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本发明公开了一种新型N型硅片及其制备方法,所述新型N型硅片的制备方法包括如下步骤:(1)将单晶硅棒切割成长方形硅片;(2)对步骤(1)的长方形硅片进行预腐蚀清洗,去除硅片表面损伤层;(3)对步骤(2)的长方形硅片进行链式高温吸杂处理,在硅片表面形成一层吸杂层,获得新型N型硅片。本发明提高了切片工艺的TTV良率,更容易实现切更薄的硅片,有效提高了切割品质和硅棒利用率;消除了切割损伤,进而消除现有整片电池片因为切割损伤带来的效率和功率损失。本发明的新型N型硅片降低了硅片本体的金属杂质含量,提高了硅片的质量水平,进一步降低了片源质量波动,使得硅片质量处于可控的稳定状态。