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多腔室半导体设备.pdf

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本发明涉及半导体制造设备技术领域,更具体的说,涉及一种多腔室半导体设备。本发明提供的多腔室半导体设备,包括过渡管路,可通断地与吹扫管路、第一反应源管路、第二反应源管路连接,将通入的气体排出设备;吹扫管路,可通断地与第一吹扫源、第二吹扫源连接,选择接入第一吹扫源或第二吹扫源的吹扫气体;第一反应源管路,通过阀门在第一反应空间、第二反应空间和过渡管路之间进行选择切换;第二反应源管路,通过阀门在第一反应空间、第二反应空间和过渡管路之间进行选择切换。本发明将高流量吹扫气体和低流量吹扫气体持续性地流入吹扫管路,实现吹扫气体和反应源交替进入腔体,一方面减少吹扫死区,另一方面可以快速注入和快速吹扫。