转印介质层叠体、偏振膜以及制造方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN116034019A(43)申请公布日2023.04.28(21)申请号202180055913.1(74)专利代理机构北京柏杉松知识产权代理事(22)申请日2021.07.27务所(普通合伙)11413专利代理师陈玲刘继富(30)优先权数据2020-1389242020.08.19JP(51)Int.Cl.B32B7/023(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日2023.02.08(86)PCT国际申请的申请数据PCT/JP2021/0276552021.07.27(87)PCT国际申请的公布数据WO2022/038972JA2022.02.24(71)申请人日本瑞翁株式会社地址日本东京(72)发明人高木俊辅权利要求书1页说明书21页(54)发明名称转印介质层叠体、偏振膜以及制造方法(57)摘要本发明提供了一种转印介质层叠体，其具有硬涂层和设置在上述硬涂层的一个表面上的树脂层(A)，上述硬涂层具有拉伸性，构成上述树脂层的树脂的储能模量为1000MPa以下。上述树脂层(A)优选包含紫外线吸收剂。上述硬涂层优选为硬涂层材料的半固化物，上述树脂层(A)优选为在上述半固化物的表面形成的层。本发明还提供了具有转印介质层叠体的偏振膜、它们的制造方法、以及使用了偏振膜的成型体的制造方法。CN116034019ACN116034019A权利要求书1/1页1.一种转印介质层叠体，其具有硬涂层和设置在所述硬涂层的一个表面上的树脂层(A)，所述硬涂层具有拉伸性，构成所述树脂层的树脂的储能模量为1000MPa以下。2.根据权利要求1所述的转印介质层叠体，其中，所述树脂层(A)的厚度为0.1μm以上且10μm以下。3.根据权利要求1或2所述的转印介质层叠体，其中，所述树脂层(A)包含紫外线吸收剂。4.根据权利要求1～3中任一项所述的转印介质层叠体，其中，所述硬涂层为硬涂层材料的半固化物，所述树脂层(A)为形成于所述半固化物的表面的层。5.根据权利要求1～4中任一项所述的转印介质层叠体，其中，所述树脂层的面内方向的延迟Re为0nm以上且5nm以下。6.根据权利要求1～5中任一项所述的转印介质层叠体，其中，所述转印介质层叠体还包含设置在所述硬涂层的与所述树脂层(A)侧为相反侧的表面上的支承体。7.根据权利要求6所述的转印介质层叠体，其中，所述支承体具有设置在所述硬涂层侧的表面的离型层。8.一种转印介质层叠体的制造方法，为权利要求1～7中任一项所述的转印介质层叠体的制造方法，包括以下工序：在支承体的表面上展开硬涂层材料的工序；使所述硬涂层材料半固化，形成具有拉伸性的硬涂层的工序；以及在所述硬涂层上展开树脂，形成储能模量为1000MPa以下的树脂层(A)的工序。9.一种偏振膜，其具有：权利要求1～7中任一项所述的转印介质层叠体；设置在所述转印介质层叠体的所述树脂层(A)侧的起偏器层；以及介于所述转印介质层叠体与所述起偏器层之间的黏合层。10.一种偏振膜的制造方法，所述偏振膜具有：权利要求1～7中任一项所述的转印介质层叠体；设置在所述转印介质层叠体的所述树脂层(A)侧的起偏器层；以及介于所述转印介质层叠体与所述起偏器层之间的黏合层，所述树脂层(A)包含紫外线吸收剂，所述偏振膜的制造方法包括：经由紫外线固化型的黏合剂将所述转印介质层叠体与所述起偏器层贴合，制成贴合物的工序；以及从所述贴合物的所述起偏器层侧，对所述贴合物照射紫外线的工序。11.一种制造方法，为带起偏器层的成型体的制造方法，所述制造方法包括：通过权利要求10所述的制造方法制造偏振膜的工序(A)；将所述偏振膜贴合于基底构件的工序(B)；以及使所述偏振膜中的硬涂层主固化的工序(C)，供于所述工序(B)的基底构件为具有曲面的构件、或者所述制造方法在所述工序(B)后且所述工序(C)前还包括使所述基底构件弯曲的工序(Bx)。2CN116034019A说明书1/21页转印介质层叠体、偏振膜以及制造方法技术领域[0001]本发明涉及转印介质层叠体、偏振膜、偏振膜的制造方法、以及使用了偏振膜的成型体的制造方法。背景技术[0002]在液晶显示装置和有机电致发光显示装置等显示装置中，出于各种目的，进行着设置作为线起偏器发挥功能的膜。该线起偏器大多是机械强度弱的薄层状的材料，因此通常以具有起偏器和保护膜的偏振膜的状态使用。出于提高显示装置表面的耐擦伤性等目的，有时偏振膜还设置有硬涂层。硬涂层大多通过在作为形成对象的成型体的表面涂敷用于形成硬涂层的液体状的硬涂层材料并使其固化来形成。但是，也可以在除了形成对象以外的构件的表面形成包含硬涂层的层叠体，并将其转印到成型体的表面(例如，专利文献1和2)。[0003]现有技术文献[0004]专利文献[0