用于光刻设备的控制系统和方法.pdf
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相关资料
用于光刻设备的控制系统和方法.pdf
一种用于在第一时基中的第一开始时间值初始化第一模块(120)中的第一操作的方法,该方法包括生成时钟信号(402,116),基于该时钟信号(116)在第一模块(120)中生成第二时基(403),确定第二时基中的第二同步值(405),确定与第二时基中第二同步值对应的第一时基中的第一同步值(406),基于第一时基中的第一同步值和开始时间值确定第二时基中的开始触发值(410),并基于第一模块(120)中第二时基的开始触发值和当前值来初始化第一模块(120)中的第一操作(411)。
光刻设备和用于形成光刻胶图案的方法.pdf
提供了光刻设备和用于形成光刻胶图案的方法。该光刻设备包括清洁目标衬底的清洁单元、干燥从清洁单元提供的目标衬底的干燥单元以及通过在从干燥单元提供的目标衬底上涂布光刻胶来形成光刻胶层的涂布单元。干燥单元包括对目标衬底执行真空处理的第一真空单元。
光刻机及光刻机的控制方法和控制系统、生产设备.pdf
本申请实施例提供一种光刻机及光刻机的控制方法和控制系统、生产设备,涉及半导体技术领域,光刻机的控制系统包括检测单元、加热单元以及控制单元。本申请实施例通过在光刻机内设置检测单元、加热单元以及控制单元,当控制单元判断出晶圆在光刻机内完成曝光工艺后的停留时间大于预设时长时,会控制加热单元对晶圆进行加热,及时地处理晶圆上光刻胶表面残留水滴,防止残留水滴在光刻胶上造成缺陷,提高晶圆的良率。
立体光刻设备以及用于校准立体光刻设备的方法.pdf
一种立体光刻设备包括构建平台(8),所述构建平台(8)经由球形接头(12)连接至可运动的框架(11)。所述球形接头(12)允许所述构建平台的沿所有方向的有限范围的运动。锁定机构(13)被构造成固定地锁定所述球形接头(12),用以校准所述构建平台(8)的相对于所述曝光装置(6)的取向角,以使得所述构建平台的下表面(9)平行于所述曝光装置(6)的第二上表面(7)。所述球形接头(12)包括附接至所述构建平台(8)的球形构件(14)以及连接至所述框架(11)的承窝构件(16;16‑1,16‑2)。竖直引导件(18
光刻设备和方法.pdf
本发明涉及一种光刻设备(100B),其具有光学元件(202),与所述光学元件(202)耦连的接口(204),与所述接口(204)分开的构件(208),所述构件直接地以形状配合和/或力配合方式与所述光学元件(202)连接,其中,所述光学元件(202)具有啮合部段(210)并且所述构件(208)具有对应啮合部段(232),所述对应啮合部段设置为啮合到所述啮合部段(210)中,以便把所述构件(208)以形状配合和/或力配合方式与所述光学元件(202)连接。