微透镜阵列基板及其制备方法、显示装置.pdf
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微透镜阵列基板及其制备方法、显示装置.pdf
本申请实施例提供了一种微透镜阵列基板及其制备方法、显示装置,微透镜阵列基板微透镜阵列基板,包括:基底、设于基底一侧的多个沿第一方向排布的微透镜结构;微透镜结构沿第一方向的一端具有与基底一侧接触的固定部;第一方向平行于基底;沿第一方向,任意两个相邻的微透镜结构之间的间隙小于初始间隙,前一微透镜结构的固定部,朝向后一微透镜结构,并用于在第一热回流处理过程中保持形态。本申请实施例中固定部在热回流过程中能够保持形态,不易流动,相当于固定了微透镜结构一端的位置,沿第一方向相反的一端未固定,加热后微透镜结构部分可以流
阵列基板及其制备方法、显示装置.pdf
本发明公开了一种阵列基板,包括形成于衬底基板上的像素结构,所述像素结构设置有晶体管区和像素区,所述像素结构包括:透明电极层,其包括数据线、源电极、漏电极和像素电极,所述源电极和漏电极位于晶体管区中并相互绝缘,所述数据线电性连接到漏电极,所述像素电极位于像素区中并电性连接到源电极;铜金属层,沉积在所述数据线和漏电极上;半导体有源层,形成在所述源电极和漏电极之间并分别连接所述源电极和漏电极;栅极绝缘层,覆设于所述透明电极层、铜金属层以及半导体有源层上;相互电性连接的栅极线和栅电极,形成于所述栅极绝缘层上。本发
阵列基板及其制备方法和显示装置.pdf
本发明涉及一种阵列基板及其制备方法和显示装置。所述阵列基板的制备方法,包括:在衬底上形成第一膜层;第一膜层包括刻蚀部;对刻蚀部进行湿法刻蚀,得到未贯穿刻蚀部的盲孔,盲孔的深度小于刻蚀部的厚度;对盲孔的底部进行干法刻蚀,得到贯穿刻蚀部的通孔。根据本发明的实施例,可以避免膜层交界处出现刻蚀裂缝问题。
阵列基板及其制备方法和显示装置.pdf
本发明提供一种阵列基板及其制备方法和显示装置。该制备方法包括:先后在背板上形成第一导电结构、中间膜层和第二导电结构,在形成中间膜层之后且在形成第二导电结构之前还包括:在中间膜层上形成整面压印胶,纳米压印压印胶使其表层形成高度不同的纳米压印结构阵列;形成刻蚀阻挡层及其中第一过孔的图形;第一过孔与第一导电结构的位置相对应;以刻蚀阻挡层为掩膜板刻蚀形成贯穿压印胶和中间膜层的第二过孔,以使第一导电结构局部暴露;第二过孔包括开设在压印胶中的第一子过孔和开设在中间膜层中的纳米过孔阵列。该制备方法能够减少或避免出现过孔
阵列基板及其制备方法和显示装置.pdf
本发明属于显示技术领域,具体涉及一种阵列基板、阵列基板的制备方法和显示装置。该阵列基板包括依次设置在基板上的第一膜层和第二膜层,所述第二膜层划分为第二膜层去除区和第二膜层保留区,所述第一膜层在对应着所述第二膜层去除区的区域设置有垫高部。本发明中的阵列基板,能有效解决在阵列基板制备工艺中某一层图形在湿法刻蚀过程中,因存在刻蚀液和图形材料在一些封闭空间或两线形成的狭窄间隙内容易出现浸润不够彻底,影响最终的阵列基板的良率的问题。