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具有下吹管线的原子层沉积设备.pdf
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夏萍****文章
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具有下吹管线的原子层沉积设备.pdf
本发明提供一种具有下吹管线的原子层沉积设备,主要包括一真空腔体、一轴封装置及一驱动单元,其中驱动单元经由轴封装置连接真空腔体,并带动真空腔体转动。真空腔体包括一反应空间及一下吹管线,其中反应空间用以容置复数颗粉末,而下吹管线则连接反应空间,并朝向反应空间的底部。至少一非反应气体输送管线位于轴封装置内,用以连接下吹管线,并经由下吹管线将一非反应气体输送至反应空间内,以吹动沉积在反应空间的底部的粉末,以利于在粉末的表面形成厚度均匀的薄膜。
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本发明涉及原子层沉积设备技术领域，涉及一种原子层沉积设备，其包括反应室、基片架、承载装置和供气装置；承载装置包括承载件和旋转组件，承载件可转动地容置于反应腔内，基片架设于承载件上，旋转组件分别连接于反应室和承载件并用于驱动承载件旋转；供气装置包括进气组件和排气组件，进气组件和排气组件分别连通于反应腔，且进气组件用于朝向基片架输送反应气体，排气组件用于排出反应腔内的尾气。在本实施例的原子层沉积设备中，通过设置承载装置和供气装置配合，可以在一次加工过程中驱使基片架与多种不同的反应物接触反应，并且无需再经历冲洗
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本文提供用于清洁原子层沉积腔室的方法及设备。在一些实施方式中，腔室盖组件包含：外壳，外壳围绕中央通道，中央通道沿着中心轴延伸且具有上部分及下部分；盖板，盖板耦接至外壳且具有轮廓底表面，轮廓底表面从中央开口向下及向外延伸至盖板的周边部分，中央开口耦接至中央通道的下部分；第一加热元件，第一加热元件加热所述中央通道；第二加热元件，第二加热元件加热盖板的底表面；远程等离子体源，远程等离子体源流体地耦接至中央通道；及隔离套管，隔离套管耦接在远程等离子体源与外壳之间，其中隔离套管具有内通道，内通道延伸穿过隔离套管以流
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本发明的实施例提供了用于例如等离子体增强ALD（PE-ALD）的原子层沉积（ALD）的设备。在一个实施例中，提供了莲喷头组件，其包括莲喷头板，该莲喷头板具有上表面、下表面、从莲喷头板的中心向外边缘延伸的半径，与上表面和下表面流体相通的第一多个孔和与上表面和下表面流体相通的第二多个孔，第一多个孔位于第一区域内，第一区域从莲喷头板的中心延伸到莲喷头板的半径的约25%，并且每个孔具有小于0.1英寸的直径，第二多个孔位于第二区域内，第二区域从莲喷头板的半径的约25%延伸到大约莲喷头板的外边缘，并且每个孔具有大于0
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