混合渲染装置和方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN101923727A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CNCN101923727101923727A(43)申请公布日2010.12.22(21)申请号201010200612.7(22)申请日2010.06.08(30)优先权数据10-2009-00512832009.06.10KR(71)申请人三星电子株式会社地址韩国京畿道水原市(72)发明人安民修高永仁河仁友安廷桓(74)专利代理机构北京铭硕知识产权代理有限公司11286代理人韩明星罗延红(51)Int.Cl.G06T15/00(2006.01)权利要求书2页说明书7页附图9页(54)发明名称混合渲染装置和方法(57)摘要本发明提供一种混合渲染装置和方法。公开了一种混合可扩展渲染装置及其方法。混合可扩展渲染装置可以根据用于渲染的目标对象的材料性质、目标对象和给定的相机位置之间的距离、硬件的性能等选择性地应用栅格化渲染、辐射度渲染、光线跟踪渲染中的至少一种。混合渲染装置包括：确定单元，选择用于执行3D渲染的渲染方案；第一渲染单元，根据第一渲染方案通过表现直接光来执行3D渲染；第二渲染单元，根据第二渲染方案通过表现间接光和阴影中的至少一种来执行3D渲染；第三渲染单元，根据第三渲染方案通过表现反射光、折射光、衍射光中的至少一种来执行3D渲染。CN109237ACN101923727ACCNN110192372701923728A权利要求书1/2页1.一种混合渲染装置，包括：确定单元，选择用于执行3D渲染的渲染方案；第一渲染单元，根据第一渲染方案通过表现直接光来执行3D渲染；第二渲染单元，根据第二渲染方案通过表现间接光和阴影中的至少一种来执行3D渲染；第三渲染单元，根据第三渲染方案通过表现反射光、折射光、衍射光中的至少一种来执行3D渲染。2.如权利要求1所述的装置，其中，确定单元基于用于渲染的目标对象的材料性质来选择渲染方案。3.如权利要求1所述的装置，其中，确定单元基于硬件的性能来选择渲染方案。4.如权利要求1所述的装置，其中，第一渲染方案是通过将矢量数据转换为像素图案图像以执行渲染的栅格化渲染。5.如权利要求1所述的装置，其中，第二渲染方案是基于光源、对象之间的光、漫射的光中的至少一种以执行渲染的辐射度渲染。6.如权利要求1所述的装置，其中，第三渲染方案是通过跟踪从对象的表面反射的光线的路径以执行渲染的光线跟踪渲染。7.如权利要求1所述的装置，其中，确定单元包括：渲染方案选择单元，从第一渲染方案、第二渲染方案、第三渲染方案中选择至少一种渲染方案；第一参数调节单元，调节用于辐射度渲染的面片或采样点的尺寸、面片或采样点的数量；第二参数调节单元，调节用于光线跟踪的掩模的产生、反射反弹的次数、折射反弹的次数。8.如权利要求7所述的装置，其中，第二参数调节单元包括：掩模产生调节单元，确定用于光线跟踪的掩模的像素值；反射次数调节单元，调节反射反弹的次数和折射反弹的次数中的至少一种。9.如权利要求8所述的装置，其中，掩模产生调节单元将用于产生光线的区域的像素值设置为第一设置值，并将不产生光线的区域的像素值设置为第二设置值。10.一种混合渲染方法，包括如下步骤：选择用于执行3D渲染的渲染方案；根据第一渲染方案来表现直接光；根据第二渲染方案来表现间接光和柔和的阴影中的至少一种；根据第三渲染方案来表现反射光、折射光、衍射光中的至少一种。11.如权利要求10所述的方法，其中，选择步骤基于用于渲染的目标对象的材料性质来选择渲染方案。12.如权利要求10所述的方法，其中，选择步骤基于硬件的性能来选择渲染方案。13.如权利要求10所述的方法，其中，第一渲染方案是通过将矢量数据转换为像素图案图像以执行渲染的栅格化渲染。14.如权利要求10所述的方法，其中，第二渲染方案是基于光源、对象之间的光、漫射2CCNN110192372701923728A权利要求书2/2页的光中的至少一种以执行渲染的辐射度渲染。15.如权利要求10所述的方法，其中，第三渲染方案是通过跟踪从对象的表面反射的光线的路径以执行渲染的光线跟踪渲染。16.如权利要求10所述的方法，其中，选择步骤包括如下步骤：从第一渲染方案、第二渲染方案、第三渲染方案中选择至少一种渲染方案；调节用于辐射度渲染的面片或采样点的尺寸、面片或采样点的数量；调节用于光线跟踪的掩模的产生、反射反弹的次数、折射反弹的次数。17.如权利要求16所述的方法，其中，调节掩模的产生、反射反弹的次数、折射反弹的次数的步骤包括如下步骤：通过确定用于光线跟踪的掩模的像素值来产生掩模；调节反射反弹的次数和折射反弹的次数中的至少一种。18.如权利要求17所述的方法，其中，产生掩模的步骤包括：将用于产生光线的区域的像素值设置为第一设置值；将不