

高折射组合物、抗反射膜及制备方法.pdf
新月****姐a
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相关资料
高折射组合物、抗反射膜及制备方法.pdf
本发明提供高折射组合物,上述高折射组合物包含:网状结构的含金属有机低聚硅氧烷,一部分硅被金属取代,从而含有金属;以及光固化性丙烯酸酯类化合物,上述金属包含选自由钛、锆以及它们的组合组成的组中的至少一个。并且,本发明提供抗反射膜及制备方法,上述抗反射膜包括通过使上述高折射组合物光固化而形成的高折射层。
底部抗反射涂层组合物及其制备方法.pdf
本发明适用于光刻胶技术领域,提供了一种底部抗反射涂层组合物及其制备方法,其包括以下质量百分比的原料:含芳基的甘脲类低聚物溶液5?15%、主体树脂0.5?15%、热敏酸0.1?1%,余量为有机溶剂。本发明通过在底部抗反射涂层组合物中添加了可进行交联且芳基比例可调节的甘脲类低聚物,从而快速的调整底部抗反射涂层的n/k值,大大降低底部抗反射涂层在n/k值方面的调整难度,减少了光刻胶底部界面出现反射和诸如驻波等问题,提高光刻工艺中线宽解析度。
包含硅氧烷化合物的抗反射涂敷组合物及利用其的抗反射膜.pdf
本发明涉及能够形成具有低折射率的涂敷层的抗反射涂敷组合物、利用该抗反射涂敷组合物制备的抗反射膜及上述抗反射膜的制备方法,更具体地,涉及使用由具有氟烷基的有机硅烷(organosilane)与烷氧基硅烷进行反应来合成的硅氧烷化合物作为粘结剂而包含的抗反射涂敷组合物来形成涂敷层,使反射率最小化的抗反射膜及其制备方法。利用上述涂敷组合物制备的抗反射膜具有优秀的抗反射效果,因而有望适用于触控膜等多种显示器设备。
一种高折射树脂组合物及其制备方法.pdf
本发明公开了一种高折射树脂组合物,其组成按质量份数计化合物A为5~20份、引发剂5‑10份、无机纳米粒子20~40份和主剂30~50份;所述化合物A具有式I所示的结构单元;所述引发剂为光自由基引发剂;所述无机纳米粒子为金属Ti、Zr、Zn、Zn、Ce、Ta、Bi、Nb、In、Hf、W、Sn、Ni、Al、Mo、Sb、La、Nd中的一种或多种粒径为1~50nm的氧化物或硫化物微粒,主剂为分散剂和稀释剂中的一种或混合。制备方法,包括以下步骤:投入主剂和引发剂溶解分散,先后投入化合物A和无机纳米粒子同时搅拌分散,
低折射组合物及其制备方法以及透明导电膜.pdf
本发明提供包含有机多分子硅醚(organopolysiloxane)及平均直径为约30nm至约70nm的无机粒子的低折射组合物及其制备方法以及透明导电膜。