可视性优秀的两面透明导电性膜及其制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN104039549104039549A(43)申请公布日2014.09.10(21)申请号201380004846.6(51)Int.Cl.(22)申请日2013.01.04B32B27/06(2006.01)B32B27/08(2006.01)(30)优先权数据H01B1/08(2006.01)10-2012-00019412012.01.06KRH01B5/14(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日2014.07.04(86)PCT国际申请的申请数据PCT/KR2013/0000522013.01.04(87)PCT国际申请的公布数据WO2013/103259KO2013.07.11(71)申请人乐金华奥斯有限公司地址韩国首尔(72)发明人金庚泽金仁淑赵靖郑根李敏熙(74)专利代理机构北京品源专利代理有限公司11332代理人吕琳杨生平权权利要求书1页利要求书1页说明书8页说明书8页附图2页附图2页(54)发明名称可视性优秀的两面透明导电性膜及其制备方法(57)摘要本发明提出一种不仅能够谋求触控面板结构的简化及工序简化，而且具有优秀的可视性特性的两面透明导电性膜及其制备方法。本发明的可视性优秀的两面透明导电性膜，其特征在于，包括：透明基材层；第一硬涂层及第二硬涂层，分别形成于上述透明基材层的两面；第一底涂层及第二底涂层，依次层叠形成于上述第一硬涂层上；第三底涂层及第四底涂层，依次层叠形成于上述第二硬涂层上；第一透明导电层及第二透明导电层，分别形成于上述第二底涂层及第四底涂层上。CN104039549ACN104395ACN104039549A权利要求书1/1页1.一种两面透明导电性膜，其特征在于，包括：透明基材层；第一硬涂层及第二硬涂层，分别形成于所述透明基材层的两面；第一底涂层及第二底涂层，依次层叠形成于所述第一硬涂层上；第三底涂层及第四底涂层，依次层叠形成于所述第二硬涂层上；第一透明导电层及第二透明导电层，分别形成于所述第二底涂层及第四底涂层上。2.根据权利要求1所述的两面透明导电性膜，其特征在于，所述透明基材层包含聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚醚砜、聚碳酸酯、聚丙烯及降冰片烯类树脂中的一种以上。3.根据权利要求1所述的两面透明导电性膜，其特征在于，所述第一硬涂层及第二硬涂层包含选自丙烯酸类、聚氨酯类、环氧类及硅氧烷类聚合物材质中的一种以上。4.根据权利要求1所述的两面透明导电性膜，其特征在于，所述第一底涂层及第三底涂层分别包括具有1.40～1.45的折射率的第一层及位于所述第一层上并具有1.8～2.0的折射率的第二层。5.根据权利要求4所述的两面透明导电性膜，其特征在于，所述第二底涂层及第四底涂层分别具有1.40～1.45的折射率。6.根据权利要求4所述的两面透明导电性膜，其特征在于，所述第一底涂层及第三底涂层各自的所述第一层及第二层的总厚度为20nm～100nm。7.根据权利要求4所述的两面透明导电性膜，其特征在于，分别在所述第一底涂层及第三底涂层中，所述第一层由SiOx或SiON形成，所述第二层由NbOx、SiOx及SiON中的一种形成。8.根据权利要求5所述的两面透明导电性膜，其特征在于，所述第二底涂层及第四底涂层分别由SiOx或SiON形成。9.根据权利要求1所述的两面透明导电性膜，其特征在于，所述第一透明导电层及第二透明导电层分别由氧化铟锡、氧化铟锌及掺氟二氧化锡中的一种形成。10.一种两面透明导电性膜的制备方法，其特征在于，包括：步骤(a)，在透明基材层的两面分别形成第一硬涂层及第二硬涂层；步骤(b)，在所述第一硬涂层上依次形成第一底涂层及第二底涂层；步骤(c)，通过溅射方式在所述第二底涂层上蒸镀第一透明导电性物质，从而形成第一透明导电层；步骤(d)，在所述第二硬涂层上依次形成第三底涂层及第四底涂层；以及步骤(e)，通过溅射方式在所述第四底涂层上蒸镀第二透明导电性物质，从而形成第二透明导电层。11.根据权利要求10所述的两面透明导电性膜的制备方法，其特征在于，在所述步骤(b)中，所述第一底涂层及第二底涂层通过湿涂方式或溅射蒸镀方式形成。12.根据权利要求10所述的两面透明导电性膜的制备方法，其特征在于，在所述步骤(d)中，所述第三底涂层及第四底涂层通过溅射蒸镀方式来形成。2CN104039549A说明书1/8页可视性优秀的两面透明导电性膜及其制备方法技术领域[0001]本发明涉及一种两面透明导电性膜及其制备方法，更详细地涉及不仅能够谋求触控面板结构的简化及工序的简化，而且具有优秀的可视性特性的两面透明导电性膜及其制备方法。背景技术[0002]透明电极膜是制备触控面板时最重要的部件