线扫描装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102188775A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102188775A(43)申请公布日2011.09.21(21)申请号201010537488.3(22)申请日2010.11.05(30)优先权数据057639/20102010.03.15JP(71)申请人住友重机械工业株式会社地址日本东京都(72)发明人井上淳一(74)专利代理机构永新专利商标代理有限公司72002代理人夏斌陈萍(51)Int.Cl.A61N5/10(2006.01)权利要求书1页说明书6页附图8页(54)发明名称线扫描装置(57)摘要本发明的目的在于提供一种可以谋求可靠性提高的线扫描装置。本发明具备：照射喷嘴(2)，照射线扫描射束；照射位置传感器(11)，检测线扫描射束的照射位置；运算处理电路部(13)，测定在照射位置传感器(11)检测出的照射位置的线扫描射束的停留时间；照射控制部(14)，利用照射位置传感器(11)检测出的照射位置和运算处理电路部(13)测定出的停留时间，对线扫描射束进行扫描控制。根据该线扫描装置(1)，利用线扫描射束的照射位置及与该照射位置对应的停留时间，对线扫描射束进行扫描控制，由此可以更可靠地防止射束向错误位置的照射或过量照射，从而可以实现线扫描装置的可靠性的提高。CN102875ACN102188775A权利要求书1/1页1.一种线扫描装置，其特征在于，具备：射束照射机构，照射线扫描射束；照射位置检测机构，检测所述线扫描射束的照射位置；停留时间测定机构，测定在所述照射位置检测机构检测出的所述照射位置的所述线扫描射束的停留时间；以及扫描控制机构，利用所述照射位置检测机构检测出的所述照射位置和所述停留时间测定机构测定出的所述停留时间，对所述线扫描射束进行扫描控制。2.如权利要求1所述的线扫描装置，其特征在于，还具备联锁控制机构，所述联锁控制机构利用所述照射位置检测机构检测出的所述照射位置和所述停留时间测定机构测定出的所述停留时间，进行联锁控制。3.如权利要求1或权利要求2所述的线扫描装置，其特征在于，所述扫描控制机构利用所述照射位置检测机构检测出的所述照射位置和所述停留时间测定机构测定出的所述停留时间，对所述线扫描射束的扫描进行反馈控制。2CN102188775A说明书1/6页线扫描装置技术领域[0001]本发明涉及一种对线扫描射束进行扫描控制的线扫描装置。背景技术[0002]以往，作为有关该领域的技术文献，公知有日本特开2009-243891号公报。在该公报中记载的带电粒子束照射装置具备用于扫描带电粒子束的扫描电磁铁、对扫描电磁铁的动作进行控制的控制装置、以及检测射束的位置的监控器，沿着设定在照射对象的照射场的照射线，边扫描带电粒子束边进行连续照射。[0003]专利文献1：日本特开2009-243891号公报[0004]然而，在如上述的照射装置中，需要避免带电粒子束照射到照射场以外部位的情况或过量照射到相同部位的情况。因此，要求可高精度控制带电粒子束的高可靠性的照射装置。发明内容[0005]因此，本发明是鉴于这种情况而完成的，其目的在于提供一种可以谋求可靠性提高的线扫描装置。[0006]本发明的特征在于，具备：射束照射机构，照射线扫描射束；照射位置检测机构，检测线扫描射束的照射位置；停留时间测定机构，测定在照射位置检测机构检测出的照射位置的线扫描射束的停留时间；扫描控制机构，利用照射位置检测机构检测出的照射位置和停留时间测定机构测定出的停留时间，对线扫描射束进行扫描控制。[0007]根据本发明所涉及的线扫描装置，检测线扫描射束的照射位置的同时，测定与该照射位置对应的停留时间，并利用这些结果对线扫描射束进行扫描控制，由此可以更可靠地防止线扫描射束向错误位置的照射或过量照射，从而可以谋求线扫描装置的可靠性的提高。[0008]在本发明所涉及的线扫描装置中，优选还具备联锁控制机构，该联锁控制机构利用照射位置检测机构检测出的照射位置和停留时间测定机构测定出的停留时间，进行联锁控制。[0009]这时，当线扫描射束照射到错误位置或超过预定时间而过量照射时，通过进行使线扫描射束停止照射的联锁控制，可以防止线扫描射束的错误照射。[0010]并且，在本发明所涉及的线扫描装置中，优选扫描控制机构利用照射位置检测机构检测出的照射位置和停留时间测定机构测定出的停留时间，对线扫描射束的扫描进行反馈控制。[0011]这时，通过反馈控制实现线扫描射束的高精度的扫描控制，从而可以谋求线扫描装置的可靠性的提高。[0012]发明效果[0013]根据本发明，可以谋求可靠性的提高。3CN102188775A说明书2/6页附图说明[0014]图1是表示本发明所涉及的线扫描装置的一实施方式的结构图。[0015]图2是用