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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111273516A(43)申请公布日2020.06.12(21)申请号202010208419.1(22)申请日2020.03.23(71)申请人成都路维光电有限公司地址610000四川省成都市高新区康强三路1666号(72)发明人林伟林超(74)专利代理机构成都行之专利代理事务所(普通合伙)51220代理人张严芳(51)Int.Cl.G03F1/82(2012.01)B08B1/00(2006.01)B08B1/04(2006.01)B08B3/08(2006.01)B08B13/00(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图2页(54)发明名称一种掩膜版涂胶机的清洁装置及其清洁方法(57)摘要本发明公开了一种掩膜版涂胶机的清洁装置及其清洁方法,解决了现有的掩膜版在旋涂光刻胶时,光刻胶会甩到涂胶机腔体转盘及转盘盖板上,光刻胶固化结块会影响掩膜版的品质,且操作人员在用化学药液去除时容易吸入身体而对健康造成危害的问题。本发明包括主体结构,所述主体结构包括上横杆和下横杆,所述上横杆和下横杆之间设置有支撑杆,所述下横杆与涂胶机转盘可拆卸连接,所述上横杆的上面设置有清洁组件。本发明具有能替代人工作业,避免化学品危害,而且可以提高作生产良率及作业效率等优点。CN111273516ACN111273516A权利要求书1/1页1.一种掩膜版涂胶机的清洁装置,其特征在于,包括主体结构(1),所述主体结构(1)包括上横杆(7)和下横杆(3),所述上横杆(7)和下横杆(3)之间设置有支撑杆(5),所述下横杆(3)与涂胶机转盘(10)可拆卸连接,所述上横杆(7)的上面设置有清洁组件。2.根据权利要求1所述的一种掩膜版涂胶机的清洁装置,其特征在于,所述下横杆(3)上设置有通孔,所述通孔与所述涂胶机转盘(10)的Pin孔(11)采用螺栓连接。3.根据权利要求2所述的一种掩膜版涂胶机的清洁装置,其特征在于,所述通孔为螺纹孔(4)。4.根据权利要求1-3任一项所述的一种掩膜版涂胶机的清洁装置,其特征在于,所述清洁组件与所述上横杆(7)可拆卸连接。5.根据权利要求1-3任一项所述的一种掩膜版涂胶机的清洁装置,其特征在于,所述清洁组件包括卡条(8)和毛刷(2),所述毛刷(2)设置在卡条(8)上,所述上横杆(7)上设置有滑槽(9),所述卡条(8)滑入所述滑槽(9)形成可拆卸连接。6.根据权利要求1-3任一项所述的一种掩膜版涂胶机的清洁装置,其特征在于,所述支撑杆(5)包括相互平行的支撑杆一和支撑杆二,所述上横杆(7)和下横杆(3)之间设置有横梁(6),所述横梁(6)的两端分别与支撑杆一和支撑杆二连接,所述横梁(6)上设置有开孔。7.根据权利要求6所述的一种掩膜版涂胶机的清洁装置,其特征在于,所述横梁(6)上设置有限位件(15),清洁时,转盘盖板(12)的下边沿与所述限位件(15)接触,阻止所述转盘盖板(12)进一步下降,所述限位件(15)与所述毛刷(2)顶部的竖直距离H1大于所述转盘盖板(12)的边沿高度H2,所述毛刷(2)的竖直高度为h,其中H1-H2≤h。8.根据权利要求1-3或7任一项所述的一种掩膜版涂胶机的清洁装置,其特征在于,所述支撑杆(5)上设置有开孔二。9.一种掩膜版涂胶机的清洁方法,其特征在于,采用如权利要求1-8任一项所述的清洁装置,包括如下步骤:步骤1:将清洁组件安装在所述上横杆(7)上;步骤2:通过Pin孔(11)的位置用螺母将主体结构(1)固定在涂胶机转盘(10)上;步骤3:调节转盘盖板(12)下降与毛刷(2)相接触;步骤4:向转盘盖板(12)喷化学药液;步骤5:开启涂胶机转盘(10)转动,带动主体结构(1)和毛刷(2)转动,对转盘盖板(12)的胶进行清理。10.根据权利要求9所述的一种掩膜版涂胶机的清洁方法,其特征在于,所述步骤3中调节转盘盖板(12)下降的位置时,具体方法是:调节转盘盖板(12)下降直至转盘盖板(12)的下边沿与所述限位件(15)接触,使得转盘盖板(12)对所述毛刷(2)存在一定程度的挤压又不至于使转盘盖板(12)与所述卡条(8)接触而对转盘盖板(12)造成划伤。2CN111273516A说明书1/4页一种掩膜版涂胶机的清洁装置及其清洁方法技术领域[0001]本发明涉及高世代大尺寸掩膜版的涂胶机清洁技术领域,具体涉及一种掩膜版涂胶机的清洁装置及其清洁方法。背景技术[0002]掩膜版又称光掩膜版或光罩(Photomask),由石英玻璃作为基板衬底,首先在石英玻璃基板上镀上一层金属铬层,然后在铬层上面涂覆光刻胶使其成为一种感光材料,把已设计好的电路图形通过电子激光设备使光刻胶感光,被曝光的区域通过显影、蚀刻在金属铬上形成电路图形,成为类似曝