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半导体物理第六章PN结什么是PN结?PN结的典型工艺方法(1):杂质浓度从p区到n区逐渐变化,称为缓变结。PN结的形成机理(1):内电场作用促进少子的漂移运动,使N区的少子空穴向P区漂移,P区的少子电子向N区漂移,漂移运动的方向正好与扩散运动的方向相反。从N区漂移到P区的空穴补充了原来交界面上P区所失去的空穴,从P区漂移到N区的电子补充了原来交界面上N区所失去的电子,这就使空间电荷减少,内电场减弱。因此,漂移运动的结果是使空间电荷区变窄,扩散运动加强。最后,多子的扩散和少子的漂移达到动态平衡。在P型半导体和N型半导体的结合面两侧,留下离子薄层,这个离子薄层形成的空间电荷区称为PN结。PN结的内电场方向由N区指向P区。在空间电荷区,由于基本上没有自由载流子,所以也称耗尽层。P、n两侧空间电荷总数相同,对外保持整体的电中性。两个半导体结合成pn结时,电子从费米能级高的n区流向费米能级低的p区,空穴从p区流到n区。EFn不断下移(事实上,费米能级是随着n区能带下移),EFp不断上移,直到EFn=Efp。这时PN结具有有统一费米能级Ef,PN结处于平衡状态PN结费米能级处处相等标志PN结达到动态平衡,无扩散、漂移电流流过。电流密度方程式推导动态平衡时本征费米能级Ei的变化与电子的电势能-qV(x)的变化一致,所以:PN结接触电势差nn0、np0分别为平衡时n、p区的电子浓度对于非简并半导体可得:和PN结两边的掺杂浓度、温度、材料的禁带宽度有关。在一定的温度下,突变结两边掺杂浓度越高,接触电势差越大;禁带宽度越小,越小,越大。平衡时的pn结,取p区电势为零,则势垒区中一点x的电势V(x)正值,x点的电势能为E(x)=-qV(x)因为E(x)=-qV(x)同理,X点空穴浓度为,X处电子浓度:势垒区载流子浓度的估计:由上述数据可以看出,对于绝大多数势垒区,其中杂质虽然的都已电离,但是载流子浓度想对于n区和p区的多子浓度小得多,好像已经耗尽了。所以通常称势垒区为耗尽层,即认为其中载流子浓度很小,可以忽略不计,所以,空间电荷密度就等于电离杂质密度。pn结的单向导电性外加正向电压下,pn结势垒变化和载流子运动:加正向偏压时,电子扩散np,空穴扩散pn;电子通过势垒区在边界PP’处积累,PP’处电子浓度大于P区电子浓度,形成向P区的电子扩散流。(空穴一样)非平衡少子在扩散过程中,不断与多子复合,直到复合完毕,这段区域称为扩散区域。在正向偏压一定时,单位时间从n区扩散到PP’处的非平衡少子浓度是一定的,并在扩散区形成稳定的分布,因此非平衡少子扩散流不变。增大正向偏压时,势垒降得更低,增大了流入p区的电子流和流入n区的空穴流。通过pn结的总电流=通过边界PP’的电子扩散电流+通过边界nn’的空穴扩散电流正向偏压下pn结的能带图正向偏压下的特征:P、n区具有各自的费米能级Efn、Efp;有净电流流过pn结;正向偏压下,势垒降低qV;qV=Efn-Efp;Efn位置高于EFP外加反向电压下,pn结势垒变化和载流子运动:反向偏压下pn结的能带结构谢谢观看