一种含硅烯量子点的硅氧烯及其制备方法.pdf
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一种含硅烯量子点的硅氧烯及其制备方法.pdf
提供了一种含硅烯量子点的硅氧烯薄膜及其制备方法,属于荧光功能纳米材料领域。将CaSi<base:Sub>2</base:Sub>与脱钙有机溶剂、过渡金属氯化物催化剂按比例混合均匀,酸洗后超声分散制备获得了镶嵌硅烯量子点的硅氧烯薄膜,这种硅氧烯薄膜厚度在1~2.5nm以下,硅烯量子点尺寸在2~5nm,并且在蓝光区域有很强的荧光发射性能,具有准直接带隙,显示了其在光电等领域良好的应用前景。
一种硅烯材料的制备方法.pdf
本发明公开了一种硅烯材料的制备方法,其步骤包括:1)在真空环境下,将适量硅蒸发沉积到过渡金属铱基底上;2)对整个样品进行退火处理,以使硅相互作用,在基底表面形成二维有序的膜状结构,硅原子成六角蜂窝状排布,形成一种新型的二维晶体材料——硅烯。这种新型材料类似于石墨烯,在未来信息电子学及器件开发研究方面具有广泛的应用潜力。
一种柔性三维石墨烯硅氧烯复合膜的制备方法.pdf
本发明的目的在于提供一种柔性三维石墨烯硅氧烯复合膜的制备方法,属于碳硅基复合膜材料的制备、表面功能化修饰和应用的技术领域,本发明采用氧化石墨、硅氧烯为原料,用海藻酸钠促使成膜,经流动自组装及乙二胺气相还原转换构筑石墨烯硅氧烯复合膜,此制备方法工艺先进,数据精确翔实,石墨烯硅氧烯复合膜呈黑色薄膜状,硅氧烯均相插层在石墨烯片层之间,形成三维分级孔隙结构;由石墨烯硅氧烯复合膜构筑的器件可以点亮1.5V的发光二极管;器件的最大功率密度为4000W,对应的能量密度为16.33W?h?Kg<base:Sup>?1</
一种石墨烯量子点及其制备方法.pdf
本发明提供了一种石墨烯量子点的制备方法。与现有技术相比,本发明首先利用MgO作为模板,制备得到具有纳米晶界尺度的多孔石墨烯,然后采用硫酸和硝酸混合物对上述多孔石墨烯进行刻蚀,使得多孔石墨烯的晶界边缘处具有高活性的碳原子优先被刻蚀掉,从而将多孔石墨烯解体为石墨烯量子点,最后通过微孔过滤除去较大尺寸的残渣,通过透析除去盐离子,从而获得高纯度的石墨烯量子点,其中多孔石墨烯可以方便地在流化床反应器中实现批量生产,同时由于刻蚀过程中优先刻蚀掉了晶界边缘,刻蚀损失较小、刻蚀产生的石墨烯片段尺寸可控,从而提高了石墨烯量
一种硅掺杂石墨烯的制备方法.pdf
本发明公开了一种硅掺杂石墨烯的制备方法,包括步骤1,将石墨烯放入去离子水中,超声分散10‑30min,烘干后得到纯净的石墨烯;步骤2,将纯净的石墨烯放入无水乙醇中,密封反应30‑60min,得到石墨烯悬浊液;步骤3,将十二烷基硫酸钠加入至去离子水中,然后缓慢加入至石墨烯悬浊液中,形成稳定的分散液;步骤4,将硅酸乙酯缓慢滴加至分散液中,密封微波反应2‑4h,快速泄压后冷却得到硅掺杂沉淀;步骤5,将硅掺杂沉淀放入马弗炉中还原反应烧结10‑15h,冷却后得到硅掺杂石墨烯材料;步骤6,将硅掺杂石墨烯材料放入无水乙