一种卡通风格光影渲染方法、装置、设备及介质.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107749077A(43)申请公布日2018.03.02(21)申请号201711090180.7(22)申请日2017.11.08(71)申请人米哈游科技（上海）有限公司地址201802上海市嘉定区陈翔路768号6幢B区2276室(72)发明人蒙畅(74)专利代理机构北京品源专利代理有限公司11332代理人孟金喆(51)Int.Cl.G06T15/50(2011.01)权利要求书2页说明书8页附图5页(54)发明名称一种卡通风格光影渲染方法、装置、设备及介质(57)摘要本发明实施例公开了一种卡通风格光影渲染方法、装置、设备及介质。该方法包括：分别计算漫反射强度和高光强度；对所述漫反射强度进行偏移，根据偏移之后的漫反射强度确定明暗区域；对所述高光强度进行偏移，根据偏移之后的高光强度确定高光区域；合成所述明暗区域和所述高光区域，得到光影渲染图。本发明实施例实现了对光影的渲染，并且采用偏移的方式实现了对光影的调整，使得光影更加可控和美观，相较于将漫反射区域和高光区域固定的方式只能满足一个光照方向的光影渲染，可以满足多个光照方向的渲染。CN107749077ACN107749077A权利要求书1/2页1.一种卡通风格光影渲染方法，其特征在于，包括：分别计算漫反射强度和高光强度；对所述漫反射强度进行偏移，根据偏移之后的漫反射强度确定明暗区域；对所述高光强度进行偏移，根据偏移之后的高光强度确定高光区域；合成所述明暗区域和所述高光区域，得到光影渲染图。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，计算漫反射强度包括：根据漫反射强度计算公式计算漫反射强度：Diffuse＝L·N×0.5+0.5，其中Diffuse是漫反射强度，L是光照方向，N是待渲染平面的法线方向。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，计算高光强度包括：根据高光强度计算公式计算高光强度：其中Specular是高光强度，L是光照方向，N待渲染平面的法线方向，V是摄像机方向，S是高光参数。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对所述漫反射强度进行偏移，根据偏移之后的漫反射强度确定明暗区域包括：使用Lightmap贴图R通道与顶点颜色的R通道的乘积对漫反射强度作偏移；对偏移之后的漫反射强度进行二值化，得到明暗区域中的明部和暗部。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对所述高光强度进行偏移，根据偏移之后的高光强度确定高光区域包括：使用Lightmap贴图G通道与顶点颜色的G通道的乘积对所述高光强度作偏移；对偏移之后的高光强度进行二值化，得到高光区域中的高光和非高光。6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述合成所述明暗区域和所述高光区域，得到光影渲染图包括：确定明部和暗部的颜色；在高光区域叠加上高光颜色，所述高光颜色由Lightmap贴图B通道与材质指定的高光颜色的乘积；根据明部、暗部及高光区域的颜色得到光影渲染图。7.一种卡通风格光影渲染装置，其特征在于，包括：强度计算模块，用于分别计算漫反射强度和高光强度；明暗区域确定模块，用于对所述漫反射强度进行偏移，根据偏移之后的高光强度确定明暗区域；高光区域确定模块，用于对所述高光强度进行偏移，根据偏移之后的高光强度确定高光区域；光影渲染图获取模块，用于合成所述明暗区域和所述高光区域，得到光影渲染图。8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述强度计算模块具体用于：根据漫反射强度计算公式计算漫反射强度：Diffuse＝L·N×0.5+0.5，其中Diffuse是漫反射强度，L是光照方向，N是待渲染平面的法线方向。9.一种设备，其特征在于，包括：2CN107749077A权利要求书2/2页一个或多个处理器；存储装置，用于存储一个或多个程序，当所述一个或多个程序被所述一个或多个处理器执行，使得所述一个或多个处理器实现如权利要求1-6中任一所述的卡通风格光影渲染方法。10.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，该程序被处理器执行时实现如权利要求1-6任一所述的卡通风格光影渲染方法。3CN107749077A说明书1/8页一种卡通风格光影渲染方法、装置、设备及介质技术领域[0001]本发明实施例涉及渲染技术，尤其涉及一种卡通风格光影渲染方法、装置、设备及介质。背景技术[0002]3D技术现已被广泛应用于多媒体作品的制作中，相比于使用2D图画的技术，有着人力投入小、数据量小、表现方式灵活多样等优点。不过现在3D技术更多的是用在写实风格的作品中，在制作卡通风格时还面临着不少问题，其中一个主要问题是光影的渲染，光影主要指物体表面的明暗和高光。写实风格的光影可以根据模型的表面信息和光照的物理特性来计算，通常可以得到细节丰富、过渡细腻的