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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109427836A(43)申请公布日2019.03.05(21)申请号201811030613.4(22)申请日2018.09.05(30)优先权数据10-2017-01130222017.09.05KR(71)申请人乐金显示有限公司地址韩国首尔(72)发明人郑丞容李汉锡罗炯壹金廷俊(74)专利代理机构永新专利商标代理有限公司72002代理人舒雄文蹇炜(51)Int.Cl.H01L27/146(2006.01)权利要求书3页说明书12页附图9页(54)发明名称阵列基板、X射线检测器、及用于制造该阵列基板的方法(57)摘要提供了一种用于数字X射线检测器的阵列基板、一种包括该阵列基板的数字X射线检测器、以及用于制造该阵列基板的方法。用于数字X射线检测器的薄膜晶体管(TFT)阵列基板包括:基础基板;所述基础基板之上的薄膜晶体管;连接至所述薄膜晶体管的下电极;所述下电极之上的正-本征-负(PIN)层,所述PIN层包含N型半导体层、本征半导体层、以及P型半导体层;所述PIN层之上的偏置电极;以及覆盖所述PIN层和所述偏置电极的上电极。CN109427836ACN109427836A权利要求书1/3页1.一种用于数字X射线检测器的薄膜晶体管(TFT)阵列基板,包含:基础基板;所述基础基板之上的薄膜晶体管;连接至所述薄膜晶体管的下电极;所述下电极之上的正-本征-负(PIN)层,所述正-本征-负层包含:N型半导体层;本征半导体层;以及P型半导体层;所述正-本征-负层之上的偏置电极;以及覆盖所述正-本征-负层和所述偏置电极的上电极。2.如权利要求1所述的薄膜晶体管(TFT)阵列基板,其中,所述偏置电极在所述正-本征-负层的部分之上。3.如权利要求1所述的薄膜晶体管(TFT)阵列基板,还包含所述正-本征-负层与所述上电极之间的保护层。4.如权利要求3所述的薄膜晶体管(TFT)阵列基板,其中:所述保护层覆盖所述薄膜晶体管和所述正-本征-负层;并且与所述下电极对应的所述正-本征-负层的上部区域中的所述保护层的部分被去除。5.如权利要求3所述的薄膜晶体管(TFT)阵列基板,其中,所述保护层、所述偏置电极、以及所述上电极的部分在相同层之上。6.如权利要求1所述的薄膜晶体管(TFT)阵列基板,还包括所述P型半导体层与所述本征半导体层之间的保护层。7.如权利要求6所述的薄膜晶体管(TFT)阵列基板,其中:所述保护层覆盖所述薄膜晶体管和所述本征半导体层;并且与所述下电极对应的所述本征半导体层的上部区域的所述保护层的部分被去除。8.如权利要求6所述的薄膜晶体管(TFT)阵列基板,其中,所述偏置电极和所述上电极的部分在相同层之上。9.如权利要求1所述的薄膜晶体管(TFT)阵列基板,其中,与所述上电极对应的所述偏置电极在平面视图中具有恒定的宽度。10.一种数字X射线检测器,包含:如权利要求1所述的用于所述数字X射线检测器的薄膜晶体管(TFT)阵列基板;以及所述阵列基板之上的闪烁体。11.一种数字X射线检测器,包含:如权利要求2所述的用于所述数字X射线检测器的薄膜晶体管(TFT)阵列基板;以及所述阵列基板之上的闪烁体。12.一种数字X射线检测器,包含:如权利要求3所述的用于所述数字X射线检测器的薄膜晶体管(TFT)阵列基板;以及所述阵列基板之上的闪烁体。13.一种数字X射线检测器,包含:如权利要求4所述的用于所述数字X射线检测器的薄膜晶体管(TFT)阵列基板;以及2CN109427836A权利要求书2/3页所述阵列基板之上的闪烁体。14.一种数字X射线检测器,包含:如权利要求5所述的用于所述数字X射线检测器的薄膜晶体管(TFT)阵列基板;以及所述阵列基板之上的闪烁体。15.一种数字X射线检测器,包含:如权利要求6所述的用于所述数字X射线检测器的薄膜晶体管(TFT)阵列基板;以及所述阵列基板之上的闪烁体。16.一种数字X射线检测器,包含:如权利要求7所述的用于所述数字X射线检测器的薄膜晶体管(TFT)阵列基板;以及所述阵列基板之上的闪烁体。17.一种数字X射线检测器,包含:如权利要求8所述的用于所述数字X射线检测器的薄膜晶体管(TFT)阵列基板;以及所述阵列基板之上的闪烁体。18.一种数字X射线检测器,包含:如权利要求9所述的用于所述数字X射线检测器的薄膜晶体管(TFT)阵列基板;以及所述阵列基板之上的闪烁体。19.一种用于制造用于数字X射线检测器的薄膜晶体管阵列基板的方法,所述方法包含:在基础基板之上提供薄膜晶体管;提供连接至所述薄膜晶体管的下电极;在所述下电极之上提供正-本征-负(PIN)层,提供所述正-本征-负层包含层叠:N型半导体层;本征半导体层;以及P型半导体层;以保护层覆盖所述薄