多个分支连接在主干的同一侧,相邻两个转移手指的分支用于支撑起同一个晶圆。晶圆加热转移装置能
粉末旋转化学气相沉积装置.pdf
本发明公开了一种粉末旋转化学气相沉积装置,包括支架以及固定在支架上的炉管,炉管外环绕有主电炉,炉管两端分别连接有原料气进气装置、载流气进气装置和废气处理装置,炉管内设置有活动转轴,转轴上固定有圆柱形的反应腔,反应腔设有从内壁面往轴心侧延伸的多个搅拌刀片用于搅拌粉末基底,转轴内设有多个热电偶;本发明的反应腔在镀膜过程中保持旋转,并且通过搅拌刀片带动粉体原料连续翻动,不仅保证粉体表面镀膜均匀,而且可以通过控制旋转周期等工艺参数控制镀膜厚度,可实现在任意尺寸粉体表面的镀膜,而且适用于包括金属、非金属和陶瓷粉体在
可实现晶圆平稳升降的气相沉积设备.pdf
本发明提供一种可实现晶圆平稳升降的气相沉积设备,包括腔体、载台、载台支撑杆、连接板、气缸、气缸底座、底座固定杆、升降滚动滑轮、联动轴、支撑杆托盘及升降基座;载台支撑杆一端与载台的底部相连接,另一端延伸到支撑杆托盘上;连接板与腔体的底部相连接;气缸位于气缸底座上;底座固定杆一端与气缸底座相连接,另一端与连接板相连接;支撑杆托盘位于升降基座内,且与升降基座相连接,升降基座的一侧开设有运动开口;联动轴一端与气缸相连接,另一端与升降滚动滑轮相连接;升降滚动滑轮经由运动开口自升降基座的外部延伸至升降基座的内部,且升