一种纳米银线透明导电膜的生产工艺.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108250469A(43)申请公布日2018.07.06(21)申请号201611245540.1(22)申请日2016.12.29(71)申请人乐凯华光印刷科技有限公司地址473003河南省南阳市车站南路718号(72)发明人吴敏郭佳亮周红霞王乐跃李小军万珊云(74)专利代理机构郑州中原专利事务所有限公司41109代理人霍彦伟(51)Int.Cl.C08J7/04(2006.01)C09D4/02(2006.01)C09D4/06(2006.01)C09D5/24(2006.01)C08L67/02(2006.01)权利要求书1页说明书10页附图2页(54)发明名称一种纳米银线透明导电膜的生产工艺(57)摘要本发明涉及一种纳米银线透明导电膜的生产工艺，包括以下步骤：（1）基材准备：选用的基材为PET片基，将准备好的PET片基进行硬化处理；（2）涂布配置好的涂布纳米银线涂布液和保护胶涂布液：将配置好的纳米银线涂布液和保护胶涂布液分别通过涂布设备涂布到PET片基上；（3）干燥：涂布好的胶片进行干燥；（4）收卷：将生产好的成品进行收卷。本发明工艺能有效地提高纳米银线导电胶片的良好率，加速纳米银线导电胶片对ITO的替代。CN108250469ACN108250469A权利要求书1/1页1.一种纳米银线透明导电膜的生产工艺，其特征在于包括以下步骤：（1）基材准备：选用的基材为PET片基，将准备好的PET片基进行硬化处理；（2）涂布配置好的涂布纳米银线涂布液和保护胶涂布液：将配置好的纳米银线涂布液和保护胶涂布液通过涂布设备涂布到PET片基上；（3）干燥：涂布好的胶片进行干燥；（4）收卷：将生产好的成品进行收卷。2.根据权利要求1所述的纳米银线透明导电膜的生产工艺，其特征在于：步骤（1）中硬化处理是采用微凹涂布，条缝式挤压涂布，对PET片基进行单面或者双面涂布硬化液，进行硬化处理。3.根据权利要求2所述的纳米银线透明导电膜的生产工艺，其特征在于：以重量百分比计，所述硬化液主要组分组成：纯丙烯酸树脂2.5%-7%、十官能团聚氨酯树脂7.5-18%、二官能团聚氨酯树脂16-26%、活性稀释剂5-10%、光引发剂1-4%和溶剂45%-55%。4.根据权利要求1所述的纳米银线透明导电膜的生产工艺，其特征在于：步骤（1）中，PET片基非纳米银线涂布面需涂布硬化涂层，使其硬度在1H以上，透光率相对于未经硬化处理的PET片基增加0.5-3%，雾度相对于未经硬化处理的PET片基减小0.2-0.8%，透光率90%~93%，雾度≤0.7%，PET片基的厚度为25~200μm，于温度150~200℃、压力为5MPa下热压20~40秒，表面无裂痕。5.根据权利要求1所述的纳米银线透明导电膜的生产工艺，其特征在于：步骤（2）中，所述纳米银线涂布液配置方法：将直径为10~100nm、长度≤200μm的纳米银线溶解在固体含量为0.5~10wt%、平均粒径为10~100nm的溶胶中，使得每1Kg纳米银线涂布液中含有银1~10g；纳米银线涂布液中固体含量为0.5~11wt%，粘度为1~25cps，纳米银线涂层涂布量为10~50mL/m2。6.根据权利要求1所述的纳米银线透明导电膜的生产工艺，其特征在于：步骤（2）中，所述保护胶涂布液为金属氧化物溶胶，金属氧化物溶胶的pH为3~6，固含量为0.1~10wt%，保护2胶涂层涂布量为10~50mL/m。7.根据权利要求1所述的纳米银线透明导电膜的生产工艺，其特征在于：步骤（2）中，所述涂布的涂布方式为坡流挤压涂布，通过一次双层挤压涂布技术，一次性将纳米银线涂布液和保护胶涂布液涂布到PET片基上。8.根据权利要求1所述的纳米银线透明导电膜的生产工艺，其特征在于：步骤（2）中，所述涂布的涂布方式为微型凹版涂布、辊涂、夹缝式挤压涂布或者刮涂，一次只能涂布一层，需分两次完成涂布。9.根据权利要求1所述的纳米银线透明导电膜的生产工艺，其特征在于：步骤（3）中，所述干燥过程中的干燥温度在20℃以上，干燥时间大于4分钟。10.根据权利要求1所述的纳米银线透明导电膜的生产工艺，其特征在于：步骤（4）中，所述成品：制成透光率为75~92%，雾度≤3%，表面电阻率为10~300ohm/sq，硬度3~5H，经150~200℃绑定条加热绑定测试20~30秒，表面电阻率不再发生变化。2CN108250469A说明书1/10页一种纳米银线透明导电膜的生产工艺技术领域[0001]本发明属于生产透明导电胶片技术领域，具体涉及一种纳米银线透明导电膜的生产工艺。背景技术[0002]随着2013年国内电容屏出货面积超过400万平方米，其中ITO导电玻璃需求量超过360万平方米，ITOPE