氢化嵌段共聚物的制造方法、由该制造方法得到的氢化嵌段共聚物及其组合物.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102459377A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102459377A(43)申请公布日2012.05.16(21)申请号201080024809.8(74)专利代理机构中国专利代理(香港)有限公(22)申请日2010.06.03司72001代理人孙秀武高旭轶(30)优先权数据2009-1344952009.06.03JP(51)Int.Cl.C08F297/04(2006.01)(85)PCT申请进入国家阶段日C08F8/04(2006.01)2011.12.05C08L53/02(2006.01)(86)PCT申请的申请数据PCT/JP2010/0594472010.06.03(87)PCT申请的公布数据WO2010/140659JA2010.12.09(71)申请人可乐丽股份有限公司地址日本冈山县(72)发明人西川崇明城后洋祐森口信弘前田瑞穗权利要求书权利要求书22页页说明书说明书1515页页(54)发明名称氢化嵌段共聚物的制造方法、由该制造方法得到的氢化嵌段共聚物及其组合物(57)摘要本发明涉及氢化嵌段共聚物的制造方法以及由该制造方法得到的氢化嵌段共聚物和含有该氢化嵌段共聚物的组合物，所述制造方法包含以下工序：(a)使具有特定结构的活性聚合物与4官能以上的硅烷偶联剂反应，形成嵌段共聚物的工序；(b)将上述嵌段共聚物加氢，形成氢化嵌段共聚物的工序；(c)回收所得氢化嵌段共聚物的工序；以及(d)在工序(c)之前，使上述硅烷偶联剂中的官能基团和/或上述嵌段共聚物或氢化嵌段共聚物中的存在于偶联剂残基上的未反应官能基团失活的工序；工序(c)中回收的氢化嵌段共聚物中的来自偶联剂的官能基团数目是每1分子嵌段共聚物为1.5个以下。CN10245937ACN102459377A权利要求书1/2页1.氢化嵌段共聚物的制造方法，该制造方法包含以下工序：(a)使式(I)所示的活性聚合物与4官能以上的硅烷偶联剂反应，形成嵌段共聚物的工序：P-X(I)式中，P表示具有1个以上芳族乙烯基化合物聚合物链段(A)和1个以上共轭二烯聚合物链段(B)的共聚物链，X表示活性阴离子聚合物的活性末端；(b)将上述嵌段共聚物加氢，形成氢化嵌段共聚物的工序；(c)回收所得氢化嵌段共聚物的工序；以及(d)在工序(c)之前，使上述硅烷偶联剂中的官能基团和/或上述嵌段共聚物或氢化嵌段共聚物中的存在于偶联剂残基上的未反应官能基团失活的工序；工序(c)中回收的氢化嵌段共聚物中的来自偶联剂的官能基团的数目是每1分子嵌段共聚物为1.5个以下。2.权利要求1的氢化嵌段共聚物的制造方法，其中，上述硅烷偶联剂为下式(II)或(III)所示的化合物，SiY4(II)式中，Y各自独立，表示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、烷氧基、羧基或羧酸酯基，11RmY3-mSi-A-SiY3-mRm(III)式中，R1各自独立，表示具有6-12个碳原子的芳基、具有1-12个碳原子的直链或支链烷基或氢原子，Y各自独立，表示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、烷氧基、羧基或羧酸酯基，A表示单键或具有1-20个碳原子的直链亚烷基，m为0或1。3.权利要求2的氢化嵌段共聚物的制造方法，其中，上述式(II)或(III)中的Y为OR2所示的烷氧基，式中R2各自独立，表示具有1-12个碳原子的直链或支链烷基。4.权利要求1-3中任一项的氢化嵌段共聚物的制造方法，其中，上述氢化嵌段共聚物中来自偶联剂的官能基团为与Si原子直接键合的羟基。5.权利要求1-4中任一项的氢化嵌段共聚物的制造方法，其中，上述活性聚合物的重均分子量为8,000-500,000。6.权利要求1-5中任一项的氢化嵌段共聚物的制造方法，其中，工序(d)中的失活试剂的用量/偶联反应后的共聚物中的残存于偶联剂残基上的官能基团Y的摩尔比为0.5以上。7.氢化嵌段共聚物，该氢化嵌段共聚物含有通式P’和/或(P’)n-Z所示的共聚物，支化系数为2.3以上，氢化嵌段共聚物中的来自偶联剂的官能基团的数目是每1分子嵌段共聚物为1.5个以下，前述式中，P’表示具有1个以上芳族乙烯基化合物聚合物链段(A)和1个以上氢化共轭二烯聚合物链段(B)的共聚物链，Z表示由式(II)或式(III)所示的硅烷偶联剂的部分，n为1-6的整数：SiY4(II)式中，Y各自独立，表示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、烷氧基、羧基或羧酸酯基，11RmY3-mSi-A-SiY3-mRm(III)式中，R1各自独立，表示具有6-12个碳原子的芳基、具有1-12个碳原子的直链或支链烷基或氢原子，Y各自独立，表示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、烷氧基、羧基或羧酸酯基，2CN102459377A权利要求书2/2页A表示单键或具有1-20个碳原子的直链亚烷