用于精细玻璃基板镀膜前处理的抛光组合物.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102061133A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102061133A(43)申请公布日2011.05.18(21)申请号201010576406.6(22)申请日2011.01.25(71)申请人江苏海迅实业集团股份有限公司地址226600江苏省南通市海安县开发区东海大道（东）18号(72)发明人仲跻和李薇薇(74)专利代理机构南京众联专利代理有限公司32206代理人卢霞(51)Int.Cl.C09G1/02(2006.01)权利要求书1页说明书5页附图2页(54)发明名称用于精细玻璃基板镀膜前处理的抛光组合物(57)摘要本发明提供了一种用于精细玻璃基板镀膜前处理的抛光组合物，其特征在于，按照重量百分比包括：二氧化硅磨料30-40wt%、有机碱0.01-5wt%、复合表面活性剂0.01-0.5wt%、切水剂0.01-0.5wt%，余量为去离子水。本发明具有如下技术效果：在不同的抛光参数条件下对精细玻璃基板进行抛光可有效去除精细玻璃基板表面吸附的灰尘、油渍等，避免了传统氧化铈抛光后磨料粒子的残留给后期玻璃镀膜工艺中造成的膜层附着力不好的影响，抛光组合物中的磨料及抛光产物可快速脱离精细玻璃基板表面,形成洁净表面，可直接用于镀膜，提高了生产效率，经检测膜层的附着力，临界载荷为10N以上，附着力较好。CN10263ACCNN110206113302061138A权利要求书1/1页1.用于精细玻璃基板镀膜前处理的抛光组合物，其特征在于，按照重量百分比包括：二氧化硅磨料30-40wt%、有机碱0.01-5wt%、复合表面活性剂0.01-0.5wt%、切水剂0.01-0.5wt%，余量为去离子水；其中，所说的磨料为粒径100-180nm、浓度为30-50wt%的二氧化硅溶胶；所说的有机碱性选自季铵强碱、二胺碱和醇胺碱中的一种或多种；所说的复合表面活性选自十二烷基二甲基胺乙内酯、失水山梨醇聚氧乙烯醚酯或嵌段聚氧乙烯-聚氧丙烯醚中的一种或多种；所说的切水剂选自3-甲氧基-3甲基-1-丁醇、3-甲氧基-2甲基-1-戊醇、二乙二醇丁醚、二乙二醇单甲醚中的一种或多种。2.根据权利要求1所述的用于精细玻璃基板镀膜前处理的抛光组合物，其特征在于，所说的复合表面活性选自十二烷基二甲基胺乙内酯和失水山梨醇聚氧乙烯醚酯，两者重量百分比为1：1。3.根据权利要求1所述的用于精细玻璃基板镀膜前处理的抛光组合物，其特征在于，所说的复合表面活性选自十二烷基二甲基胺乙内酯和失水山梨醇聚氧乙烯醚酯，两者重量百分比为1：2.5。4.根据权利要求1所述的用于精细玻璃基板镀膜前处理的抛光组合物，其特征在于，所说的复合表面活性选自十二烷基二甲基胺乙内酯和嵌段聚氧乙烯-聚氧丙烯醚，两者重量百分比为1:5。5.根据权利要求1所述的用于精细玻璃基板镀膜前处理的抛光组合物，其特征在于，所说的复合表面活性选自十二烷基二甲基胺乙内酯和嵌段聚氧乙烯-聚氧丙烯醚，两者重量百分比为1:2。6.根据权利要求1所述的用于精细玻璃基板镀膜前处理的抛光组合物，其特征在于，所说的去离子水的电导率为5-10uc/cm。2CCNN110206113302061138A说明书1/5页用于精细玻璃基板镀膜前处理的抛光组合物技术领域[0001]本发明涉及一种精细玻璃基板镀膜前处理用组合物，具体地说，涉及一种镀膜前处理工艺中的抛光组合物。背景技术[0002]随着科学技术的发展进步，各种光学仪器如航空摄影，紫外与红外光谱仪器、数码相机、太阳能薄膜技术发展对光学玻璃的性能提出了更高的要求。真空镀膜已经成为材料表面改性的一个极其重要的方面，是玻璃深加工的主要手段之一。通过在精细玻璃基板上完成各种金属、介质材料的镀膜，以及对膜层设计工艺过程等可以赋予玻璃不同的用途，如用做平板电视、显示器等终端显示设备，移动通讯领域的触摸屏等。[0003]由于各种新品种光学玻璃在加工或使用性能上或多或少地存在着缺陷，因此在研究扩展光学玻璃领域的同时，还针对改善各种新品种光学玻璃的物理和物理化学性质，以及生产工艺进行了许多工作。在玻璃基片上沉积大面积各种功能的膜层已经形成巨大的产业化规模，但是，我国镀膜玻璃的膜层质量与进口产品相比有着一定的差距，尤其在膜层的附着力方面。[0004]针孔是影响膜层附着力的主要因素之一，针孔产生的原因有：(1)在带镀的基片上存在粉尘颗粒，颗粒的存在阻挡了膜材的沉积；(2)在基片上存在油渍或其他严重影响膜层与基片结合力的污渍。[0005]为了避免上述情况，同时提高膜层的附着力，玻璃镀膜前要进行一系列的前处理的工作。根据不同的用途，先用氧化铈抛光液对玻璃基板进行抛光，然后超声清洗。但是抛光过程中氧化铈颗粒会嵌入到玻璃基板上，在后续清洗中不能完全去除，严重影响镀膜玻