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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106459418A(43)申请公布日2017.02.22(21)申请号201580031802.1(74)专利代理机构北京品源专利代理有限公司(22)申请日2015.05.2911332代理人吕琳刘明海(30)优先权数据10-2014-00723672014.06.13KR(51)Int.Cl.C08G77/38(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日C08G77/398(2006.01)2016.12.13C08G77/20(2006.01)(86)PCT国际申请的申请数据C08F220/18(2006.01)PCT/KR2015/0054232015.05.29(87)PCT国际申请的公布数据WO2015/190729KO2015.12.17(71)申请人乐金华奥斯有限公司地址韩国首尔(72)发明人赵烘宽金宪助金源国洪周希金裕峻权利要求书2页说明书15页附图1页(54)发明名称高折射组合物、抗反射膜及制备方法(57)摘要本发明提供高折射组合物,上述高折射组合物包含:网状结构的含金属有机低聚硅氧烷,一部分硅被金属取代,从而含有金属;以及光固化性丙烯酸酯类化合物,上述金属包含选自由钛、锆以及它们的组合组成的组中的至少一个。并且,本发明提供抗反射膜及制备方法,上述抗反射膜包括通过使上述高折射组合物光固化而形成的高折射层。CN106459418ACN106459418A权利要求书1/2页1.一种高折射组合物,其特征在于,包含:网状结构的含金属有机低聚硅氧烷,一部分硅被金属取代,从而含有金属;以及光固化性丙烯酸酯类化合物,上述金属包含选自由钛、锆以及它们的组合组成的组中的至少一个。2.根据权利要求1所述的高折射组合物,其特征在于,以100重量份的上述光固化性(甲基)丙烯酸酯类化合物为基准,上述网状结构的含金属有机低聚硅氧烷的含量为10重量份至1000重量份。3.根据权利要求1所述的高折射组合物,其特征在于,上述网状结构的含金属有机低聚硅氧烷中的硅与金属的原子个数之比为1:0.03至1:5.90。4.根据权利要求1所述的高折射组合物,其特征在于,上述含金属有机低聚硅氧烷的网状结构包括一部分因取代基而被开放的结构。5.根据权利要求4所述的高折射组合物,其特征在于,上述含金属有机低聚硅氧烷中的上述取代基包含碳数量为4个~18个的(甲基)丙烯酸酯类官能基。6.根据权利要求5所述的高折射组合物,其特征在于,上述含金属有机低聚硅氧烷中的上述取代基还包含选自由碳数量为1个~10个的烷氧基、碳数量为1个~18个的烷基、碳数量为2个~10个的烯基、碳数量为6个~18个的芳基、碳数量为3个~8个的丙酮基、卤化物基以及它们的组合组成的组中的至少一个。7.根据权利要求1所述的高折射组合物,其特征在于,上述含金属有机低聚硅氧烷为包含下述化学式1的钛化合物、下述化学式2的锆化合物或它们的混合物以及下述化学式3的硅烷化合物的第一组合物的反应产物,12化学式1:RxTi(OR)4-x34化学式2:RyZr(OR)4-y56化学式3:RzSi(OR)4-z在上述化学式1至化学式3中,上述R1、R3、R5分别独立地为碳数量为1个~10个的烷氧基、碳数量为1个~18个的烷基、碳数量为2个~10个的烯基、碳数量为4个~18个的(甲基)丙烯酸酯基、碳数量为6个~18个的芳基、碳数量为3个~8个的丙酮基或卤化物基,上述R2、R4、R6分别独立地为H或碳数量为1个~6个的烷基,上述x、y、z分别独立地为0、1或2。8.根据权利要求7所述的高折射组合物,其特征在于,以100重量份的上述化学式3的硅烷化合物为基准,将上述化学式1的钛化合物的含量和上述化学式2的锆化合物的含量相加的总含量为10重量份至1000重量份。9.根据权利要求1所述的高折射组合物,其特征在于,上述光固化性丙烯酸酯类化合物包含选自由丙烯酸酯类单体、低聚物、树脂以及它们的组合组成的组中的至少一个。10.一种抗反射膜,其特征在于,包括通过使根据权利要求1至9中任一项所述的高折射组合物光固化而形成的高折射层。11.根据权利要求10所述的抗反射膜,其特征在于,还包括低折射层,形成于上述高折射层的上部,通过使低折射组合物固化而成,上述低折射组合物包含:作为粘结剂的网状结构的含氟有机低聚硅氧烷;以及空心二氧化硅粒子。2CN106459418A权利要求书2/2页12.根据权利要求11所述的抗反射膜,其特征在于,以100重量份的上述空心二氧化硅粒子为基准,作为粘结剂的上述网状结构的含氟有机低聚硅氧烷的含量为10重量份至120重量份。13.根据权利要求11所述的抗反射膜,其特征在于,上述含氟有机低聚硅氧烷借助化学键附着于上述空心二氧化硅粒