一种电子电路盲孔通孔共镀的电镀液及配方.pdf
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一种电子电路盲孔通孔共镀的电镀液及配方.pdf
本发明公开了一种电子电路盲孔通孔共镀的电镀液及配方,属于电子电路电镀技术领域,涉及电路板、IC封装基板或陶瓷通孔及玻璃通孔(TGV)互连技术领域。提供了一种电子电路盲孔通孔共镀的整平剂及电镀液配方,能够在同一镀液中实现对盲孔的高填充率和对通孔的高抛射率,且电镀能耗低,孔口平整,孔内无空洞。所述电镀铜浴配方中均镀剂为5?巯基?4?对甲苯基?4氢?3?羟基?1,2,4?三唑化合物与1?(4?羟基苯基)?5?巯基?四氮唑化合物的混合物等,该均镀剂在硫酸铜作为主盐镀液并加入抑制剂及加速剂条件下通过搅拌措施搭配合理
一种通盲孔共镀电镀液及电镀方法.pdf
本发明提供了一种通盲孔共镀电镀液及电镀方法。本发明的通盲孔共镀电镀液,所述电镀液包含A‑D组份,其中,所述A组份为无水硫酸铜;所述B组份为硫酸;所述C组份为氯化物;所述D组份选自聚二硫二丙烷磺酸钠、3‑巯基丙烷磺酸钠、N,N‑二甲基二硫代羰基丙烷磺酸钠、异硫脲丙磺酸内盐和3‑(苯骈噻唑‑2‑巯基)‑丙烷磺酸钠中的一种或至少两种的混合物。本发明的通盲孔共镀电镀液的总有机含碳量低,电镀铜的延展性和热冲击可靠性高,电镀时间短,工艺简单,电镀效率高,有效地提高了通孔和盲孔的电镀可靠性。
一种电子电路折镀改善方法与盲孔填铜镀液配方.pdf
本发明公开了一种电子电路折镀改善方法与盲孔填铜镀液配方,属于印制电路板技术领域。具体提供一种电镀铜浴及与其相关的折镀现象及改善方法。本发明中,使用抑制剂及组合添加剂整平剂和加速剂获得电镀铜浴在不同工艺条件下的折镀现象及其消除方法。此外,该电镀填孔用整平剂可作为电镀前处理酸洗缓蚀剂使用,进而可最大限度的减缓前处理工序完成后水洗不尽的危害,实现对下一道工序的无害,顺应绿色电镀工艺发展的趋势。因此,采用本发明所述电镀铜浴及改善折镀方法能够提高电子电路电镀铜浴稳定性及铜互连线品质,降低铜互连制作的成本,提升生产效
一种电镀线路板通孔盲孔的电镀液及电镀方法.pdf
本发明公开了一种电镀线路板通孔盲孔的电镀液,包括以下组分:五水硫酸铜160~180g/L,硫酸20~50g/L,氯离子0.05~0.07g/L,加速剂0.5~1.5g/L,抑制剂7~30g/L,整平剂10~30g/L,余量为水。本发明提供的电镀液,可用于线路板通孔和盲孔的电镀,特别是可以实现电路板上一槽内通孔盲孔的同时填孔电镀,减少电镀工序,提高生产效率。
一种可镀高纵横比通孔和盲孔的脉冲电镀光剂及其制备方法.pdf
本发明提供一种可镀高纵横比通孔和盲孔的脉冲电镀光剂及其制备方法,该脉冲电镀光剂包括聚乙二醇、聚二硫二丙烷磺酸钠、甲醛、脂肪胺与环氧乙烷加成物、交联聚酰胺、硫酸、亚乙基硫脉、十二烷磺酸钠、双苯磺酸酰亚胺、以及余量的水。本发明通过添加PEG20000改善低电流区光剂的走位能力,具体地,是通过PEG20000的运用改善阳极离子分解效率提高阳极迁移效率。通过加入的双苯磺酸酰亚胺添加细化镀层结晶,提高盲孔灌孔效果,改善盲孔镀层品质。