预览加载中,请您耐心等待几秒...
1/10
2/10
3/10
4/10
5/10
6/10
7/10
8/10
9/10
10/10

亲,该文档总共11页,到这已经超出免费预览范围,如果喜欢就直接下载吧~

如果您无法下载资料,请参考说明:

1、部分资料下载需要金币,请确保您的账户上有足够的金币

2、已购买过的文档,再次下载不重复扣费

3、资料包下载后请先用软件解压,在使用对应软件打开

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN104040643104040643A(43)申请公布日2014.09.10(21)申请号201280065638.2(51)Int.Cl.(22)申请日2012.12.14H01B5/14(2006.01)G06F3/041(2006.01)(30)优先权数据10-2011-01449152011.12.28KR(85)PCT国际申请进入国家阶段日2014.06.30(86)PCT国际申请的申请数据PCT/KR2012/0109172012.12.14(87)PCT国际申请的公布数据WO2013/100453KO2013.07.04(71)申请人乐金华奥斯有限公司地址韩国首尔(72)发明人金庚泽金仁淑赵靖郑根李敏熙(74)专利代理机构北京品源专利代理有限公司11332代理人吕琳杨生平权权利要求书1页利要求书1页说明书7页说明书7页附图2页附图2页(54)发明名称电特性优秀的透明导电性膜及利用该透明导电性膜的触控面板(57)摘要公开一种电特性优秀的透明导电性膜及利用该透明导电性膜的触控面板。本发明的透明导电性膜,其特征在于,包括:膜基材,第一导电性薄膜,其形成于上述膜基材上,第二导电性薄膜,其形成于上述第一导电性薄膜上,以及第三导电性薄膜,其形成于上述第二导电性薄膜上;上述第二导电性薄膜由导电性高于上述第一导电性薄膜或者上述第三导电性薄膜的材质形成。CN104040643ACN10463ACN104040643A权利要求书1/1页1.一种透明导电性膜,其特征在于,包括:膜基材,第一导电性薄膜,其形成于所述膜基材上,第二导电性薄膜,其形成于所述第一导电性薄膜上,以及第三导电性薄膜,其形成于所述第二导电性薄膜上;所述第二导电性薄膜由导电性高于所述第一导电性薄膜或者所述第三导电性薄膜的材质形成。2.根据权利要求1所述的透明导电性膜,其特征在于,所述第二导电性薄膜包含选自锡、铝、钼、石墨烯以及锌中的一种以上的材质而形成。3.根据权利要求1所述的透明导电性膜,其特征在于,所述第二导电性薄膜以1nm至10nm的厚度形成。4.根据权利要求1所述的透明导电性膜,其特征在于,所述第一导电性薄膜以及所述第三导电性薄膜包含选自金(Au)、银(Ag)、铂(Pt)、钯(Pd)、铜(Cu)、二氧化钛(TiO2)、氧化镉(CdO)以及碘化铜(CuI)中的一种以上的材质而形成。5.根据权利要求1所述的透明导电性膜,其特征在于,所述第一导电性薄膜以及所述第三导电性薄膜由透明导电氧化物形成,所述透明导电氧化物为铟锡氧化物(ITO)或掺氟二氧化锡(FTO)。6.根据权利要求1所述的透明导电性膜,其特征在于,所述第一导电性薄膜由与所述第三导电性薄膜相同的材质形成。7.根据权利要求1所述的透明导电性膜,其特征在于,所述透明导电性膜中,所述第一导电性薄膜、所述第二导电性薄膜以及所述第三导电性薄膜的总厚度为20nm至100nm。8.根据权利要求1所述的透明导电性膜,其特征在于,所述膜基材与所述第一导电性薄膜之间还包括:第一电介质薄膜,其与所述膜基材相接触而形成;以及第二电介质薄膜,其形成于所述第一电介质薄膜上。9.根据权利要求8所述的透明导电性膜,其特征在于,所述第一电介质薄膜以及第二电介质薄膜包含无机物或者有机物中的一种以上。10.一种触控面板,其特征在于,包括:第一面板,其具有第一透明导电性膜,第二面板,其与所述第一面板相向,并具有与所述第一透明导电性膜正交的第二透明导电性膜,以及隔片,其配置在所述第一透明导电性膜与所述第二透明导电性膜之间;所述第一透明导电性膜或者所述第二透明导电性膜包括膜基材、形成于所述膜基材上的第一导电性薄膜、形成于所述第一导电性薄膜上的第二导电性薄膜以及形成于所述第二导电性薄膜上的第三导电性薄膜;所述第二导电性薄膜为由导电性高于所述第一导电性薄膜或者所述第三导电性薄膜的材质形成的透明导电性膜。2CN104040643A说明书1/7页电特性优秀的透明导电性膜及利用该透明导电性膜的触控面板技术领域[0001]本发明涉及透明导电性膜,更详细地涉及电特性优秀的透明导电性膜及利用该透明导电性膜的触控面板。背景技术[0002]作为在制造触控面板(TouchPanel)时最主要部件之一的透明电极膜,至今使用最广泛的是全光线透过率在85%以上且表面电阻在400Ω/square(Ω/平方米)以下的铟锡氧化物(IndiumTinOxide,ITO)膜。[0003]通常的透明电极膜,在像透明高分子膜的膜基材上形成底涂层(undercoat)之后在底涂层上层压像铟锡氧化物的透明导电性薄膜而制成。[0004]最近,随着静电容量方式或者电阻膜方式的触控面板的使用增加,要求实