离子交换膜及其制造方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102458618A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102458618A(43)申请公布日2012.05.16(21)申请号201080027426.6(51)Int.Cl.(22)申请日2010.04.13B01D61/00(2006.01)B01D69/00(2006.01)(30)优先权数据B01D69/10(2006.01)2009-0970772009.04.13JPB01D71/38(2006.01)2009-0970762009.04.13JPB01D71/82(2006.01)(85)PCT申请进入国家阶段日C08J5/22(2006.01)2011.12.13(86)PCT申请的申请数据PCT/JP2010/0565662010.04.13(87)PCT申请的公布数据WO2010/119858JA2010.10.21(71)申请人国立大学法人山口大学地址日本国山口县申请人可乐丽股份有限公司(72)发明人比嘉充直原敦小林谦一藤原直树(74)专利代理机构中国专利代理(香港)有限公司72001代理人孔青高旭轶权利要求书权利要求书2页2页说明书说明书3939页页附图附图33页(54)发明名称离子交换膜及其制造方法(57)摘要一种离子交换膜，该膜具有由阳离子性聚合物和/或阴离子性聚合物形成的离子交换层、和支撑层，其特征在于：通过印刷在支撑层上形成该离子交换层。上述离子交换膜的耐有机污染性优异、且膜电阻小，可以长期高效率、稳定地进行电透析。另外，通过使用由上述阳离子性聚合物的区域和上述阴离子性聚合物的区域构成的镶嵌荷电层作为离子交换层，可以得到电解质选择透过性和机械强度优异的镶嵌荷电膜。CN1024586ACN102458618A权利要求书1/2页1.离子交换膜，其中具有由阳离子性聚合物和/或阴离子性聚合物形成的离子交换层、和支撑层，该离子交换膜的特征在于：通过印刷在支撑层上形成该离子交换层。2.权利要求1所述的离子交换膜，其中，上述离子交换层是由阳离子性聚合物或阴离子性聚合物中的任一种形成的层。3.权利要求1所述的离子交换膜，其中，上述离子交换层是由上述阳离子性聚合物的区域和上述阴离子性聚合物的区域构成的镶嵌荷电层。4.权利要求2或3所述的离子交换膜，其中上述阳离子性聚合物和/或上述阴离子性聚合物为极性聚合物。5.权利要求4所述的离子交换膜，其中上述阳离子性聚合物为含阳离子基团的聚乙烯醇、或含阳离子基团的聚合物与不含阳离子基团的聚乙烯醇的混合物。6.权利要求4或5所述的离子交换膜，其中上述阴离子性聚合物为含阴离子基团的聚乙烯醇、或含阴离子基团的聚合物与不含阴离子基团的聚乙烯醇的混合物。7.权利要求5或6所述的离子交换膜，其中，上述阳离子性聚合物为含有聚合阳离子性单体而形成的聚合物成分和聚乙烯醇成分的嵌段共聚物或接枝共聚物。8.权利要求5～7中任一项所述的离子交换膜，其中，上述阴离子性聚合物为含有聚合阴离子性单体而形成的聚合物成分和聚乙烯醇成分的嵌段共聚物或接枝共聚物。9.权利要求1～8中任一项所述的离子交换膜，其中，上述阳离子性聚合物的阳离子性单体含量为0.1％(摩尔)以上。10.权利要求1～9中任一项所述的离子交换膜，其中，上述阴离子性聚合物的阴离子性单体含量为0.1％(摩尔)以上。11.权利要求1～10中任一项所述的离子交换膜，其中，上述离子交换层是实施了交联处理的离子交换层。12.权利要求1～11中任一项所述的离子交换膜，其中，上述支撑层为多孔质。13.权利要求12所述的离子交换膜，其中，上述支撑层由聚乙烯醇纤维集合体形成。14.权利要求1～13中任一项所述的离子交换膜，其中，上述离子交换层的厚度A与上述支撑层的厚度B之比A/B为0.2以下。15.离子交换膜的制造方法，是具有由阳离子性聚合物和/或阴离子性聚合物形成的离子交换层、和支撑层的离子交换膜的制造方法，该方法的特征在于：通过印刷在该支撑层上形成该离子交换层。16.权利要求15所述的离子交换膜的制造方法，其中，上述离子交换层为由上述阳离子性聚合物的区域和上述阴离子性聚合物的区域构成的镶嵌荷电层。17.权利要求15或16所述的离子交换膜的制造方法，其中，通过喷墨印刷法、丝网印刷法、转移印刷法或分配器印刷法在上述支撑层上形成上述离子交换层。18.权利要求15～17中任一项所述的离子交换膜的制造方法，其中，通过印刷在上述支撑层上形成上述离子交换层后实施交联处理。19.权利要求15～18中任一项所述的离子交换膜的制造方法，其中，通过印刷在上述支撑层上形成上述离子交换层后实施热处理。20.权利要求15～19中任一项所述的离子交换膜的制造方法，其中，通过印刷在上述支撑层上形成上述离子交换层后实施热压处理。2CN102