离子源装置.pdf
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相关资料
离子源装置.pdf
本申请涉及一种离子源装置,包括:一霍尔离子源以及至少两个中空阴极;各个所述中空阴极设于距离所述霍尔离子源一设定位置处;各个所述中空阴极设计为所述霍尔离子源提供中和电子,且在其中任何一个中空阴极失效时,切换至其他中空阴极向所述霍尔离子源提供中和电子。本申请的技术方案,实现了中空阴极的备份功能,避免了在镀膜使用过程中,当中空阴极的钽管使用寿命结束时出现最后一炉费炉或需要重新破真空更换钽管的情况,从而可以将中空阴极的钽管使用寿命最大化,实现离子源长时间不间断工作。避免中和器失效导致产品报废的情况。
质谱仪离子源喷雾装置.pdf
本发明公开了一种质谱仪离子源喷雾装置,包括:内导管,用于通入离子源液体;外导管,用于通入气体;超声换能片,用于对离子源液体进行雾化处理以形成雾化颗粒;雾化喷嘴以及腔体;腔体分别与内导管和雾化喷嘴连通,外导管与雾化喷嘴连通,超声换能片设置在腔体内部;气体用于通过雾化喷嘴调整喷出的雾化颗粒流的形状。该装置还包括:MCU与外部接口电连接;MCU与液位检测电路、液位电极依次串联,液位电极设置在腔体内;MCU与升压电路、谐振电路依次串联,谐振电路与超声换能片电连接;喷雾装置中设置有超能换能片对离子源液体进行雾化处理
一种离子源维护装置及离子源维护方法.pdf
本发明涉及离子束溅射镀膜技术领域,尤其涉及一种离子源维护装置及离子源维护方法,通过插板阀将离子源维护腔与真空腔体分隔设置,在不将真空腔体暴露于大气环境下对离子源进行维护,避免了真空腔体的污染;并且由于离子源外侧加装了隔离保护套,使得射频离子源不会干扰腔体内带电粒子的正常运动,在进行镀膜工艺时离子源可在真空腔体内部进行移动,可调节靶源距离,改变束斑大小和束流空间分布,进而调节薄膜沉积质量和空间分布情况。
离子源移动装置及离子植入装置.pdf
本发明涉及离子源移动装置及离子植入装置,目的在于能够令离子源平稳地升降,使对装置本体装卸离子源的作业的作业性提升。本发明的离子源移动装置是能对于要以在第一水平方向与装置本体对置的方式固定至装置本体且具有腔室的离子源,能够使该离子源以一边使离子源的重心升降并一边使相对于装置本体的倾斜度变化的方式移动;该离子源移动装置构成为具备:支持构件,能支持固定在腔室的外侧的第一被支持构件;可动构件,连结在支持构件;及升降机构,能一边限制可动构件往与既定的第二方向交叉的方向移动,并一边使可动构件沿第二方向升降移动。
离子源及装置产业分析报告.docx
离子源及装置产业分析报告离子源及装置产业分析报告目录TOC\h\zHYPERLINK\l_Toc2879概论PAGEREF_Toc2879\h3HYPERLINK\l_Toc7592一、离子源及装置危机管理与应对策略PAGEREF_Toc7592\h3HYPERLINK\l_Toc13405(一)、危机预警与应急计划PAGEREF_Toc13405\h3HYPERLINK\l_Toc16031(二)、公关与危机沟通PAGEREF_Toc16031\h4