一种湿法刻蚀设备及方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102629549A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102629549A(43)申请公布日2012.08.08(21)申请号201110145769.9(22)申请日2011.06.01(71)申请人北京京东方光电科技有限公司地址100176北京市大兴区经济技术开发区西环中路8号(72)发明人吴健(74)专利代理机构北京同达信恒知识产权代理有限公司11291代理人黄志华(51)Int.Cl.H01L21/00(2006.01)权利要求书权利要求书2页2页说明书说明书66页页附图附图44页(54)发明名称一种湿法刻蚀设备及方法(57)摘要本发明公开了一种湿法刻蚀设备及方法，用于提高湿法刻蚀系统的工艺工程能力，降低出现产品不良的概率。其中，所述湿法刻蚀设备包括多个并列的腔体压力喷射单元(30)，每一个腔体压力喷射单元(30)包括传动轮(301)、调节装置(302)、并排设置的多个腔体(303)以及设置在腔体(303)上的喷嘴(304)，其中：所述传动轮(301)，用于放置待刻蚀基板；所述腔体(303)，用于在预设的刻蚀时间内，将药液通过所述喷嘴(304)压出，溅射到所述待刻蚀基板上；所述调节装置(302)，用于在所述腔体(303)将药液通过所述喷嘴(304)压出之前，调节药液的压力和流量达到预设的工艺条件。CN1026954ACN102629549A权利要求书1/2页1.一种湿法刻蚀设备，其特征在于，包括多个并列的腔体压力喷射单元(30)，每一个腔体压力喷射单元(30)包括传动轮(301)、调节装置(302)、并排设置的多个腔体(303)以及设置在腔体(303)上的喷嘴(304)，其中：所述传动轮(301)，用于放置待刻蚀基板；所述腔体(303)，用于在预设的刻蚀时间内，将药液通过所述喷嘴(304)压出，溅射到所述待刻蚀基板上；所述调节装置(302)，用于在所述腔体(303)将药液通过所述喷嘴(304)压出之前，调节药液的压力和流量达到预设的工艺条件。2.如权利要求1所述的的湿法刻蚀设备，其特征在于，腔体压力喷射单元(30)还包括支撑装置(305)和驱动装置(306)，其中：所述支撑装置(305)，用于支撑并排设置的多个腔体(303)，并在预设的刻蚀时间内，在所述驱动装置(306)的驱动下带动多个腔体(303)在预设的刻蚀区间内摆动；所述驱动装置(306)，用于在预设的刻蚀时间内，驱动所述支撑装置(305)在预设的刻蚀区间内摆动。3.如权利要求2所述的湿法刻蚀设备，其特征在于，所述驱动装置(306)包括电机(3061)，拨片(3062)，反向传感器(3063)，减速传感器(3064)，其中：所述电机(3061)，用于通过自身的转动驱动所述支撑装置(305)在预设的刻蚀区间内摆动，并驱动所述拨片(3062)运动，当所述拨片(3062)在所述电机(3061)的驱动下运动到所述反向传感器(3063)所在位置时，所述电机(3061)改变转动方向；当所述拨片(3062)在所述电机(3061)的驱动下运动到所述减速传感器(3064)所在位置时，所述电机(3061)降低转动速度至预设值。4.如权利要求1、2或3所述的湿法刻蚀设备，其特征在于，腔体(303)包括：药液腔(3031)，用于盛放药液；气体腔(3032)，用于盛放气体；以及在预设的刻蚀时间内，所述气体腔(3032)内的气体将所述药液腔(3031)内的药液通过喷嘴(304)压出，溅射到所述待刻蚀基板上。5.如权利要求4所述的湿法刻蚀设备，其特征在于，所述调节装置(302)包括气体调节装置(3021)和药液调节装置(3022)，其中：所述气体调节装置(3021)，用于调节所述气体腔(3032)内气体的压力和流量达到预设的工艺条件；所述药液调节装置(3022)，用于调节所述药液腔(3031)内药液的压力和流量达到预设的工艺条件。6.如权利要求1所述的湿法刻蚀设备，其特征在于，所述腔体压力喷射单元(30)，还包括：药液压力测量装置(307)，用于实时测量所述药液腔(3031)内药液的压力；和/或药液流量测量装置(308)，用于实时测量所述药液腔(3031)内药液的流量。7.如权利要求1所述的湿法刻蚀设备，其特征在于，所述腔体压力喷射单元(30)，还包括：气体压力测量装置(309)，用于实时测量所述气体腔(3032)内气体的压力；和/或2CN102629549A权利要求书2/2页气体流量测量装置(310)，用于实时测量所述气体腔(3032)内气体的流量。8.如权利要求4所述的湿法刻蚀设备，其特征在于，所述气体腔(3032)内盛放的气体为干燥空气。9.一种湿法刻蚀方法，其特征在于，包括：调节通过喷嘴压出的药液的压力和流量达到预设的工艺条件；在预