一种晶片清洗槽及晶片清洗方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113764313A(43)申请公布日2021.12.07(21)申请号202111062548.5B08B13/00(2006.01)(22)申请日2021.09.10(71)申请人安徽富乐德科技发展股份有限公司地址244000安徽省铜陵市金桥经济开发区(72)发明人张正伟贺贤汉廖宗洁周伯成(74)专利代理机构铜陵市天成专利事务所(普通合伙)34105代理人李坤(51)Int.Cl.H01L21/67(2006.01)H01L21/677(2006.01)H01L21/02(2006.01)B08B3/02(2006.01)B08B3/10(2006.01)权利要求书2页说明书6页附图6页(54)发明名称一种晶片清洗槽及晶片清洗方法(57)摘要本发明涉及半导体材料技术领域，具体是一种晶片清洗槽，包括清洗槽，所述清洗槽的上方设置有夹持臂，夹持臂镜像对称设置有2排，每排等距分布有若干个夹持臂，且每排中夹持臂相靠近的一侧分别设置有调距推拉座，并且每排所述夹持臂的中部和上端分别活动连接有限位支撑杆和夹持控制同步杆，所述夹持臂的下端上下间隔设置有主动支撑轮和被动支撑轮，本发明能通过2排若干个夹持臂批量的对晶片自动夹持，且夹持臂上的主动支撑轮和被动支撑轮能够让晶片的边沿与夹持臂之间滚动连接，使得晶片被夹起后还能够自转，而且通过取放架和喷洗组合管与夹持臂的配合，不仅能够让晶片自动的被取出和放回花篮中，且能够自动的在浸泡洗后进行连续的冲洗清洁。CN113764313ACN113764313A权利要求书1/2页1.一种晶片清洗槽，其特征在于：包括清洗槽（1），所述清洗槽（1）的上方设置有夹持臂（4），夹持臂（4）镜像对称设置有2排，每排等距分布有若干个夹持臂（4），且每排中夹持臂（4）相靠近的一侧分别设置有调距推拉座（42），并且每排所述夹持臂（4）的中部和上端分别活动连接有限位支撑杆（7）和夹持控制同步杆（10），所述夹持臂（4）的下端上下间隔设置有主动支撑轮（44）和被动支撑轮（41）；所述清洗槽（1）的一侧设置有取放架（3），取放架（3）的底部设置有顶放篮（31），所述清洗槽（1）的一侧上方设置有若干个喷洗组合管（2），喷洗组合管（2）位置和若干个夹持臂（4）之间的位置相对应。2.根据权利要求1所述的一种晶片清洗槽，其特征在于：所述夹持臂（4）其中一排的位于中间位置的夹持臂（4）的下端设置有驱动轮（443），驱动轮（443）与主动支撑轮（44）的位置相对齐，且驱动轮（443）和主动支撑轮（44）的中部贯穿有联动限位杆（441），联动限位杆（441）与驱动轮（443）固定连接，而联动限位杆（441）与主动支撑轮（44）滑动连接，且联动限位杆（441）通过第一传动带（444）连接有旋转控制电机（442）；所述夹持臂（4）其中一排的位于中间位置的夹持臂（4）的中间为空心结构，且第一传动带（444）位于所述空心结构内。3.根据权利要求1所述的一种晶片清洗槽，其特征在于：所述调距推拉座（42）相靠近一侧的间距从一端至另一端逐渐缩小，且每排中夹持臂（4）之间的2个调距推拉座（42）之间滑动连接有“T”字形的推拉杆（5）的两端，推拉杆（5）另一端滑动连接有调距同步推拉杆（51），调距同步推拉杆（51）的两端分别设置有垂直弯曲部，该垂直弯曲部的一端滑动插设于套管（52）的一端，套管（52）的下端连接有调距控制伸缩缸（53）。4.根据权利要求1所述的一种晶片清洗槽，其特征在于：所述夹持臂（4）的中部转动套设于滑筒（43）外，滑筒（43）滑动套设于限位支撑杆（7）外，限位支撑杆（7）安装于升降架（6）上；2排所述夹持臂（4）上端的夹持控制同步杆（10）之间通过2根相互铰接的夹持控制推拉杆（8）连接，且2根夹持控制推拉杆（8）的铰接处连接有夹持控制伸缩缸（81）的一端，夹持控制伸缩缸（81）安装于升降架（6）上。5.根据权利要求4所述的一种晶片清洗槽，其特征在于：所述升降架（6）的两侧分别滑动连接有横移架（11）的两侧，且升降架（6）的顶部设置有一端与其连接的升降控制伸缩缸（61），升降控制伸缩缸（61）安装于横移架（11）上；横移架（11）的两侧分别设置有支撑轴（114），支撑轴（114）的一端连接有滚轮（113），滚轮（113）的底部连接有轨道梁（9），所述横移架（11）一侧的支撑轴（114）通过第二传动带（112）连接有横移控制电机（111），横移控制电机（111）固定安装于横移架（11）上。6.根据权利要求1所述的一种晶片清洗槽，其特征在于：所述顶放篮（31）的顶部等距分布有弧形槽，且顶放篮（31）的底部连接有顶放伸缩缸（32）。7.根据权利要求1所述的一种晶片清洗槽，其特