PECVD镀膜载板及镀膜设备.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114774888A(43)申请公布日2022.07.22(21)申请号202111162270.9(22)申请日2021.09.30(71)申请人苏州迈为科技股份有限公司地址215200江苏省苏州市吴江区经济开发区庞金路1801号庞金工业坊D02幢申请人苏州迈正科技有限公司(72)发明人孙健陈晨黄云岭杨杰申曌奉王青松(74)专利代理机构华进联合专利商标代理有限公司44224专利代理师刘宁(51)Int.Cl.C23C16/458(2006.01)C23C16/50(2006.01)C23C16/24(2006.01)权利要求书1页说明书7页附图4页(54)发明名称PECVD镀膜载板及镀膜设备(57)摘要本发明涉及一种PECVD镀膜载板和镀膜设备，包括托盘组件以及框架，其中托盘组件用于承载待镀基片；框架可拆卸地与托盘组件安装，框架用于支撑托盘组件，框架靠近所述托盘组件的一端具有多个间隔分布的凸台；托盘组件搭接于多个凸台，以使托盘组件与框架之间的接触区域呈矩阵状离散分布，通过上述设计，在保持镀膜载板的重量较轻，且保持镀膜载板的框架的强度较高的前提下，托盘组件悬浮搭接于框架，从而使托盘组件与框架之间的接触面积更进一步地减小，最大程度地减小了在镀膜过程中框架的支撑筋对托盘组件的温度影响，使托盘组件的温度分布更加均匀，进而能够保证镀膜后电池片的镀膜层更加均匀。CN114774888ACN114774888A权利要求书1/1页1.一种PECVD镀膜载板，其特征在于，包括：框架，所述框架的一侧表面凸设有多个凸台，所述多个凸台间隔分布；用于承载待镀基片的托盘组件，所述托盘组件搭接于多个所述凸台上，以使所述托盘组件与所述框架的接触区域呈离散分布。2.根据权利要求1所述的PECVD镀膜载板，其特征在于，所述框架包括两条边框和多条支撑筋，两条所述边框沿第一方向间隔设置，多条所述支撑筋沿垂直于所述第一方向的第二方向间隔排布，每条所述支撑筋连接于两条所述边框之间并沿所述第一方向延伸；多个所述凸台沿所述第一方向间隔排布于每条所述支撑筋上。3.根据权利要求2所述的PECVD镀膜载板，其特征在于，所述框架还包括至少一条加强筋，至少一条所述加强筋连接于两条相邻的所述支撑筋之间并沿所述第二方向延伸。4.根据权利要求1所述的PECVD镀膜载板，其特征在于，所述托盘组件远离所述框架的一侧设置有多个间隔分布的第一框格，每个所述第一框格包括底壁及自所述底壁边缘朝同一方向延伸形成的侧壁，所述侧壁沿周向围绕所述底壁以与所述底壁共同构造形成一端开口的容纳腔，所述容纳腔用于收容所述待镀基片。5.根据权利要求4所述的PECVD镀膜载板，其特征在于，所述底壁包括第一底壁和第二底壁，所述第一底壁相对所述容纳腔的开口端的距离小于所述第二底壁相对所述容纳腔的开口端的距离，所述第一底壁用于支撑所述待镀基片。6.根据权利要求5所述的PECVD镀膜载板，其特征在于，所述第一底壁沿周向环绕所述第二底壁。7.根据权利要求5所述的PECVD镀膜载板，其特征在于，所述第二底壁上凸设有至少一个支点，所述支点的一端距离所述第二底壁的高度小于或等于所述第一底壁距离所述第二底壁的高度。8.根据权利要求7所述的PECVD镀膜载板，其特征在于，多个所述支点呈矩阵形状布设于所述第二底壁，当所述待镀基片放置于所述第一底壁时，每个所述支点支撑于所述待镀基片的一个PAD点。9.根据权利要求4所述的PECVD镀膜载板，其特征在于，所述托盘组件具有环绕所有所述第一框格的边区，所述边区间隔地开设有多个第二框格。10.根据权利要求9所述的PECVD镀膜载板，其特征在于，每个所述第二框格的深度等于一个所述第一框格的深度，且相邻两个所述第二框格之间的间隔距离等于相邻两个所述第一框格之间的距离，相邻的所述第二框格与所述第一框格对齐设置。11.一种镀膜设备，其特征在于，包括如权利要求1至10中任一权利要求所述PECVD镀膜载板。2CN114774888A说明书1/7页PECVD镀膜载板及镀膜设备技术领域[0001]本发明涉及太阳能电池领域，特别是涉及一种异质结太阳能电池(HJT)制造的PECVD镀膜载板及镀膜设备。背景技术[0002]等离子体增强化学气相沉积(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition，PECVD)是一种被广泛应用于半导体及太阳能电池片领域的镀膜方法，待镀基片放置在载板表面，完成镀膜工艺。载板作为太阳能电池片镀膜工序中，装载电池片进入镀膜设备的一个装载用具，其材料由碳复合材料和石墨材料组成。载板具有用于放置硅片的框格，镀膜时，在框格内放置硅片，载板装载着硅片由输送设备进入镀膜设备，整个镀膜过程中，载板需要分别进入不同的腔体，