钼铌合金靶材及其制备方法、黑化膜.pdf
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钼铌合金靶材及其制备方法、黑化膜.pdf
本发明涉及一种钼铌合金靶材及其制备方法、黑化膜。其中,钼铌合金靶材包括如下质量份的原料组分:钼45‑89.1份、铌5‑9.9份以及金属氧化物1‑50份;其中,所述金属氧化物选自氧化铝和氧化锌中的至少一种。上述钼铌合金靶材的原料组分配比合理,在传统的钼铌合金靶材的基础上,添加至少一种上述金属氧化物,经实验验证,经上述钼铌合金靶材最终制得的黑化膜可以减少或消除电子产品表面的反射光,增加透光量,减少杂散光吸收。
钼铌合金板靶材加工工艺.pdf
一种钼铌合金板靶材的加工工艺,按照如下步骤实施:(1)混合:将定量钼粉与铌粉各分为至少三小份,然后每小份钼粉与铌粉再分别混合成小份混合粉,每小份混合粉经过多次混合和过筛后,多个小份混合粉再合成为混合合金粉;然后再将混合合金粉至少分三组分别混料最后合成一起,再混料成为成分均匀的合金粉;(2)成型:经过等静压压成合金坯,进入高温中频炉在氢气保护下烧结,烧结温度分三个温区:0-800℃、800-1600℃、1600-2000℃并且每个温度区至少烧结3小时,最终烧成合金坯状;(3)锻造和轧制:再经过1200-14
一种钼合金靶材制备方法、钼合金靶材和应用.pdf
本发明属于粉末冶金技术领域,具体提供一种钼合金靶材及其制备方法和应用。所述钼合金靶材的制备方法包括如下步骤:配制原料:按照所述靶材各元素质量配比称取原料混合,以质量百分数计,所述靶材包括如下成分,Ni:10%~30%,Ti:5%~25%,W:1%~20%和Re:0.5%~5%,余量为Mo和不可避免的杂质,且Mo的质量百分比≥50%;冷等静压;热等静压;热轧;退火。本申请方法制备的靶材塑韧性好,变形能力好,晶粒细小均匀。用本申请制备的靶材溅射沉积的薄膜厚度分布更均匀,可通过溅射方式附着在电子部件用层叠配线膜
钼铌合金靶材的生产工艺.pdf
一种钼铌合金靶材的生产工艺,其特征在于:把高纯的钼粉和铌粉在混料机内混合均匀,铌粉和钼粉按照1:8-9的重量比置于混料机中,在1400~1900℃高温真空煅烧炉内煅烧成钼铌合金,把烧结块用油压机破碎成小块后在玛瑙球磨机中,在氦气保护下研磨。磨球配比为1/3,以公转600的微粉,在真空加压烧结装置中压制成型,压力12~25兆帕,在1450~2020℃压30~90分钟,得到靶坯。在磨床上修整得到成品靶材。本发明的方法工艺流程简单,易于实现工业化生产。无污染,制备过程不会产生任何废料、废酸等污染物。
一种钒钼合金靶材及其制备方法.pdf
本发明提供了一种钒钼合金靶材及其制备方法,该靶材由钒粉、钼粉及粘结剂制作组成,其中钒粉与钼粉的质量配比为99:1~90:10,所述钒粉与钼粉的纯度大于99.5%。该制备方法包括以下步骤:按比例称取钒粉与钼粉,并将两者充分混匀;将混匀的钒粉和钼粉加入粘结剂进一步混匀,并处理得到干燥的钒钼粉与粘结剂的复合粉末材料;将步骤(2)的复合粉末材料进行等离子喷涂操作;取下喷涂所得的构件,并对所述构件进行处理得到成品。本发明的钒钼合金靶材均匀性好,稳定性高。本发明的制备方法采用等离子喷涂方式简单易行,无需模具设计和昂贵