金属加工方法、金属掩模制造方法以及有机EL显示装置制造方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN101988181A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN101988181A(43)申请公布日2011.03.23(21)申请号201010242038.1(22)申请日2010.07.29(30)优先权数据2009-1767942009.07.29JP(71)申请人株式会社日立显示器地址日本千叶县申请人佳能株式会社(72)发明人松馆法治大河原健(74)专利代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038代理人吕林红(51)Int.Cl.C23C14/04(2006.01)H01L51/56(2006.01)权利要求书1页说明书5页附图6页(54)发明名称金属加工方法、金属掩模制造方法以及有机EL显示装置制造方法(57)摘要本发明涉及金属加工方法、金属掩模制造方法以及有机EL显示装置制造方法。其中，在金属板(210)的两面涂布光抗蚀液，形成光抗蚀膜(220、230)(S102)，接着，进行光抗蚀膜的曝光及显像，以残留开孔的部分的光抗蚀膜的方式去除其它的光抗蚀膜(S103)。接着，在形成光抗蚀膜的金属板的两面形成金属薄膜(240、250)(S104)。然后，在去除光抗蚀膜的同时，去除在光抗蚀膜之上形成的金属薄膜(245、255)(S105)。最后，将该金属板浸入蚀刻液，进行蚀刻，在金属板上形成高精度的孔(S106)。CN1098ACN101988181A权利要求书1/1页1.一种加工金属表面的金属加工方法，其特征在于，包括以下步骤：光刻步骤，以在进行上述金属表面的加工的部分上残留光抗蚀膜的方式形成上述光抗蚀膜；金属薄膜形成步骤，在上述光刻步骤中形成的上述光抗蚀膜上、以及没有形成上述光抗蚀膜的上述金属表面上，形成上述金属薄膜；抗蚀金属薄膜去除步骤，与上述光抗蚀膜一起，去除在上述光抗蚀膜上形成的上述金属薄膜；以及蚀刻步骤，对通过上述抗蚀金属薄膜去除步骤而露出的金属表面进行蚀刻。2.根据权利要求1所述的金属加工方法，其特征在于，具有上述金属表面的金属的形状是板状，从上述板状的金属的表和里两面进行加工。3.根据权利要求1所述的金属加工方法，其特征在于，上述蚀刻步骤是在具有上述金属表面的金属上形成贯通孔的步骤。4.根据权利要求1所述的金属加工方法，其特征在于，上述抗蚀薄膜去除步骤通过使上述光抗蚀膜膨胀而进行。5.根据权利要求1所述的金属加工方法，其特征在于，具有上述金属表面的金属是以铁为主成分的合金。6.根据权利要求1所述的金属加工方法，其特征在于，形成上述金属薄膜的金属是钛以及镍中的任意一种。7.根据权利要求1所述的金属加工方法，其特征在于，上述金属薄膜是利用真空蒸镀法以及溅射法中的任意一种而形成的。8.根据权利要求1所述的金属加工方法，其特征在于，在上述蚀刻步骤之后，还具有去除金属薄膜的金属薄膜去除步骤。9.一种金属掩模制造方法，其特征在于，具备：制备成为金属掩模的基材的金属板的步骤；以及通过权利要求1～8中任意一项记载的金属加工方法，加工上述金属板的步骤。10.一种有机EL显示装置制造方法，其特征在于，具备：制备成为金属掩模的基材的金属板的步骤；通过权利要求1～8中任意一项记载的金属加工方法，加工上述金属板，制造金属掩模的步骤；以及使用上述制造的金属掩模，在玻璃基板上，蒸镀作为发光体的有机EL层的有机EL层蒸镀步骤。2CN101988181A说明书1/5页金属加工方法、金属掩模制造方法以及有机EL显示装置制造方法技术领域[0001]本发明涉及金属加工方法、以及使用该金属加工方法的金属掩模制造方法和有机EL面板制造方法，更详细地说，涉及加工金属表面的金属加工方法、使用该金属加工方法的金属掩模制造方法以及使用该金属加工方法的有机EL显示装置的制造方法。背景技术[0002]近年来，使用被称为有机EL元件(OLED：OrganicLightEmittingDiode)的自发光体的图像显示装置(以下，称为“有机EL显示装置”)处于实用化阶段。该有机EL显示装置与以往的液晶显示装置比较，由于采用了自发光体，所以不仅是在视觉效果、响应速度这些点上有优势，还不需要背光这样的辅助照明装置，因此可以进一步的薄型化、省电化。[0003]作为该有机EL显示装置的像素排列的自发光体的低分子有机EL层，由RGB的各发光层构成，他们一般是利用真空蒸镀法在玻璃基板上形成膜(参照日本特开2003-68456公报)。这里，所形成的有机EL层，直接影响到显示画面的精细度，所以从有机EL显示装置的高分辨率化的观点以及有机EL显示装置的制造方法中的成品率改善的观点来看，稳定且高精度地形成该有机EL层，对于有机EL显示装置的制造而言成为重要的要素。[0004]为了进行高精度的真空蒸镀，以高精度地加工真空蒸镀所使用的金属掩