激光图案掩模及其制造方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102445837A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102445837A(43)申请公布日2012.05.09(21)申请号201010599529.1(22)申请日2010.12.13(30)优先权数据10-2010-00962202010.10.04KR(71)申请人乐金显示有限公司地址韩国首尔(72)发明人丘善朱崔竣皓(74)专利代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司11006代理人徐金国钟强(51)Int.Cl.G03F1/46(2012.01)G03F7/00(2006.01)权利要求书1页说明书5页附图3页(54)发明名称激光图案掩模及其制造方法(57)摘要本发明涉及一种激光图案掩模及其制造方法，通过在激光图案掩模的表面上涂覆保护膜来防止激光图案掩模被损坏，激光图案掩模被用于通过激光烧蚀一次对母基板上的整个层进行构图。所述激光图案掩模包括基底基板、在基底基板上由不透明金属形成来限定激光光束通过区域的激光防护图案以及形成在包括激光防护图案的基底基板的整个表面上的保护膜。CN10245837ACCNN110244583702445858A权利要求书1/1页1.一种激光图案掩模，包括：基底基板；在基底基板上由不透明金属形成来限定激光光束通过区域的激光防护图案；以及形成在包括激光防护图案的基底基板的整个表面上的保护膜。2.如权利要求1所述的激光图案掩模，其中所述不透明金属为选自于Al、Ag以及Au中的一种。3.如权利要求1所述的激光图案掩模，其中所述保护膜是由MgF2或者SiO2所形成。4.一种用于制造激光图案掩模的方法，包括以下步骤：在基底基板上形成不透明金属的激光防护图案来限定激光光束通过区域；以及在包括激光防护图案的基底基板的整个表面上形成保护膜。5.如权利要求4所述的方法，其中所述形成激光防护图案的步骤包括以下步骤：在基底基板上形成激光防护层，并且将光刻胶涂覆在激光防护层上；使所述光刻胶曝光且显影来形成具有激光光束通过区域的光刻胶图案；从激光光束通过区域去除残留的光刻胶；通过使用光刻胶图案对激光防护层构图来形成激光防护图案；以及去除光刻胶图案。6.如权利要求5所述的方法，其中所述从激光光束通过区域去除残留的光刻胶的步骤包括使用灰化或者干法刻蚀的步骤。7.如权利要求5所述的方法，其中所述形成激光防护层的步骤包括使用湿法刻蚀的步骤。8.如权利要求4所述的方法，其中所述形成保护膜的步骤包括使用选自于CVD即化学气相沉积、溅射以及电子束中的一种工艺。2CCNN110244583702445858A说明书1/5页激光图案掩模及其制造方法[0001]本申请要求2010年10月4日提交的韩国专利申请第10-2010-0096220号的优先权，通过参考将其并入本文，就如同在此全部阐述一样。技术领域[0002]本发明涉及一种激光图案掩模，更具体而言，涉及可缩短通过激光烧蚀对层构图时的加工时间以提高产能的激光图案掩模及其制造方法。背景技术[0003]通常，随着信息型社会的发展，对于显示器件的需求以各种形式逐渐增大，为了满足该需求，已经研究了不同类型的平板显示器件，例如LCD(液晶显示器件)、PDP(等离子体显示面板)、ELD(电子发光显示器)、VFD(真空荧光显示器)等等，并且目前其中一些平板显示器件在不同设备中被用作显示器件。[0004]通常，使用印刷工艺或者光刻工艺来对平板显示器件的多个层进行构图。[0005]同时，目前由于生产大型平板显示器件的趋势持续不断，并且已经开发出在一个母基板上形成多个基板以提高生产率且节约平板显示器件成本的多面板切割工艺，因此已经开发出激光烧蚀工艺来作为将多平板切割工艺顺利地应用到生产大型平板显示器件的趋势中的方法。[0006]激光烧蚀工艺使母基板上的层能够被用于对该层构图的激光光束精确且有效地曝光。[0007]以下将参照附图来描述激光烧蚀器件。[0008]图1图解了激光烧蚀器件，图2图解了图1中的激光图案掩模的截面。[0009]参照图1，所述激光烧蚀器件具有光源10、光束成形单元15、激光图案掩模20、光束转向单元25以及投影透镜30，用于通过以下步骤将激光光束施加到母基板上。[0010]来自光源的激光束具有在其通过光束成形单元15和激光图案掩模20时因会聚或发散形成的截面。[0011]参照图2，激光图案掩模20(参见图1)具有激光防护图案130，用于形成到基底基板100的开口区域。[0012]在这种情形下，开口区域为允许激光光束从中通过的区域。[0013]一般而言，基底基板100由具有良好透光性的石英制成，并且激光防护图案130由例如铬(Cr)或者氧化铬的不透明金属形成。[0014]回到图1，当激光光束通过光束转向单元25时激光光束发生方向改变