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镀膜设备及其控制方法.pdf

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本申请涉及一种镀膜设备及其控制方法,包括反应腔和抽气系统,反应腔具有排气部,抽气系统包括排气管阀组件、第一泵体及第二泵体,第一泵体的入口侧和第二泵体的入口均经由排气管阀组件连接至排气部,第一泵体的出口侧连通大气,其中,第二泵体的真空度大于第一泵体的真空度,且第二泵体的出口侧经由排气管阀组件连接至第一泵体的入口侧。本申请通过第二泵体能够实现较高真空度的要求,强化反应腔内挥发性有机物质、湿气等杂质的抽离,提高反应腔的洁净度,减小薄膜中的杂质含量,提高所制备的薄膜质量。同时,第一泵体的设置不仅可以降低第二泵体的负载、且进行预抽气,提高第二泵体的使用寿命,避免第二泵体过载而影响抽真空。