一种离子源维护装置及离子源维护方法.pdf

本发明涉及离子束溅射镀膜技术领域，尤其涉及一种离子源维护装置及离子源维护方法，通过插板阀将离子源维护腔与真空腔体分隔设置，在不将真空腔体暴露于大气环境下对离子源进行维护，避免了真空腔体的污染；并且由于离子源外侧加装了隔离保护套，使得射频离子源不会干扰腔体内带电粒子的正常运动，在进行镀膜工艺时离子源可在真空腔体内部进行移动，可调节靶源距离，改变束斑大小和束流空间分布，进而调节薄膜沉积质量和空间分布情况。

2024-01-10

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离子源装置.pdf

本申请涉及一种离子源装置，包括：一霍尔离子源以及至少两个中空阴极；各个所述中空阴极设于距离所述霍尔离子源一设定位置处；各个所述中空阴极设计为所述霍尔离子源提供中和电子，且在其中任何一个中空阴极失效时，切换至其他中空阴极向所述霍尔离子源提供中和电子。本申请的技术方案，实现了中空阴极的备份功能，避免了在镀膜使用过程中，当中空阴极的钽管使用寿命结束时出现最后一炉费炉或需要重新破真空更换钽管的情况，从而可以将中空阴极的钽管使用寿命最大化，实现离子源长时间不间断工作。避免中和器失效导致产品报废的情况。

2023-06-16

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离子源、质谱仪、离子源控制方法.pdf

本发明的目的在于提供一种能够准确且高效地掌握毛细管下游侧的前端位置是否适当的离子源及其控制方法。本发明的离子源在未对毛细管导入试样时,测量电源对毛细管施加电压而产生的电流,在上述电流处于容许范围内的情况下,输出表示上述毛细管的露出量适当的意思的露出量信息,在不处于上述容许范围内的情况下,输出表示上述突出量不适当的意思的上述突出量信息(参照图1)。

2023-05-09

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一种离子源栅网及离子源.pdf

本发明公开了一种离子源栅网,所述栅网包括若干等分区域,所述若干等分区域由栅网的圆心为起点,每个等分区域自圆心形成的扇形角度为(360/n)<base:Sup>o</base:Sup>,n为1?12间的正整数,每个等分区域内设置有若干密排的孔洞,且每个等分区域的边界上的孔洞与其相邻的等分区域共享,本发明优化的密排孔洞设计,使得其同时在径向和轴向具有连续的孔洞面积分布,消除非连续性边界对离子体密度分布均匀性的影响;同时,采用优化的轴向孔洞面积分布,进一步地提高了离子体密度分布的均匀性。

2023-05-17

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质谱仪离子源喷雾装置.pdf

本发明公开了一种质谱仪离子源喷雾装置，包括：内导管，用于通入离子源液体；外导管，用于通入气体；超声换能片，用于对离子源液体进行雾化处理以形成雾化颗粒；雾化喷嘴以及腔体；腔体分别与内导管和雾化喷嘴连通，外导管与雾化喷嘴连通，超声换能片设置在腔体内部；气体用于通过雾化喷嘴调整喷出的雾化颗粒流的形状。该装置还包括：MCU与外部接口电连接；MCU与液位检测电路、液位电极依次串联，液位电极设置在腔体内；MCU与升压电路、谐振电路依次串联，谐振电路与超声换能片电连接；喷雾装置中设置有超能换能片对离子源液体进行雾化处理

2023-06-25

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