

PECVD设备及其所用的PECVD镀膜方法.pdf
An****70
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PECVD设备及其所用的PECVD镀膜方法.pdf
本发明提供PECVD设备及其所用的PECVD镀膜方法。该PECVD设备包括:外腔;设置在外腔内的内腔上盖;滚轮模块,其设置在外腔内并位于内腔上盖下方,其包括多个滚轮组、驱动多个滚轮组升降以在托盘接送位和托盘封闭位之间移动的第一驱动模块、驱动多个滚轮组转动从而驱动托盘水平移动的第二驱动模块;以及控制模块,其配置成控制第二驱动模块驱动多个滚轮组在托盘接送位接收水平送入外腔的托盘并将其水平传送到位,并在到位后控制第一驱动模块向上驱动多个滚轮组使其进入托盘封闭位而顶推其所支撑的托盘在边缘处与内腔上盖相压靠,从而形
PECVD镀膜载板及镀膜设备.pdf
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一种双面镀膜方法及管式PECVD设备.pdf
本发明实施例提供一种双面镀膜方法及管式PECVD设备,方法包括:从上下料工位将装有电池片的石墨舟载具送入设有一个镀膜源的反应室中;检测电池片的第一待镀表面为正面或背面,控制调整镀膜条件为第一镀膜条件,并在第一待镀表面上沉积形成第一膜层;从石墨舟载具上取出电池片,进行翻转后,将电池片插入石墨舟载具中;控制调整镀膜条件为第二镀膜条件,并在第二待镀表面上沉积形成第二膜层;其中,第一待镀表面和第二待镀表面分别为电池片的正面和背面,第一镀膜条件和第二镀膜条件不相同;将装有电池片的石墨舟载具从反应室内输出至上下料工位
PECVD设备的加热系统、加热控制方法及PECVD设备.pdf
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基于PECVD的增强型石墨烯薄膜镀膜设备及方法.pdf
本发明公开一种基于PECVD的增强型石墨烯薄膜镀膜设备及方法,该设备的多个真空室包括依次连接的放卷室、多个镀膜室和收卷室;每个镀膜室中,泡沫镍基材的上下两侧分别设有射频放电板和等离子体磁控增强装置;其方法是在各镀膜室中,开启射频放电板进行放电,产生等离子体,等离子体磁控增强装置在射频放电板下方形成一个闭环回路磁场,等离子体在磁场作用下进行螺旋旋转运动,从而增大等离子体密度,在泡沫镍基材表面沉积膜层。本发明实现等离子气体的化学反应速度增大,沉积的膜层厚度也大大增加,可达到传统镀膜设备所制得膜厚的4~8倍。同