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一种半球谐振子的湿法刻蚀方法.pdf
2023-04-17
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光誉****君哥
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一种半球谐振子的湿法刻蚀方法.pdf
本发明公开了一种半球谐振子的湿法刻蚀方法,步骤依次为:清洗,1#刻蚀液刻蚀,中和,用去离子水清洗,清洗,2#刻蚀液刻蚀,干燥,最后测试半球谐振子的Q值和频率裂解,若Q值上升幅度不明显则停止刻蚀,否则继续重复直至Q值上升幅度不明显或达到要求为止;本发明方法适用于普通磨削成型的谐振子刻蚀,谐振子无需前期抛光处理,即可通过湿法刻蚀将表面粗糙度从Ra(0.2～1.0)微米降低至Ra0.2微米以下,而且刻蚀均匀性好,Q值高。
2023-04-17
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一种湿法刻蚀设备及方法.pdf
本发明公开了一种湿法刻蚀设备及方法，用于提高湿法刻蚀系统的工艺工程能力，降低出现产品不良的概率。其中，所述湿法刻蚀设备包括多个并列的腔体压力喷射单元(30)，每一个腔体压力喷射单元(30)包括传动轮(301)、调节装置(302)、并排设置的多个腔体(303)以及设置在腔体(303)上的喷嘴(304)，其中：所述传动轮(301)，用于放置待刻蚀基板；所述腔体(303)，用于在预设的刻蚀时间内，将药液通过所述喷嘴(304)压出，溅射到所述待刻蚀基板上；所述调节装置(302)，用于在所述腔体(303)将药液通过
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本发明提供一种湿法刻蚀机，包括：刻蚀腔，所述刻蚀腔内设置有多个滚轮，所述滚轮用于承载待刻蚀的基板且通过转动带动所述基板移动；第一喷淋装置，与所述滚轮相对设置，用于向所述基板表面喷淋刻蚀液，使所述基板表面的薄膜层形成预设图案；第二喷淋装置，设置于所述刻蚀腔的刻蚀出口处，用于向所述刻蚀出口喷淋清洗液以溶解所述刻蚀出口处附着的所述刻蚀液；挡板，设置于所述第一喷淋装置与所述第二喷淋装置之间，用于遮挡喷向所述第一喷淋装置一侧的所述清洗液；所述第二喷淋装置分别位于所述刻蚀腔内部与外部，用于从所述刻蚀腔内外两侧共同向所
2023-08-30
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