

PECVD镀膜载板及镀膜设备.pdf
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相关资料
PECVD镀膜载板及镀膜设备.pdf
本发明涉及一种PECVD镀膜载板和镀膜设备,包括托盘组件以及框架,其中托盘组件用于承载待镀基片;框架可拆卸地与托盘组件安装,框架用于支撑托盘组件,框架靠近所述托盘组件的一端具有多个间隔分布的凸台;托盘组件搭接于多个凸台,以使托盘组件与框架之间的接触区域呈矩阵状离散分布,通过上述设计,在保持镀膜载板的重量较轻,且保持镀膜载板的框架的强度较高的前提下,托盘组件悬浮搭接于框架,从而使托盘组件与框架之间的接触面积更进一步地减小,最大程度地减小了在镀膜过程中框架的支撑筋对托盘组件的温度影响,使托盘组件的温度分布更加
一种板式PECVD镀膜载板.pdf
本发明涉及一种板式PECVD镀膜载板,包括载板,所述载板包括框架和支撑板,所述框架上开设有若干用于承载支撑板的承载槽;所述支撑板与框架配合连接;在所述支撑板的内侧边缘设有支撑硅片的承载面。本发明可灵活更换不同尺寸支撑板对相应尺寸硅片镀膜,节省了不同尺寸载板采购成本和维护成本;承载槽内设置加强筋,抗形变能力强,从而减少硅片不良率。
一种PECVD镀膜机的载板升降组件.pdf
本发明提供一种PECVD镀膜机的载板升降组件,包括用于镀膜操作的真空炉腔,所述真空炉腔内设有至少两个与硅片相关的工位,硅片的烧制工位同时也是硅片的装载工位,硅片被通过平移机构装入镂空载板中,镂空载板包括多个,多个镂空载板在硅片的装载工位上下排列且等间距均布,形成硅片载具,单个镂空载板上至少设有一个镂空部位和一个安装部位,镂空部位位于镂空载板的中部,所述安装部位位于所述镂空载板的一侧,多个镂空载板的安装部位位于镂空载板的同一侧。本发明采用竖向送片和水平插片的方式,硅片和电极片的交替对插在真空炉腔内完成,对于
PECVD设备及其所用的PECVD镀膜方法.pdf
本发明提供PECVD设备及其所用的PECVD镀膜方法。该PECVD设备包括:外腔;设置在外腔内的内腔上盖;滚轮模块,其设置在外腔内并位于内腔上盖下方,其包括多个滚轮组、驱动多个滚轮组升降以在托盘接送位和托盘封闭位之间移动的第一驱动模块、驱动多个滚轮组转动从而驱动托盘水平移动的第二驱动模块;以及控制模块,其配置成控制第二驱动模块驱动多个滚轮组在托盘接送位接收水平送入外腔的托盘并将其水平传送到位,并在到位后控制第一驱动模块向上驱动多个滚轮组使其进入托盘封闭位而顶推其所支撑的托盘在边缘处与内腔上盖相压靠,从而形
镀膜修正板及镀膜装置.pdf
一种镀膜修正板,其包括一个遮挡面、两个相对转动设置的遮挡片及一个活动设置在所述两个遮挡片之间的调整元件。所述两个遮挡片共同配合决定所述遮挡面的外轮廓。所述调整元件用于驱动所述两个遮挡片相对转动以改变所述遮挡面的外轮廓。本发明的镀膜修正板,可通过驱动所述两个遮挡片相对转动改变所述遮挡面的的外轮廓,使之适用于多种被镀件,提高通用性。本发明还提供一种具有上述镀膜修正板的镀膜装置。