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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108431641A(43)申请公布日2018.08.21(21)申请号201680076327.4本田和也(22)申请日2016.10.28(74)专利代理机构北京三友知识产权代理有限公司1(30)优先权数据11272015-2146212015.10.30JP代理人庞东成王博2015-2146272015.10.30JP(51)Int.Cl.2016-0770462016.04.07JPG02B1/14(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日B32B7/02(2006.01)2018.06.26G02B1/111(2006.01)G02B5/30(2006.01)(86)PCT国际申请的申请数据G02F1/1335(2006.01)PCT/JP2016/0821322016.10.28(87)PCT国际申请的公布数据WO2017/073756JA2017.05.04(71)申请人大日本印刷株式会社地址日本东京都(72)发明人岩崎迅希岩田行光大石英司权利要求书2页说明书41页附图15页(54)发明名称光学膜、偏振膜、偏振膜的制造方法以及图像显示装置(57)摘要本发明提供一种表面均匀且平坦的光学膜、具备该光学膜的偏振膜、以及图像显示装置。根据本发明的一个方式,提供光学膜10,其是具备透光性功能层11的、无基材的光学膜10,其中,透光性功能层11的表面11A形成光学膜10的表面10A,在透光性功能层11的表面11的1μm见方及5μm见方的区域内,算术平均粗糙度(Ra)分别为0.5nm以上1.5nm以下,轮廓最大高度(Rz)分别为4nm以上20nm以下,最大波峰高度(Rp)分别为2nm以上15nm以下。CN108431641ACN108431641A权利要求书1/2页1.一种光学膜,其是具备透光性功能层的、无基材的光学膜,其中,所述透光性功能层的一个面形成所述光学膜的表面,在所述透光性功能层的所述一个面的1μm见方及5μm见方的区域内,算术平均粗糙度(Ra)分别为0.5nm以上1.5nm以下,轮廓最大高度(Rz)分别为4nm以上20nm以下,最大波峰高度(Rp)分别为2nm以上15nm以下。2.如权利要求1所述的光学膜,其中,该光学膜进一步具备层积于所述透光性功能层的另一面侧的芯层。3.如权利要求2所述的光学膜,其中,所述透光性功能层的膜厚为2μm以上15μm以下,并且所述芯层的膜厚为5μm以上40μm以下。4.如权利要求1所述的光学膜,其中,所述透光性功能层含有无机颗粒。5.如权利要求4所述的光学膜,其中,所述无机颗粒为异形二氧化硅颗粒。6.如权利要求1所述的光学膜,其中,所述透光性功能层为硬涂层。7.如权利要求1所述的光学膜,其中,所述透光性功能层具备硬涂层和形成于所述硬涂层的一个面侧并且折射率低于所述硬涂层的折射率的低折射率层,并且所述低折射率层的表面成为所述透光性功能层的所述一个面。8.如权利要求2所述的光学膜,其中,该光学膜进一步具备在所述芯层的与透光性功能层侧的面相反一侧的面上设置的粘接性提高层。9.如权利要求8所述的光学膜,其中,所述光学膜的拉伸断裂强度为30N/mm2以上。10.如权利要求8所述的光学膜,其中,皂化处理后的所述粘接性提高层的表面的相对于水的接触角为80°以下。11.如权利要求8所述的光学膜,其中,所述粘接性提高层含有粘结剂树脂和硅烷偶联剂,该粘结剂树脂包含电离射线聚合性化合物的固化物。12.如权利要求11所述的光学膜,其中,所述电离射线聚合性化合物为多官能电离射线聚合性单体。13.一种偏振膜,其具备:权利要求1所述的光学膜、和设置于所述光学膜的与表面侧相反一侧的偏振元件。14.一种偏振膜的制造方法,其是具备透光性功能层和设置于所述透光性功能层的一个面侧的偏振元件的偏振膜的制造方法,其中,该制造方法具备:在离型膜的一个面上涂布含有固化性树脂前体的透光性功能层用组合物,使其干燥,从而形成所述透光性功能层用组合物的涂膜的工序;使所述涂膜固化从而形成所述透光性功能层的工序;在所述透光性功能层的与离型膜侧相反一侧贴合偏振元件的工序;和将所述离型膜从所述透光性功能层剥离的工序。15.如权利要求14所述的偏振膜的制造方法,其中,在贴合所述偏振元件之前进一步具备在所述透光性功能层的与离型膜侧的面相反一侧的面上形成芯层的工序,所述偏振元件贴合于所述芯层的与透光性功能层侧的面相反一侧的面。16.如权利要求14所述的偏振膜的制造方法,其中,所述透光性功能层的膜厚为2μm以2CN108431641A权利要求书2/2页上15μm以下。17.如权利要求15所述的偏振膜的制造方法,其中,所述芯层的膜厚为5μm以上40μm以下。18.如权利