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提供一种抛光垫,其包括:抛光层;将1g的所述抛光层加入0.3M氢氧化钾(KOH)水溶液中,并在密封容器中以150℃温度反应48h的加工组合物的核磁共振(NMR)13C光谱包括:第一峰值,在15ppm至18ppm中出现,第二峰值,在9ppm至11ppm中出现,以及第三峰值,在138ppm至143ppm中出现;并且所述第三峰值与所述第二峰值的面积比为约5:1至约10:1。所述抛光垫呈现符合所述峰值特性的物理特性,因此可以在抛光对象的抛光工艺上实现目的范围内的抛光率与缺陷防止性能。