内容提供者
一种半导体设备腔体内硅部件的自动清洗装置.pdf
2023-12-02
10金币
518KB
12页
含秀****66
实名认证
内容提供者
1/10
2/10
3/10
4/10
5/10
6/10
7/10
8/10
9/10
10/10
亲，该文档总共12页，到这已经超出免费预览范围，如果喜欢就直接下载吧～
相关资料
一种半导体设备腔体内硅部件的自动清洗装置.pdf
本发明公开了一种半导体设备腔体内硅部件的自动清洗装置，包括相连通的上壳体和下壳体，在上壳体中设有抓取机构，在下壳体上部分别设有药液槽和清水槽。在清洗时固定治具与硅部件只有边棱相接触，以最小的接触面积达到清洗目的。药液槽内设有多个固定槽，可同时放置固定治具，提高作业效率；固定槽内有加热棒，保证药液恒温，确保反应速率；抓取机构能够前后左右上下移动将不同位置的固定治具抓取上来，避免人员接触强腐蚀性药液，改善了人员职业健康环境。
2023-12-02
10
518KB
半导体制造装置部件的清洗装置、半导体制造装置部件的清洗方法及半导体制造装置部件的清洗系统.pdf
本发明的目的是提供一种能够通过简单的结构来防止反应生成物附着到清洗处理炉内的半导体制造装置部件的清洗装置，并且提供一种半导体制造装置部件的清洗装置(1)，具备用于收容半导体制造装置部件(10)的清洗处理炉(2)、加热装置(3)、气体导入管(4)、气体排出管(5)、减压装置(6)、第一温度控制装置(7)、第二温度控制装置(8)及吹扫气体供给机构(9)。
2023-06-15
10
911KB
半导体设备蚀刻装置硅电极部件的再生方法.pdf
本发明涉及半导体技术领域。半导体设备蚀刻装置硅电极部件的再生方法，包括如下步骤：步骤(1)，干冰喷砂；步骤(2)，热水浸泡；步骤(3)，有机溶液浸泡，纯水冲洗去除残留药液；有机溶剂为选自乙醇、异丙醇、丙酮中的至少一种；步骤(4)，混合酸溶液刻蚀，纯水冲洗去除残留药液；步骤(5)，碱溶液刻蚀，纯水冲洗；步骤(6)，超声波清洗。通过该方法，快速去除硅电极表面的沉积膜层，去除沉积膜层后裸露的硅基材经受刻蚀时间达到一致，并且硅基材经受刻蚀时间大大缩短，避免了硅基材表面受到不均匀刻蚀而产生不平整或粗糙现象，实现硅电
2023-11-13
10
323KB
一种半导体石英部件清洗设备.pdf
本发明涉及半导体加工设备，公开了一种半导体石英部件清洗设备，包括机架、转动安装于机架上且中心带有升降口的摆放台、设置于机架上且位于摆放台一侧的外管壁清洗装置以及升降设置于机架内且位于升降口下方的内管壁清洗装置，所述内管壁清洗装置包括升降台、安装于升降台上的顶喷头和侧喷头，所述顶喷头的出水方向朝向机架上方，所述侧喷头的出水方向朝向机架侧方，且所述侧喷头分布于顶喷头的两侧；本发明顶喷出水的冲洗方式能够让将石英部件上残留的脏污随水流被带走，从而大大提高石英部件的清洗效果，减少水渍的产生。
2023-11-07
10
496KB
一种晶硅切片机自动清洗装置.pdf
本发明属于晶硅切片机的清洗技术领域，公开了一种晶硅切片机的自动清洗装置。该自动清洗装置包括分流清洗组件、左转向轮清洗组件、右转向轮清洗组件、侧面清洗组件、前侧清洗组件和后侧清洗组件。该自动清洗装置无需人工清洗，减少了准备时间和工作量，又提高了设备的自动化程度，减少了设备的外接管路的同时又提升了设备的外观。
2023-08-31
10
520KB